Nghiên cứu chế tạo màng ITO bằng phương pháp phún xạ Magnetron
Trang 1GVHD: TS Lê Trấn
Nghiên cứu chế tạo màng ITO bằng phương pháp phún xạ
Magnetron
Trang 2Lưu lại thông tin cần thiết:
Trang 4Nội dung
Các bước tạo màng Các phương pháp xác định tính chất của màng
Màng ITO Phương pháp phún xạ magnetron
Độ dày màng Khí oxi
Trang 5Tổng quan
Trang 6ITO: hỗn hợp của Indium oxide (In2O3 ) và Tin Oxide (SnO2),
Cơ chế dẫn điện: các electron dẫn sinh ra do có sự pha tạp donor hoặc do sự thiếu oxi trong cấu trúc màng
Có độ truyền qua cao ở vùng khả kiến và điện trở suất thấp Dùng làm điện cực trong suốt trong các loại màn hình, pin mặt trời màng mỏng, OLED…
Màng ITO
Trang 7Ưu điểm của phương pháp phún xạ Magnetron
Nhiệt độ đế thấp, có thể xuống đến nhiệt độ phòng
Phương pháp có chi phí không cao
Có khả năng phủ màng trên diện tích rộng
Trang 8Phún xạ Magetron
Trang 9Thực nghiệm
Trang 10Một số đặc điểm của quá trình tạo màng
Áp suất nền trước khi tạo màng 4x10-6 torr
Áp suất khí làm việc điển hình khoảng 3 x
10-3 torr.
Công suất phún xạ, áp suất làm việc, nhiệt
độ đế, thời gian phún xạ thay đổi tùy theo
Trang 11Các phép đo xác định tính chất của màng
Phương pháp 4 mũi dò thẳng: đo điện trở mặt của màng
Phương pháp van der Pauw với máy HMS 3000: xác định nồng độ và độ linh động Hall của hạt tải
Phương pháp đo độ dày:bằng máy Stylus Dektak 6M
Phép đo nhiễu xạ tia X: xác định cấu trúc tinh thể trên máy Siemens D5
Phổ truyền qua trong vùng phổ 190 – 1100 nm được đo bằng máy UV-Vis Jasco V-530.
Phổ truyền qua và phản xạ trong vùng hồng ngoại bước sóng 0.65-1.8µm được đo bằng máy FTIR Bruker Equinox 55.
Trang 12Kết quả
Trang 163 Công suất phún xạ
Cực tiểu của điện trở
suất ở công suất
Trang 184 Nhiệt độ đế
Khi tăng nhiệt độ đế
điện trở suất giảm
Trang 194 Nhiệt độ đế
Trang 204 Nhiệt độ đế
t > 150 0 C chuyển pha từ trạng thái vô định hình sang tinh thể
Trang 235 Độ dày màng
Trang 245 Độ dày màng
d từ 300 - 600 nm là phù hợp vì tốt ở cả
Trang 277 Xử lý nhiệt sau khi phủ
Trang 287 Xử lý nhiệt sau khi phủ
Trang 29Kết luận
Công suất 50 W Khoảng cách bia đế là 5 cm
Và độ dày trên 300 nm đến 600nm Nhiệt độ tinh thể hóa của màng ITO trên
Trang 30Tài liệu tham khảo
trong suốt bằng phương pháp phún xạ
Magnetron, Luận án tiến sĩ vật lý quang học,
Trang 31Thanks for your