- Hệ thống can nhiệt ựể kiểm tra chế ựộ nhiệt trong quá trình xử lý nhiệt chi tiết Vật liệu chịu nhiệt và cách nhiệt cho thực hiện quy trình công nghệ
4.1.1.1.Vật liệu hàn
b. Các biện pháp công nghệ giảm ứng suất, thực hiện sau khi hàn
4.1.1.1.Vật liệu hàn
Công nghệ hàn bột Plasma sử dụng với bột kim loại khác nhau như vật liệu phụ: chrome cacbua, cacbua vonfram, nickel và bột cobalt... Việc sử dụng các loại vật liệu dạng bột trong hàn Plasma ựể làm cứng bề mặt chi tiết, tăng ựộ bền, ựộ cứng cũng như chịu mài mòn của những bộ phận làm việc trong những ựiều kiện khắc nghiệt. Chắnh vì vậy, việc lựa chọn thành phần cũng như cơ tắnh của các loại bột hàn là hết sức cần thiết. Hình 4-1: Hợp kim cobalt 263-3 Bảng 4-1: Thành phần, cỡ hạt và tỷ trọng bột Co 263-3 Mác bột Thành phần hóa học (%) Cỡ hạt (ộm) Tỷ trọng (g/cm3) HRC Cr Ni W Mn Si Co CoCrNiWSi (Co 263-3) 29,0 10,0 7,0 0,7 0,75 Rem 45+15 4,4 49 - 57 4.1.1.2. Khắ tạo plasma
Trong quá trình thực nghiệm tác giả ựã sử dụng khắ tạo plasma là khắ Heli (He). Khắ He cũng là một lọai khắ trơ, phân tử chỉ chứa một nguyên tử, có trọng lượng riêng khoảng bằng 1/10 so với khắ Ar, ựược triết suất từ khắ quyển.Khắ He có nhiệt ựộ hoá lỏng rất thấp (-272 oC), thường ựược chứa trong các bình áp suất caọ He có tắnh dẫn ựiện cao, do ựó ựòi hỏi ựiện áp hồ quang hàn phải lớn hơn so với khi sử dụng khắ Ar va thường dùng ựể hàn các vật liệu có ựộ dẫn ựiện cao hoặc nhiệt ựộ
Học viện Nông nghiệp Việt Nam Ờ Luận văn Thạc sỹ Khoa học Kỹ thuật Page 61 nóng chảy caọ Khắ He tạo hồ quang rất ổn ựịnh khi sử dụng dòng ựiện hàn một chiều (DC) nhưng tắnh ổn ựịnh hồ quang và tác dụng làm sạch khi sử dụng dòng ựiện hàn xoay chiều (AC) là tương ựối thấp.
Lưu lượng khắ 5 - 25 lắt/phút tuỳ theo chế ựộ công nghệ hàn
Hình 4-2: Chai ựựng khắ Heli, He 4.1.1.3. Khắ bảo vệ
Trong quá trình thực nghiệm tác giả ựã sử dụng khắ bảo vệ là khắ Argon (Ar). Argon là khắ trơ, phân tử chỉ chứa một nguyên tử ựược triết suất từ khắ quyển bằng phương pháp hóa lỏng không khắ và tinh chế tinh khiết ựến 99,9%. Khắ này ựược cung cấp trong các bình áp suất cao hoặc ở dạng lỏng với nhiệt ựộ dưới Ờ 184oC trong các thùng chứa lớn. Tỷ trọng của khắ Argon bằng 1,33 lần so với không khắ. Ar cung cấp tắnh ổn ựịnh cho hồ quang như nhau ựối với dòng ựiện xoay chiều (AC) cũng như dòng ựiện một chiều (DC), ựồng thời có tác dụng làm sạch tốt ựối với dòng ựiện hàn xoay chiều (AC).
Argon thường là loại khắ thắch hợp với sự bảo vệ cho hàn tất cả các kim loại trong công nghệ hàn plasma nói riêng và các công nghệ hàn khác nói chung.
Học viện Nông nghiệp Việt Nam Ờ Luận văn Thạc sỹ Khoa học Kỹ thuật Page 62