Tạo điều kiện thực hiện xử lý PR bằng cách tái chế tạo blend polyme

Một phần của tài liệu nghiên cứu tái chế photoresist phế thải làm phụ gia biến tính cao su nhựa kỹ thuật (Trang 106)

5 Tiến độ và trình bày báo cáo

4.2.2 Tạo điều kiện thực hiện xử lý PR bằng cách tái chế tạo blend polyme

Đề nghị tạo điều kiện (có thể là tình thế) cho việc ứng dụng tái chế PR bằng cách tạo blend thông qua một hành lang pháp lý, và trợ giúp về tài chính.

TÀI LIỆU THAM KHẢO

[1] Anastasiadis, S. J., Gancarz, I. and Koberstain, J. T., Macromolecules. 22, 1449 (1989)

[2] Andrew Ciesielski. An Introduction to Rubber Technology. Rapra Technology Limited (1999)

[3] Andrzej Baranski. Chemia fizyczna- PWN (NXB Khoa học Quốc gia) (1980)

[4] Asahi Kasei. Printed Circuit Material, Asahi Kasei EMD DFR Sunfort – Technical data (2009)

[5] Auschra, C., Stadler, R., and Voigt-Martin, I. G., Polymer. 34, 2085-2094 (1993) [6] B. Laczynski. Tworzywa Wielkoczasteczkowe Rodzaj I Wlasnosci -WNT (NXB Khoa học Kỹ thuật) (1982)

[7] B. R. Epstein, A. A. Lantham et al. Elastomeries. 119 (10). 10 (1987)

[8] BASF Construction Chemicals. Acryl–set liquid polymer. Liquid acrylic polymer bonding additives. Product data, www.BuildingSystems.BASF.com (2007)

[9] Bộ TNMT, Tổng cục Môi trường, Công văn số 1645/TCMT-QLCT&CTMT ngày 01/10/2009 về việc góp ý dự thảo Thông tư hướng dẫn về quản lý chất thải nguy hại (2009)

[10] Boris Livshits, Ofer Tehar-Zahav, Eli Iskevitch. Laser, dry and plasmaless, photoresist removal. Menachem Genut, Oramir Semiconductor Equipment Ltd., Haifa, Israel (1997)

[11] Brendan Rodgers. Rubber Compounding- Chemistry and Application. Marcel Dekker, Inc. (2004)

[12] Brian D. Knutson. The Use of Supercritical Carbon Dioxide-Based Solvents as a Cost Effective and Environmentally Sound Alternative to Current Photoresist

Stripping Solvents. University of Wisconsin-Stout (2003)

[13] C. A. Staples, et. al., . Determination of selected fate and aquatic toxicity

characteristic of acrylic acid and a series of acrylic esters. Chemosphere 40, p. 29-38 (2000)

[14] C. Beaty. Paper presented at ACS Annual Meeting. New York (1992)

[15] C. E. Scott and C. W. Mascasko. Reactive Processing International Polymer Processing Expo. (1995)

[16] C. H. Cimino, F. Capalla, et al. Polymer. 27, 1874 (1985) [17] C. H. Han. Advances in Chemicl Series. No. 206. 171

[18] Callahan, B. andP. A. McCaw. Risk assessment alleviate Environmental Liability. Hydrocacbon processing. 61-64 (1993)

[19] Charles A. Wentz. Hazardous waste management. Second edition. Mc Graw-Hill (1995)

[20] Chi cục BVMT tỉnh Bình Dương. Bảng tổng hợp chủ nguồn chất thải nguy hại 6 tháng năm 2009 (với 157 chủ) (2009)

[21] Chi cục BVMT tỉnh Bình Dương. Bảng tổng hợp sổ đăng ký chủ nguồn CTNH năm 2008 (với 288 sổ) (2009)

[22] Chi cục BVMT tỉnh Đồng Nai. Danh sách các đơn vị tham gia vận chuyển, xử lý, tiêu hủy CTNH trên địa bàn tỉnh Đồng Nai đến tháng 9/2009 (2009)

[23] Chi cục BVMT tỉnh Đồng Nai. Phụ lục 1: Thống kê tình hình quản lý chất thải nguy hại đến tháng 9/2009 (2009)

[24] Chi cục BVMT tỉnh Đồng Nai. Thống kê khối lượng chất thải nguy hại của các đơn vị trên địa bàn tỉnh (tính đến tháng 6/2009) (2009)

