1. Trang chủ
  2. » Luận Văn - Báo Cáo

Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn

134 19 0

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Thông tin cơ bản

Định dạng
Số trang 134
Dung lượng 4,28 MB

Nội dung

Ngày đăng: 16/11/2021, 16:38

HÌNH ẢNH LIÊN QUAN

Bảng 1.1. Ảnh hưởng của việc tiếp xúc khí H2S [4] - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Bảng 1.1. Ảnh hưởng của việc tiếp xúc khí H2S [4] (Trang 14)
Hình 1.1. Đặc trưng hồi – đáp khí của cảm biến kiểu điện trở [1]. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.1. Đặc trưng hồi – đáp khí của cảm biến kiểu điện trở [1] (Trang 21)
rộng về phía hạt nano biến tính [Hình 1.2(c)]. Chiều dày lớp nghèo lúc này được tính theo công thức (4) và (5) [1]:  - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
r ộng về phía hạt nano biến tính [Hình 1.2(c)]. Chiều dày lớp nghèo lúc này được tính theo công thức (4) và (5) [1]: (Trang 25)
Hình 1.3. Cơ chế nhạy khí của dây nano biến tính trên cơ sở tiếp xúc dị thể có cùng loại - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.3. Cơ chế nhạy khí của dây nano biến tính trên cơ sở tiếp xúc dị thể có cùng loại (Trang 26)
Hình 1.4.  Quy trình chế tạo dây nano cấu trúc lõi-vỏ n-SnO 2 /p-Cu 2 O [38] . - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.4. Quy trình chế tạo dây nano cấu trúc lõi-vỏ n-SnO 2 /p-Cu 2 O [38] (Trang 29)
Bảng 1.2. Đáp ứng khí của các dây nano oxit kim loại bán dẫn cấu trúc dị thể - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Bảng 1.2. Đáp ứng khí của các dây nano oxit kim loại bán dẫn cấu trúc dị thể (Trang 33)
Hình 1.9. (a) Đáp ứng khí của của dây nano SnO2 và cấu trúc SnO2/ZnO với 3 loại khí khử nồng độ 500 ppm, nhiệt độ 250 oC; (b) Đáp ứng khí của cấu trúc SnO2/ZnO tại các nhiệt  - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.9. (a) Đáp ứng khí của của dây nano SnO2 và cấu trúc SnO2/ZnO với 3 loại khí khử nồng độ 500 ppm, nhiệt độ 250 oC; (b) Đáp ứng khí của cấu trúc SnO2/ZnO tại các nhiệt (Trang 35)
Hình 1.10. Độ nhạy khí H2S tại nhiệt độ 50oC của của tấm nanoWO 3(a) và tấm nano WO3 biến tính bề mặt với hỗn hợp Au/SnO2 (b) [74] - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.10. Độ nhạy khí H2S tại nhiệt độ 50oC của của tấm nanoWO 3(a) và tấm nano WO3 biến tính bề mặt với hỗn hợp Au/SnO2 (b) [74] (Trang 36)
Hình 1.10. Độ nhạy khí H 2 S tại nhiệt độ 50  o C của của tấm nano WO 3  (a) và tấm nano - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.10. Độ nhạy khí H 2 S tại nhiệt độ 50 o C của của tấm nano WO 3 (a) và tấm nano (Trang 36)
Hình 1.11. Tính chất chọn lọc khí tại RT (a) và đáp ứng khí H2S theo nhiệt độ (b) của SnO2, NiO và SnO2/NiO [83] - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.11. Tính chất chọn lọc khí tại RT (a) và đáp ứng khí H2S theo nhiệt độ (b) của SnO2, NiO và SnO2/NiO [83] (Trang 38)
Hình 1.12.  Đáp ứng khí H 2 S (150÷750 ppm) tại nhiệt độ 100  o C màng mỏng SnO 2  và - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 1.12. Đáp ứng khí H 2 S (150÷750 ppm) tại nhiệt độ 100 o C màng mỏng SnO 2 và (Trang 39)
