Kết quả xác định diện tích bề mặt riêng và phân bố mao quản của chất mang (C* và C*xl) và xúc tác (PC-50/C và PC-50/Cxl) được trình bày trong bảng 3.7.
Bảng 3.7. Diện tích bề mặt riêng và thể tích mao quản của chất mang và xúc tác trước và sau quá trình xử lý HNO3
Đặc trưng Chất mang Xúc tác C* C*xl PC-50/C PC-50/Cxl
Diện tích bề mặt riêng theo Langmuir, (m2/g) 886 971 839 920
Thể tích mao quản, (cm3/g) 0,32 0,39 0,30 0,36
Kích thước mao quản tập trung, (Å) 6 6 6 6
Bảng 3.7 cho thấy, quá trình xử lý bề mặt C* bằng axit HNO3 0,5M đã làm tăng diện tích bề mặt riêng của vật liệu 10% (từ 886m2/g lên 971m2/g). Điều này chứng tỏ, quá trình xử lý C* bằng axit đã giúp hịa tan và loại bỏ các tạp chất trên bề mặt như các oxit kim loại, các nhĩm chức chứa oxy, …. dẫn tới làm tăng thể tích mao quản 20% (từ 0,32cm3/g (C*) lên 0,39cm3/g (C*xl)) và tăng diện tích bề mặt riêng của vật liệu.
Với các mẫu Pd-Cu/C* và Pd-Cu/C*xl, diện tích bề mặt riêng của các mẫu xúc tác giảm khoảng 5% so với các chất mang tương ứng ban đầu. Hiện tượng giảm diện tích bề mặt riêng này là do các kim loại Pd và Cu khi đưa lên trên bề mặt chất mang, đã che lấp một phần mao quản, dẫn đến giảm thể tích lỗ xốp của vật liệu (khoảng 10%) so với chất mang ban đầu.
Mặc dù thể tích mao quản và diện tích bề mặt riêng của xúc tác giảm, đường kính mao quản tập trung của chất mang và xúc tác vẫn khơng thay đổi, duy trì ở 6Å. Đĩ là do quá trình xử lý C* bằng axit HNO3 0,5M chỉ là quá trình làm sạch những nhĩm chức trong các mao quản lớn và trên bề mặt ngồi chất mang, khơng làm thay đổi nhiều số lượng cũng như đường kính mao quản của xúc tác.