[25] Clyde F. Commbs, Jr. , Printed Circuites Handbook. Sixth Edition. MacGraw- Hill (2008)

[26] Công ty Cổ phần Môi trường Việt Úc -VINAUSEN. Báo cáo hoàn tất xử lý tiêu huỷ chất thải nhựa cảm quang photoresist (2008)

[27] Công ty Sản phẩm máy tính Fujitsu Việt Nam (FCV). Sổđăng ký chủ nguồn thải chất thải nguy hại. Sở TNMT tỉnh Đồng Nai. Số 116/SDK-TNMT (2009)

[28] Công ty TNHH 01 Thành viên cấp thoát nước-Môi trường (06/2009). Báo cáo quản lý chất thải nguy hại của chủ vận chuyển, xử lý, tiêu hủy trong 6 tháng đầu năm 2009 (2009)

[29] Công ty TNHH sản xuất-Thương mại- Dịch vụ Môi trường Việt Xanh (2009).

Báo cáo quản lý chất thải nguy hại của chủ xử lý, tiêu hủy trong 6 tháng đầu năm 2009 (2009)

[30] Công ty TNHH TM & Xử lý MT Thái Thành. Báo cáo quản lý chất thải nguy hại của chủ vận chuyển trong 6 tháng đầu năm 2009 (2009)

[31] Cor Koning, Martin Van Duin, Christophe Pagnoulle, Robert Jerome. Strategies for compatibilization of polymer blends. Prog. Polym. Sci. , Vol. 23, 707-757 (1998) [32] D. Bulgin, D. L. Walker (to Dunlop Ltd.) Br. 1.061.017 (1965)

[33] D. L. Flamm . Dry Plasma Resist Stripping. Part II, Solid State Technology, pp. 43-48 (1992)

[34] D. Mangaraj. Elastomer blends. Battellle Memorial Institute. Columbus, Ohio (2002)

[35] D. Mangaraj. Proc. Int. Conf. Rubber and Rubber like-Mater. (Calcuta. India) p. 97. (1997)

[36] D. R. Paul, S. Newman. Polymer blends. Vol. 2. Chapter 12 và 13. Acad. Press. NY, LD (1978)

[37] Darlene R. Brezinski. An Infrared Spectroscopy Atlas for the Coatings Industry.

Federation of Societies for Coatings Technology, 4th edition, Vol. 1-2 (1991)

[38] Debmalya Roy, P. K. Basu, S. V. Eswaran. Photoresist for Microlithography. J. Resonance. Vol. 7, Issue 7, pp. 40-53 (2002)

[39] Demirci U. Acoustic picoliter droplets for emerging applications in semiconductor industry and biotechnology. Jurnal of Microelectromechanical Systems. Vol. 15, Issue 4, pp. 957-966(2006)

[40] Demirci U. Picoliter droplets for spinless photoresist deposition. Review of Scientific Instruments. Vol. 76, Issue 6, pp. 1-5 (2005)

[41] Demirci U., Yaralioglu G.G., Hæggstro E., Percin G., Khuri-Yakub. 2D

acoustically actuated micromachined droplet ejector array. Proceedings of the IEEE Ultrasonics Symposium. Vol. 2, pp. 1983-1986 (2003)

[42] Demirci U., Yaralioglu G.G., Hæggstrom E., Khuri-Yakub B.T. Femtoliter to picoliter droplet generation for organic polymer deposition using single reservoir ejector arrays. IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. Vol. 18, Issue 4, pp. 709-715 (2005)

[43] Dieter O.Hummel. Atlas of Polymer and Plastics Analysis. Hanser publishers, third edition, Vol.1 (1991)

[44] Đinh Thế Hiển. Exel ứng dụng – Phân tích hoạt động kinh doanh & Tài chính kế toán. Viện nghiên cứu Tin học & Kinh tếứng dụng. NXB Lao động – Xã hội (2009) [45] Đỗ Hồng Lan Chi. Nghiên cứu đánh giá độc tính một số chất thải điển hình tại Thành phố Hồ Chí Minh và đề xuất các biện pháp kiểm soát chúng. TC phát triển KHCN, tập 8, số 9, Tr. 57 (2005)

[46] Đoàn Thị Ngọc Thuỷ. Nghiên cứu xử lý chất thải photoresist theo công nghệđốt nhiệt phân. Luận án cao học – ĐHBK Tp. Hồ Chí Minh (2003)