Hình 2.1. (a) Sơ đồ khối; (b) hình ảnh của hệ bốc bay nhiệt CVD tại Viện ITIMS [1] . - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 2.1. (a) Sơ đồ khối; (b) hình ảnh của hệ bốc bay nhiệt CVD tại Viện ITIMS [1] (Trang 42)
Hình 2.2. Mô hình chế tạo dây nano SnO2: (1) oxi hóa lớp Si để tạo SiO2; (2) phủ lớp cản quang; (3) quang khắc để tạo hình điện cực; (4) phủ lớp Pt để chế tạo điện cực răng lược;  - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 2.2. Mô hình chế tạo dây nano SnO2: (1) oxi hóa lớp Si để tạo SiO2; (2) phủ lớp cản quang; (3) quang khắc để tạo hình điện cực; (4) phủ lớp Pt để chế tạo điện cực răng lược; (Trang 43)
Hình 2.3. Chu trình nhiệt chế tạo dây nano SnO2. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 2.3. Chu trình nhiệt chế tạo dây nano SnO2 (Trang 44)
Thiết kế của cảm biến cấu trúc dị thể SnO2/SMO được mô tả như trên Hình 2.4 - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
hi ết kế của cảm biến cấu trúc dị thể SnO2/SMO được mô tả như trên Hình 2.4 (Trang 46)
Hình 2.5.  Sơ đồ nguyên lý hệ bốc bay bằng chùm điện tử. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 2.5. Sơ đồ nguyên lý hệ bốc bay bằng chùm điện tử (Trang 47)
Hình 2.6. (A) Sơ đồ nguyên lý hệ phún xạ một chiều (phún xạ DC); (B) Hình ảnh hệ phún - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 2.6. (A) Sơ đồ nguyên lý hệ phún xạ một chiều (phún xạ DC); (B) Hình ảnh hệ phún (Trang 50)
Hình 2.7. Sơ đồ nguyên lý hệ đo khí cho phương pháp đo động tại Viện ITIMS [1]. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 2.7. Sơ đồ nguyên lý hệ đo khí cho phương pháp đo động tại Viện ITIMS [1] (Trang 53)
Hình 2.7.  Sơ đồ nguyên lý hệ đo khí cho phương pháp đo động tại Viện ITIMS [1]. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 2.7. Sơ đồ nguyên lý hệ đo khí cho phương pháp đo động tại Viện ITIMS [1] (Trang 53)
Hình 3.1. Hình ảnh SEM và phân tích EDS của cảm biến S0 (A, B), S2 (C, D) và S5 (E, F) - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.1. Hình ảnh SEM và phân tích EDS của cảm biến S0 (A, B), S2 (C, D) và S5 (E, F) (Trang 57)
Hình 3.3. Độ đáp ứng khí H 2 S (0,1 ÷ 1 ppm) ở các nhiệt độ khác nhau của các cảm biến: - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.3. Độ đáp ứng khí H 2 S (0,1 ÷ 1 ppm) ở các nhiệt độ khác nhau của các cảm biến: (Trang 60)
Hình 3.4. So sánh độ đáp ứng khí H 2 S (0,1 ppm ÷1 ppm) tại các nhiệt độ khác nhau của - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.4. So sánh độ đáp ứng khí H 2 S (0,1 ppm ÷1 ppm) tại các nhiệt độ khác nhau của (Trang 62)
Hình 3.5. Độ đáp ứng khí của các cảm biến (A) tại 200o C; Thời gian đáp ứng khí của các cảm biến tại các nhiệt độ khác nhau (B) - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.5. Độ đáp ứng khí của các cảm biến (A) tại 200o C; Thời gian đáp ứng khí của các cảm biến tại các nhiệt độ khác nhau (B) (Trang 63)
