Nồng độ chất tương hợp tới hạn

Một phần của tài liệu Nghiên cứu công nghệ xử lý photoresist phế thải (Trang 37 - 38)

Nghiên cứu về hệ blend của 2 polyme với 1 copolyme Mathos (1993) chỉ ra rằng nồng độ tới hạn của tác nhân bề mặt liên quan trực tiếp tới bề mặt liên diện của pha phân tán, như vậy liên quan tới bão hòa bề mặt. Cấu trúc hóa học có vai trò quan trọng trong khả năng huyền phù hóa của copolyme. Nhiều copolyme khối hoặc ghép được chọn sao cho đoạn của nó đồng nhất với các đoạn của homopolyme, hay các khối có thể khác nhau về hóa tính nhưng có khả năng trộn hợp với homopolyme khác.

Lượng của tác nhân bề mặt cần thiết để bão hòa bề mặt wRcrR có liên quan tới MRwR

của nó, tới tổng diện tích bề mặt của liên diện và diện tích tiết diện đặc trưng của copolyme đại phân tử (kí hiệu là a). Paul và Newman (1978) giả thiết tương quan sau cho lượng copolyme cần thiết để bão hòa liên diện:

wRcrR=3фMRwR/(RaNRAvR) (2.11)

Trong đó: ф tỷ lệ thể tích của pha phân tán, R bán kính của giọt phân tán, NRAvR số Avogadro.

Tác giả cũng dự đoán rằng một diblock polyme có a ≥ 5 nmP

2

P

. Tương tự như vậy, Mathos (1983) phát triển p/t cho lượng copolyme tối thiểu cần để che phủ bề mặt của hạt hình cầu. Mô hình được xây dựng trên cơ sở chia nhỏ lớp vỏ (shell) ngoài bao quanh hạt, thành các phần tử giả lập phương (pseudo-cubic), chứa khối định hướng ngẫu nhiên của diblock copolyme:

𝑤𝑐𝑡 =9(3∅/𝑅)(𝑀𝐴+𝑀𝐵)

[𝑁𝐴𝑣〈𝑟2〉] = 3∅𝑀𝑤/[𝑅𝑁𝐴𝑣〈𝑟2〉/9] (2.12)

Trong đó: MRAR và MRBR là khối lượng phân tử của khối A và B, MRAR+ MRBR=MRwR và rP

2

PRRlà diện tích của khoảng cách end-to-end của chuỗi copolyme. Do rP

2

Ptỷ lệ với MRwR, tương quan trên phụ thuộc vào tỷ số A/B hơn là MRwR. P/t (2.11) và (2.12) là xác định nếu (a=rP

2

P

/9). Mật độ của khối A quanh hạt được xác định bằng p/t:

𝜌𝐴 = 35/2𝑀𝐴/[𝑁𝐴𝑣〈𝑟2〉3/2] (2.13)

Trong trường hợp chung nhất, bán cầu của giọt chứa chuỗi A của nền (matrix) và copolyme tỷ lệ với MRwR nên mật độ đoạn mạch cần tỷ lệ với MRARP

-0.5

P

. Rõ ràng với chuỗi copolyme dài, mật độ đoạn mạch sẽ có xu hướng tiến tới 0 và điều đó đưa đến phân bổ cao hơn của chuỗi A.

Một phần của tài liệu Nghiên cứu công nghệ xử lý photoresist phế thải (Trang 37 - 38)

Tải bản đầy đủ (PDF)

(197 trang)