[47] Doanh nghiệp tư nhân Mỹ Nga (23/06/2009). Báo cáo về vận chuyển CTNH 06 tháng đầu năm 2009 (2009)

[48] E. Chris Hornaman, Christopher Thomas Hable. Poly(vinyl alcohol) stabilized acrylic polymer modified hydralic cement systems. U.S. Patent 5,753,036 (May 19, 1998)

[49] EPA. Qui trình ngâm chiết xác định độc tính - TCLP Method 1311 (1992)

[50] EPA. Regulatory interpretation regarding photoresist solid (“skin”) generated in the printed circuit board manufacturing industry. RCRA Online Number 11851

(1994). Michael Shapiro, official letter dated July 12, 1994: http://www.pwbrc.org/regs/1994e.htm

[51] Erb Allen Jefferson. Treating photoresist waste. E.P. Patent 0 544 469 A1 (Nov. 20, 1992)

[52] F. Ide and A. Haseagawa. J. Appl. Polyme Sci. Part B. Polym. Phys. 32, 205 (1994)

[53] Fayt, R., Jerome, R. and Teyssi, Ph., Polyme Science, Polyme Physic. 27, 775 (1989)

[54] Flowers, D., Hoggan, E., Carbonell, R., DeSimone, J.M. Designing photoresist systems for CO2 based microlithography. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering. Vol. 4690 I, pp. 419 - 424 (2002)

[55] G. I. Taylor. Proc. Roy. Soc., A138, 41 (1932) [56] G. I. Taylor. Proc. Roy. Soc., A146, 501 (1934)

[57] G. Reiss, J. Kohler, C. Tournut, A. Banderet. Makromol Chem. 101, 58 (1967) 98

[58] Gerspacher M. Dynamic viscoelastic properties of loaded elastomers. In: Donnet JB, Bansal RC, Wang MJ, eds. Carbon Black Science and Technology. New York: Marcel Dekker, 377–387 (1993)

[59] Gessler A. H., Hasset W. H. (to Esso Research & Engineering). U. S. 3.037.954 (1962)

[60] Grigorev A. P., Fedotova, O. A. Thực nghiệm công nghệ chất dẻo. Phần I. NXB ĐH Moscow. Tr. 151 -153 (1977)

[61] Grisham M., Dioxin. Agent Orange: The facts. Plenum, NY (1986)

[62] Han, S., Derksen, J., Chun, J.-H. Extrusion Spin Coating: An Efficient and

Deterministic Photoresist Coating Method in Microlithography. IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. Vol. 17, Issue 1, pp. 12-21 (2005)

[63] Hess, Dennis W. , Levitin, Galit , Myneni, Satya. Using Superciritical and Subcritical CO2 with Additives. Final report. EPA Grant Number: R829554. Georgia Institute of Technology (2004)

[64] Hideharu Mori, Axel H. E., Muler. New polymeric architechtures with (meth)acrylic acid segment. Prog. Polym. Sci., Vol. 28, pp. 1403-1439 (2003) [65] Hideki Nishida, Masamichi Moriya, Itaru Shiiba, and Katsuto Taniguchi.

Chemistry of Photoresist Recycling. SPIE Conference on Advances in Resist Technology and Processing XVI . SPIE Vol. 3678 (1999)

[66] Hirao A, Nakahama S. Anionic living polymerization of functionalized monomers. Acta Polym. Vol. 49, pp. 133–44 (1998)

[67] J. A. Ayla, W. M. Hess, et. al. Rubber Chem. Technol. 64.19 (1992)

[68] J. Noolandi, K. M. Herg. Macromolecules. 17.531 (1984). Polym. Eng. Sci. 24, 70 (1984)

[69] JFE KANKYO, http://www.jfe-kankyo.co.jp (2009)

[70] John W., Strantz Jr., Wilmington. Management of waste solution containing photoresist materials. U.S. Patent 5112491 (May. 12, 1992)

[71] Kalinisa L. C. Phân tích định tính polyme. NXB Hóa học. Moscow (1975) [72] Kim S. I., Lee C. W. Plasma liquid-vapor activation (PLVA) effect of the semiconductor etching process for photoresist residues. Vol. 53, Issue 3 (2008)

[73] Kohei Miki, Hiroshi Saito. Management of photoresist material containing waste solution. U.S. Patent. 4,786,417 (Nov. 22, 1988)