Hình 3.6. Độ đáp ứng khí của các cảm biến S5 tại các nhiệt độ khác nhau đối với một số - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.6. Độ đáp ứng khí của các cảm biến S5 tại các nhiệt độ khác nhau đối với một số (Trang 64)
Hình 3.7. Độ ổn định của cảm biến trong 10 chu kỳ. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.7. Độ ổn định của cảm biến trong 10 chu kỳ (Trang 65)
Bảng 3.1. So sánh độ đáp ứng khí H2S dựa trên cảm biến khí SnO2 và SnO2/p-SMO. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Bảng 3.1. So sánh độ đáp ứng khí H2S dựa trên cảm biến khí SnO2 và SnO2/p-SMO (Trang 66)
Hình 3.8. Sơ đồ mức năng lượng của sự hình thành tiếp xúc n-SnO 2  /p-Ag 2 O trong không - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.8. Sơ đồ mức năng lượng của sự hình thành tiếp xúc n-SnO 2 /p-Ag 2 O trong không (Trang 68)
Hình 3.9. Ảnh SEM của dây nano SnO2/NiO với các chiều dày lớp biến tính NiO khác - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.9. Ảnh SEM của dây nano SnO2/NiO với các chiều dày lớp biến tính NiO khác (Trang 70)
Hình 3.9. Ảnh SEM của dây nano SnO 2 /NiO với các chiều dày lớp biến tính NiO khác - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.9. Ảnh SEM của dây nano SnO 2 /NiO với các chiều dày lớp biến tính NiO khác (Trang 70)
Hình 3.11. Ảnh TEM của dây nano SnO2 (A, B) và dây nano SnO2/NiO (C, D). - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.11. Ảnh TEM của dây nano SnO2 (A, B) và dây nano SnO2/NiO (C, D) (Trang 72)
Hình 3.11. Ảnh TEM của dây nano SnO 2  (A, B) và dây nano SnO 2 /NiO (C, D). - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.11. Ảnh TEM của dây nano SnO 2 (A, B) và dây nano SnO 2 /NiO (C, D) (Trang 72)
Hình 3.15. Tính chọn lọc (A) và độ ổn định (B) của cảm biến dây nano SnO 2 /NiO - 10 nm - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 3.15. Tính chọn lọc (A) và độ ổn định (B) của cảm biến dây nano SnO 2 /NiO - 10 nm (Trang 77)
Hình 4.1.  Ảnh SEM của cảm biến dây nano cấu trúc SnO 2  và SnO 2 /ZnO với thời gian biến - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.1. Ảnh SEM của cảm biến dây nano cấu trúc SnO 2 và SnO 2 /ZnO với thời gian biến (Trang 83)
Hình 4.2. Giản đồ nhiễu xạ tia X của cấu trúc SnO2/ZnO –10 min. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.2. Giản đồ nhiễu xạ tia X của cấu trúc SnO2/ZnO –10 min (Trang 84)
Hình 4.3.  Động học đáp ứng khí H 2 S (0,25 ÷ 2,5 ppm) của cảm biến SnO 2 /ZnO - 10 min ở - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.3. Động học đáp ứng khí H 2 S (0,25 ÷ 2,5 ppm) của cảm biến SnO 2 /ZnO - 10 min ở (Trang 85)
Hình 4.4.  So sánh độ đáp ứng khí H 2 S (0.25 ÷2,5 ppm) của cảm biến SnO 2 /ZnO - 10 min - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.4. So sánh độ đáp ứng khí H 2 S (0.25 ÷2,5 ppm) của cảm biến SnO 2 /ZnO - 10 min (Trang 87)
Hình 4.5.  Độ đáp ứng khí H 2 S (0.25 ÷ 2,5 ppm) tại các nhiệt độ 350  o C của các cảm biến - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.5. Độ đáp ứng khí H 2 S (0.25 ÷ 2,5 ppm) tại các nhiệt độ 350 o C của các cảm biến (Trang 88)
10 phút cho đáp ứng khí H2S nồng độ 0,25 ppm tại 350oC là 7,8 lần (Hình 4.6). - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
10 phút cho đáp ứng khí H2S nồng độ 0,25 ppm tại 350oC là 7,8 lần (Hình 4.6) (Trang 89)
Hình 4.6.  Độ đáp ứng khí H 2 S (0,25 ÷ 2,5 ppm tại nhiệt độ 350  o C của các cảm biến - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.6. Độ đáp ứng khí H 2 S (0,25 ÷ 2,5 ppm tại nhiệt độ 350 o C của các cảm biến (Trang 89)
Bảng 4.1. Thời gian đáp ứng và hồi phục khí H2S (0,25 ÷2,5 ppm) tại 300, 350 và 400 oC của cảm biến dây nano SnO2 phủ ZnO với thời gian phủ là 10 min - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Bảng 4.1. Thời gian đáp ứng và hồi phục khí H2S (0,25 ÷2,5 ppm) tại 300, 350 và 400 oC của cảm biến dây nano SnO2 phủ ZnO với thời gian phủ là 10 min (Trang 90)
Hình 4.7. Độ đáp ứng với khí NH3, H2 và CO nồng độ 500ppm tại nhiệt độ 350oC của mẫu SnO2/ZnO – 10 min - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.7. Độ đáp ứng với khí NH3, H2 và CO nồng độ 500ppm tại nhiệt độ 350oC của mẫu SnO2/ZnO – 10 min (Trang 91)
Hình 4.7.  Độ đáp ứng với khí NH 3 , H 2  và CO nồng độ 500 ppm tại nhiệt độ 350  o C của - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.7. Độ đáp ứng với khí NH 3 , H 2 và CO nồng độ 500 ppm tại nhiệt độ 350 o C của (Trang 91)
Hình 4.8. Độ đáp ứng khí của cảm biến SnO2/ZnO-10min đối với một số khí khác nhau. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.8. Độ đáp ứng khí của cảm biến SnO2/ZnO-10min đối với một số khí khác nhau (Trang 92)
Hình 4.8.  Độ đáp ứng khí của cảm biến SnO 2 /ZnO - 10 min đối với một số khí khác nhau - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.8. Độ đáp ứng khí của cảm biến SnO 2 /ZnO - 10 min đối với một số khí khác nhau (Trang 92)
Hình 4.11. Độ nhạy khí NO2 tại nhiệt độ 200÷300 oC của của dây nano SnO2 và các cấu trúc SnO2/ZnO có bề dày vỏ ZnO mọc trong các thời gian 5;10;15 min. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.11. Độ nhạy khí NO2 tại nhiệt độ 200÷300 oC của của dây nano SnO2 và các cấu trúc SnO2/ZnO có bề dày vỏ ZnO mọc trong các thời gian 5;10;15 min (Trang 95)
Hình 4.12. Độ lặp lại của cảm biến SnO2/ZnO-10min đối với khí H2S-1 ppm tại 350oC trong 11 chu kỳ - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.12. Độ lặp lại của cảm biến SnO2/ZnO-10min đối với khí H2S-1 ppm tại 350oC trong 11 chu kỳ (Trang 96)
vật liệu cân bằng nhau. Kết quả một lớp nghèo điện tử được hình thành tại bề mặt tiếp xúc giữa SnO2 và ZnO, hàng rào dị thể bị uốn cong - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
v ật liệu cân bằng nhau. Kết quả một lớp nghèo điện tử được hình thành tại bề mặt tiếp xúc giữa SnO2 và ZnO, hàng rào dị thể bị uốn cong (Trang 97)
Hình 4.14. Sơ đồ mức năng lượng của cấu trúc SnO2/ZnO trước (a) và sau khi tiếp xúc khí khử H2S (b) - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.14. Sơ đồ mức năng lượng của cấu trúc SnO2/ZnO trước (a) và sau khi tiếp xúc khí khử H2S (b) (Trang 98)