[74] Lê Thị Hường. Kinh tế môi trường. NXB Thống kê (1999)

[75] Lincoln, D., The assessment of risk at Superfund sites. Environmental press, 6 (1987)

[76] Long F. A., and G. E. Schweitzer. Risk assessment at Hazardous site. American Chemical Scociety Symposium Series, Washington, DC (1982)

[77] Mangaraj D. and Heggs R. et al. , Plast. Eng. 44 (6), 29 (1988)

[78] Mani Inder, Peters James. Cement additives comprising a polymer latex

containing a styrene-acrylate-acrylamide interpolymer and a butadiene rubber. U.S. Patent 4,125,504

[79] McAdams, C.L., Flowers, D., Hoggan, E.N., Carbonell, R.G., DeSimone, J.M.

All CO2-processed 157-nm fluoropolymer-containing photoresist systems.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering.Vol. 4345, Issue I, pp.327-334(2001)

[80] Medalia AI. Effect of carbon black on dynamic properties of rubber vulcanizates. Rubber Chem Technol. , 51:437–523 (1978)

[81] MG Chemical. Material data sheet. www.mgchemicals.com (2009)

[82] Michael Kalandiak, Ambler . Dry polymer/ Cement composition. U.S. Patent 3,547,853 (Dec. 15, 1970)

[83] Microelectronic and Computer Technology Corporation (MCC) and The Institute for Interconecting and Packaging Electronic Circuits (IPC). Printed Wiring board Industry and use of cluster profile. US EPA Design for Environmental PWB project. EPA website (2008)

[84] Miki Kohei, Saito Hiroshi. Xử lý chất thải lỏng chứa photoresist. J.P. Patent JP63031591

[85] Miki Kohei, Saito Hiroshi. Xử lý chất thải lỏng chứa photoressist. J.P. Patent JP63178888

[86] Nguyễn Hữu Niếu. Nghiên cứu ứng dụng dầu vỏ hạt điều để chế tạo chất màng. Đề tài cấp bộ. ĐHBB Tp. HCM. TT nghiên cứu vật liệu polyme (2005)

[87] Nguyễn Phước Dân và cộng sự. Đề xuất qui trình xây dựng tiêu chuẩn nước thải công nghiệp dựa trên cơ sởđộc tính toàn phần. TC Phát triển KH&CN, T. 12, Số 6 (2009)

[88] Nguyễn Quốc Bình và cộng sự. Nghiên cứu thu hồi dung môi từ chất thải photoresist. TC Nghiên cứu KHKT& CNQS. Số 24 -9 (2008)

[89] Nguyễn Quốc Bình và cộng sự. Nghiên cứu ứng dụng công nghệđốt nhiệt phân để xử lý chất thải rắn nguy hại tại Tp. HCM. Đề tài cấp thành phố - Sở KHCN Tp. Hồ Chí Minh (2003)

[90] Nguyễn Quốc Bình và cộng sự. Nghiên cứu ứng dụng công nghệđốt nhiệt phân để xử lý chất thải rắn nguy hại tại TP. HCM. Đề tài cấp Thành phố, Tr. 34 (2003) [91] Nguyễn Quốc Bình. Nghiên cứu ứng dụng quá trình nhiệt phân để xử lý thành phần hữu cơ trơ trong chất thải rắn sinh hoạt tại Tp. Hồ Chí Minh theo hướng sản xuất vật liệu. Đề tài cấp thành phố - Sở KHCN Tp. Hồ Chí Minh (2006)

[92] Nguyễn Tấn Bình. Toán tài chính ứng dụng. NXB Thống kê (2009)

[93] Nguyễn Việt Bắc. Nghiên cứu chế tạo vật liệu tổ hợp và blend trên cơ sở cao su epoxy hoá (KHCN 03-18) (2000)

[94] Nguyễn Xuân Hiền. Công nghệ học cao su. TT dạy nghề quận 3, Tp. HCM (1987)

[95] Noolandi J. , and Hong, K. M., Macromolecules. 15, 482 (1982)

[96] OECD. Guidelines for testing of chemical, D. Magna sp. Acute Immobilization Test (1999)

[97] P. Gailard, M Sauter, G. Reiss. Makromol Chem.. Rapid Commin. 1, 711 (1980) [98] P. J. Corrish, M. J. Palmer. Advance in polymer blend. Inst. Rubber Int.

Confference. Laughborough. England (1969)

[99] P. Teysie, R Fayat, và R. Jerome. Polym. Eng. Sci. 27, 328 (1987)

[100] Payne AR, Whitaker RE. Low strain dynamic properties of filled rubbers. Rubber Chem Technol , 44:440–478 (1971)

[101] Percin G. , Khuri-Yakub B.T. Photoresist deposition without spinning. IEEE transactions on Semiconductor Manufacturing.Vol. 16, Issue 3, pp. 452-459 (2003) [102] Percin, G. , Lundgren, T.S., Khuri-Yakub, B.T. Controlled ink-jet printing and deposition of organic polymers and solid particles. Applied Physics Letters. Vol. 73, Issue 16, pp. 2375-2377 (1998)

[103] Phạm Hữu Lý. Tính trộn hợp (miscibility) và tính tương hợp (compatibility)- Những vấn đề nghiên cứu quan trọng nhất của vật liệu blend cao su – polyme. TT Khoa học tự nhiên và Công nghệ quốc gia. Hà Nội (1993)

[104] Phan Minh Báu. Nghiên cứu chế tạo photoresist trên cơ sở polymer được tổng hợp từ nhựa epoxy và acid methacrylic. Luận văn thạc sỹ - ĐHBK Tp. Hồ Chí Minh (2007)

[105] Quản lý dung dịch thải chứa photoresist. U.S. Patent 4,786,417

[106] R. Asaletha, S. Thomas, and H. J. Kumaran. Rubber chem. Technol. 68, 671 (1996)

[107] R. K. Chanara, R. Dwivedi and S. K. Strivastava. Effect of different surfaces on plasma stripping of photoresist. J. Microelectronics. Vol. 22, No 3, pp. 53-57 (1991) [108] R. Kerry Turner, David Pearce, Ian Batemen. Kinh tế môi trường. TT nghiên cứu Phát triển quốc tế (IDRC) (2002)

[109] R. T. Sikorki. Technologii polymerow - PWN (podstawy chemi I) (1985) [110] Rober M. Evans. Cementitous Composition containing acrylic ester polymer. U.S. Patent 3,196,122 (July 20, 1965)

[111] Sartomer Company. (Meth)Acrylate Functional Monomers. Part II - Additives for Enhanced Composite Performance Without Mold Sticking. Satomer Application bulletin (2004)

[112] Shull, K. R., Kramer, E. J., Hadziioannou, G. and Tang, W., Macromolecules.23, 4780 (1990)

[113] Sở TNMT tỉnh Bình Dương (27/7/2009). Báo cáo Quản lý Chất thải nguy hại 6 tháng đầu năm 2009 (2009)

[114] Sở TNMT tỉnh Đồng Nai - Công ty Sản phẩm Máy tính Fujitsu Việt Nam (FCV). Sổđăng ký quản lý Chủ nguồn thải chất thải nguy hại. Hồ sơ (2009)

[115] Sở TNMT tỉnh Đồng Nai. Báo cáo tình hình thực hiện các chỉ tiêu về môi trường theo Nghị quyết của Hội đồng nhân dân tỉnh Đồng Nai (2009)

[116] Sở TNMT Tp. HCM, Phòng Quản lý CTR. Báo cáo Quản lý Chất thải nguy hại 6 tháng đầu năm 2009 (2009)

[117] Sở TNMT Tp. HCM. Danh sách các đơn vị có chức năng thu gom, vận chuyển CTNH do Sở TNMT thành phố cấp phép (2009)

[118] Sở TNMT Tp. HCM. Danh sách các đơn vị có chức năng thu gom, vận chuyển, xử lý, tiêu hủy CTNH do Bộ Tài nguyên và môi trường cấp phép (2009)

[119] Sở TNMT Tp. HCM. Danh sách các đơn vị có chức năng xử lý, tiêu hủy CTNH do Sở TNMT thành phố cấp phép (2009)

[120] Sugawara Hiroshi, Henmi Hiromi. Phương pháp xử lý phục hồi dịch hiện ảnh chứa phế thải photoresist (waste photoresist developing solution). J.P. Patent

JP2004226989

[121] Sugawara Hiroshi (JP). Quá trình và thiết bị dùng thu hồi thuốc hiện từ chất thải thuốc hiện photoresist và tái sử dụng. U.S. Patent US2001003481