Hình 4.15.  Ảnh SEM của các cảm biến dây nano SnO 2 /WO 3  với chiều dày lớp WO 3  khác - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.15. Ảnh SEM của các cảm biến dây nano SnO 2 /WO 3 với chiều dày lớp WO 3 khác (Trang 99)
Hình 4.16.  Ảnh TEM của các cảm biến dây nano SnO 2  phủ lớp nano WO 3 . - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.16. Ảnh TEM của các cảm biến dây nano SnO 2 phủ lớp nano WO 3 (Trang 100)
Hình 4.17. Giản đồ nhiễu xạ tia X của cấu trúc SnO2/WO3. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.17. Giản đồ nhiễu xạ tia X của cấu trúc SnO2/WO3 (Trang 101)
Hình 4.17.  Giản đồ nhiễu xạ tia X của cấu trúc SnO 2 /WO 3 . - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.17. Giản đồ nhiễu xạ tia X của cấu trúc SnO 2 /WO 3 (Trang 101)
Hình 4.17.  (A-D) Ảnh EDS – mapping; (E) phân tích EDS và ảnh SEM của mẫu cấu trúc - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.17. (A-D) Ảnh EDS – mapping; (E) phân tích EDS và ảnh SEM của mẫu cấu trúc (Trang 102)
Hình 4.18.  (A-C) Độ đáp ứng khí H 2 S (0,1 ÷ 1 ppm) của các cảm biến SnO 2 /WO 3  – 5 nm - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.18. (A-C) Độ đáp ứng khí H 2 S (0,1 ÷ 1 ppm) của các cảm biến SnO 2 /WO 3 – 5 nm (Trang 103)
nhất (với 0,1 ppm là 36/80 )– Bảng 3.1 so với các mẫu còn lại. Điều này chứng tỏ khả năng sử dụng cảm biến trong thực tế - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
nh ất (với 0,1 ppm là 36/80 )– Bảng 3.1 so với các mẫu còn lại. Điều này chứng tỏ khả năng sử dụng cảm biến trong thực tế (Trang 106)
Hình 4.21.  So sánh thời gian hồi - đáp khí H 2 S (0,1 ÷ 1 ppm) của cảm biến cấu trúc dây - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.21. So sánh thời gian hồi - đáp khí H 2 S (0,1 ÷ 1 ppm) của cảm biến cấu trúc dây (Trang 106)
Hình 4.22. Tính chọn lọc của cảm biến cấu trúc dây nano SnO2/WO3 –5 nm tại 200o C. - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.22. Tính chọn lọc của cảm biến cấu trúc dây nano SnO2/WO3 –5 nm tại 200o C (Trang 107)
Hình 4.23.  Đặc trưng nhạy khí NO 2  của cảm biến dây nano SnO 2  biến tính bề mặt bởi - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.23. Đặc trưng nhạy khí NO 2 của cảm biến dây nano SnO 2 biến tính bề mặt bởi (Trang 108)
Hình 4.24.  Đặc trưng nhạy khí NO 2  của cảm biến dây nano SnO 2  biến tính bề mặt bởi - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.24. Đặc trưng nhạy khí NO 2 của cảm biến dây nano SnO 2 biến tính bề mặt bởi (Trang 109)
Hình 4.25.  Đặc trưng nhạy khí NO 2  của cảm biến dây nano SnO 2  biến tính bề mặt bởi - Nghiên cứu chế tạo và tính nhạy khí của cấu trúc dị thể giữa dây nano sno2 và một số oxit kim loại bán dẫn
Hình 4.25. Đặc trưng nhạy khí NO 2 của cảm biến dây nano SnO 2 biến tính bề mặt bởi (Trang 110)

TRÍCH ĐOẠN

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

w