[122] Sugawara Hiroshi. Xử lý chất thải lỏng hiện hình photoreisst. J.P. Patent JP2001017965

[123] Tager A. Physical Chemistry of Polymers. Mir Publisher. Moscow (1978) [124] Tajima Yoshinobu, Sugawar Hiroshi. Phương pháp thu hồi thuốc hiện từ dung dịch thải chứa photoresist. J.P. Patent JP2003215810

[125] Trần Việt Toàn. Tổng hợp polyme cảm quang trên cơ sở nhựa poliurethan acrylat. Luận văn thạc sỹ - ĐHBK Tp. Hồ Chí Minh (2006)

[126] UBND tỉnh Bình Dương, Sở TNMT tỉnh Bình Dương. Các văn bản pháp luật về quản lý chất thải nguy hại & Nhập khẩu phế liệu (2007)

[127] UBND tỉnh Bình Dương, Sở TNMT tỉnh Bình Dương. SổĐăng ký quản lý chủ nguồn thải CTNH của Công ty TNHH FAB-9 Việt Nam (2008)

[128] UBND tỉnh Bình Dương, Sở TNMT tỉnh Bình Dương. SổĐăng ký quản lý chủ nguồn thải CTNH của Công ty TNHH VECTOR FABRICATION (VN) (2008)

[129] Utracki. L. A. Polymer blends Handbook. Kluwer Academic Publishers. Vol. 1, 2 (2002)

[130] Viện KTNĐ & BVMT. Tài liệu thu thập photoresis phế thải trên địa bàn Tp. HCM trong 6 tháng đầu năm 2009 qua các báo cáo từ các đơn vị thu gom, vận chuyển, xử lý, tiêu hủy CTNH và các Sổđăng ký chủ nguồn thải CTNH trên địa bàn Tp.HCM từ Phòng Quản lý CTR (2009)

[131] Võ Hồ Ngọc Nhung. Tổng hợp polyme cảm quang trên cơ sở nhựa epoxy DR- 331. Luận văn thạc sỹ - ĐHBK Tp. Hồ Chí Minh (2006)

[132] Võ Thanh Hiếu. Nghiên cứu công nghệ xử lý nước thải sản xuất board mạch điện tử và đề xuất phương án thu hồi đồng oxit công ty Fujitsu. Luận án cao học – ĐHBK Tp. Hồ Chí Minh (2005)

[133] Vương Quang Việt và cộng sự. Blend cao su thiên nhiên và nhựa cảm quang phế thải. TC KHCN QS. Số 5, tháng 2, Tr. 60-64 (2010)

[134] Vương Quang Việt và cộng sự. Nghiên cứu thành phần, tính chất và ảnh hưởng của photoresist phế thải tới môi trường. TC KHCN QS. Tháng 9, Tr. 48 -54 (2010) [135] Vương Quang Việt và cộng sự. Ổn định và đóng rắn chất thải nguy hại bằng cách tạo blend polyme – Hướng đi trong tái chế chất thải. Kỷ yếu Hội nghị KHCN lần thứ 11. Tr. 108 – 113. ĐHBK - ĐHQG Tp. Hồ Chí Minh (2009)

[136] Vương Quang Việt và cộng sự. Tái chế nhựa cảm quang bằng cách tạo blend với cao su nitril. TC Nghiên cứu KHCN QS. Số 8, tháng 8, Tr. 73-78 (2010)

[137] W. A. Whitaker III. Acrylic polymers: A Clear focus. The University of

Southern Mississippi, http://www.devicelink.com/mpb/archive (2008) (Nov. 14, 1978) [138] Wampler WA, Gerspacher M, Yang HH. Carbon black’s role in compound curing behavior. Rubber World, 210(1):39–43 (1994)

[139] Will Conley (Editor). Advances in Resist Technology and Processing XVI, Proceedings of SPIE. Vol. 3678, pp. 651-657 (1999)

[140] William J. Librizzi, Jr., Chair, . Hazardous waste treatment processes. Second edition. (1999)

PHỤ LỤC

Phụ lục mục 3.5 (Tính kinh tế môi trường)

Bảng 1 Bảng giá nguyên vật liệu

NgLiệu(NR) Đơn giá/tấn NgLiệu(NBR) Đơn giá/tấn

NR 55,000,000 NBR 60,000,000

Than đen 23,000,000 Than đen 23,000,000

Acid Stearic 6,500,000 Acid Stearic 6,500,000

ZnO 30,000,000 ZnO 30,000,000 Xúc tiến MBT 60,000,000 Xúc tiến MBT 60,000,000 Xúc tiến DM 60,000,000 Xúc tiến DM 60,000,000 Xúc tiến TMTD 60,000,000 Xúc tiến TMTD 60,000,000 Phòng lão 90,000,000 Phòng lão 90,000,000

Lưu huỳnh 7,000,000 Lưu huỳnh 7,000,000 PR khô

(70%) -26,666,667 PR khô (70%) -26,666,667

CSTNgAM 70,000,000 Dầu điều 15,000,000

Bảng 2 Chi tiết tính cho 1 tấn sản phẩm blend

Đơn vị tính tấn Thành phần Blend NR Giá trị Blend NBR Giá trị Caosu 1 55,000,000 1 60,000,000 Bột than 0.3 6,900,000 0.2 4,600,000 Stearic axít 0.03 195,000 0.03 195,000 ZnO 0.05 1,500,000 0.05 1,500,000 Xúc tiến MBT 0.01 600,000 0.005 300,000 Xúc tiến DM (trung bình) 0.015 900,000 0.005 300,000 Xúc tiến TMTD (nhanh) 0.008 480,000 0.003 180,000 Phòng lão D và 4020 0.015 1,350,000 0.015 1,350,000 Lưu huỳnh 0.025 175,000 0.015 105,000 Nhựa photoresist 0.2 -5,333,333 0.2 -5,333,333 CSTNgAM/Dầu điều 0.05 3,500,000 0.04 600,000 Tổng 1.703 65,266,667 1.563 63,796,667 Đơn gía (VND)/tấn 38,324,525 40,816,805 104

Bảng 3Biến phí cho sản xuất trong tháng ứng với các năng suất khác nhau

CHI PHÍ SẢN XUẤT CHO 8 TẤN/SP/tháng

Số lượng Đơn giá Giá trị

Blend NR 4 38,324,525 153,298,101 Blend NBR 4 40,816,805 163,267,221 Công nhân 6 4,000,000 24,000,000 Kỹ sư 1 8,000,000 8,000,000 Điện nước 7800 1,500 11,700,000 Chi khác/tháng 9,000,000 9,000,000 Thuê nhà xưởng 35,000,000 35,000,000 404,265,323 CHI PHÍ SẢN XUẤT CHO 10 TẤN/SP/tháng

Số lượng Đơn giá Giá trị

Blend NR 5 38,324,525 191,622,627 Blend NBR 5 40,816,805 204,084,026 Công nhân 6 4,000,000 24,000,000 Kỹ sư 1 8,000,000 8,000,000 Điện nước 7800 1,500 11,700,000 Chi khác/tháng 9,000,000 9,000,000 Thuê nhà xưởng 35,000,000 35,000,000 483,406,653 CHI PHÍ SẢN XUẤT CHO 12 TẤN/SP/tháng

Số lượng Đơn giá Giá trị

Blend NR 6 38,324,525 229,947,152 Blend NBR 6 40,816,805 244,900,832 Công nhân 7 4,000,000 28,000,000 Kỹ sư 1 8,000,000 8,000,000 Điện nước 7800 1,500 11,700,000 Chi khác/tháng 12,000,000 12,000,000 Thuê nhà xưởng 15,000,000 35,000,000 569,547,984 Giá bán sản phẩm blend NR là: 50,000,000 VND/tấn Giá bán sản phẩm blend NBR là: 75,000,000 VND/tấn

Giá bán sản phẩm trung bình (tỷ lệ blend NR/NBR 50/50) là: 62,500,000 VND/tấn

Thuế lợi tức 30%

Tỷ suất chiết khấu NPV = 12%

107

Bảng 4Doanh thu của cơ sở qua các năm

DOANH THU (triệu VND) Năm dự án Năm 1 Năm 2 Năm 3 Năm 4 Năm 5 Năm 6 Năm 7 Tỷ lệ sản lượng tiêu thụ % 80% 80% 100% 100% 120% 120% 120% Tiêu thụ s/p tấn/tháng 8 8 10 10 12 12 12

Một phần của tài liệu nghiên cứu tái chế photoresist phế thải làm phụ gia biến tính cao su nhựa kỹ thuật (Trang 106)