phương pháp phún xạ magnetron dc

... màng đa lớp là rất khó khăn với phương pháp này 2 Phương pháp phún xạ: Hình 9 - Quá trình phún xạ Cơ chế của phương pháp phún xạ: Phún xạ không làm cho vật liệu bị ... liệu. Hình 1 - Sơ đồ mô tả quá trình phún xạ 2. Phương pháp phún xạ MagnetronDC: a. Hệ magnetron phẳng: Hình 2 - Hệ Magnetron phẳng Bộ phận chính của hệ phún xạ Magnetron phẳng là một hệ nam châm ... Bài 1: TẠO MÀNG BẰNG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON DC I. LÝ THUYẾT: 1. Định nghĩa hiện tượng phún xạ:  Định nghĩa: Phún xạ là hiện tượng nguyên tử trên bề mặt vật liệu

Ngày tải lên: 27/05/2015, 22:29

... Lắng đọng phún xạ [179] Cd2SnO4 Lắng đọng phún xạ [134] Cd2SnO4 Phun nhiệt phân [133] ZnO:In Phun nhiệt phân [112] ZnO:Al Lắng đọng phún xạ [117] ZnO:In Lắng đọng phún xạ [147] ... ZnO pha tạp được lắng đọng bằng phún xạ magnetron 18 Bảng 1.4: Dữ liệu về tính chất điện của ZnO được tạo bằng phương pháp lắng đọng phún xạ với các loại tạp pha vào khác ... lắng đọng bằng phương pháp phún xạ phản ứng, thể hiện qua sự chuyển tiếp từ màng đục đến màng trong suốt với áp suất riêng phần của oxy tăng trong khi phún xạ [52] Truyền

Ngày tải lên: 10/04/2015, 17:29

... trình phún xạ I.2. Phương pháp phún xạ magnetron DC: I.2.1. Hệ magnetron phẳng: HVTH: PHẠM THỊ THU HƯỜNG THỰC TẬP CHUYÊN ĐỀ QUANG – QUANG PHỔ (Hình 1.2)  Bộ phận chính của một hệ phún xạ magnetron ... CHUYÊN ĐỀ QUANG – QUANG PHỔ BÀI 1: TẠO MÀNG BẰNG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON DC I. TÓM TẮT LÝ THUYẾT: I.1. Định nghĩa hiện tượng phún xạ: Phún xạ là hiện tượng những nguyên tử trên bề mặt vật ... màng mỏng phún xạ? Nói đến độ dày của màng mỏng phún xạ tức là xem xét hiệu suất của quá trình phún xạ. Theo định nghĩa ta có, hiệu suất của quá trình phún xạ bằng tổng các nguyên tử phún xạ trên

Ngày tải lên: 27/05/2015, 22:42

... ý chế tạo màng TiO2 phương pháp phún xạ magnetron DC không cân : tỷ lệ khí O2:Ar 6%, áp suất hỗn hợp khí 13 mTorr, dịng phún xạ 0,5 A, khoảng cách bia đế cm, thời gian phún xạ 60 phút Q trình ...  hạt va chạm  hạt khí phún xạ bay màng có lượng cao gây ứng suất nén) Khi áp suất khí phún xạ cao ứng suất màng ứng suất căng (va chạm nhiều làm giảm lượng hạt phún xạ, đồng thời theo cấu trúc ... VẬT LÝ ỨNG DỤNG BÀI BÁO CÁO NGHIÊN CỨU CHẾ TẠO MÀNG MỎNG QUANG XÚC TÁC TiO2 BẰNG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON DC KHÔNG CÂN BẰNG GVHD: TS Lê Trấn HVTH: Nguyễn Đăng Khoa Tp.HCM Tháng 5/2010 Cao

Ngày tải lên: 18/04/2021, 01:28

... mỏng chung Việt Nam giới Màng ZnO chế tạo nhiều phương pháp khác nhau, phương pháp phổ biến nước ta phương pháp phún xạ magnetron DC RF Đây phương pháp giúp nhà khoa học nghiên cứu chế tạo các ... PHA TẠP Sn BẰNG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON DC .42 3.1 Chế tạo bia gốm ZnO SZO 42 3.2 Hệ tạo màng trình phún xạ .48 3.3 Các bước chuẩn bị trước phún xạ tạo màng ... tinh phương pháp phún xạ magnetron DC Qua khảo sát yếu tố ảnh hưởng đến cấu trúc, tính chất điện tính chất quang màng Chúng thay đổi thông số phún xạ nồng độ pha tạp Sn, công suất phún xạ, thời

Ngày tải lên: 25/05/2015, 22:52

... bia gốm ZnO: In Bia gốm trước khi phún xạ Bia gốm sau khi phún xạ. .. 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO: (In, N) 3.2 Hệ phún xạ tạo màng Sử dụng hệ magnetron không cân bằng: - Tăng ... NHIÊN TÊN ĐỀ TÀI : NGHIÊN CỨU VÀ CHẾ TẠO MÀNG DẪN ĐIỆN TRONG SUỐT ZnO:(In, N) BẰNG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON DC CBHD : TS. LÊ VŨ TUẤN HÙNG HVTH : ĐÀO ANH TUẤN TỔNG QUAN VỀ VẬT LIỆU ZnO 1 VẬT ... đế Xử lý đế Ảnh hưởng của Tạp In Ảnh hưởng của Tạp In Bố trí bia đế Bố trí bia đế Phún xạ tạo màng Phún xạ tạo màng Màng loại p chất lượng tốt nhất Màng loại p chất lượng tốt nhất Khảo sát

Ngày tải lên: 25/05/2015, 23:10

... màng Al 2 O 3 với các phương pháp tạo màng khác nhau. [26 ] Phương pháp Chiết suất ở 550 nm Phương pháp Chiết suất ở 550 nm Bốc bay 1.5 Phún xạ phản ứng 1.68 Phún xạ chùm ion 1.65 Hai ... nghiên cứu. Để tạo màng có nhiều phương pháp như phún xạ phản ứng, lắng đọng từ phún xạ bằng chùm laser (PLD), ngưng tụ dung dịch (sol gel),… trong đó, kỹ thuật phún xạ được áp dụng rộng rãi nhờ ... bày việc nghiên cứu chế tạo màng mỏng Al 2 O 3 bằng phương pháp phún xạ magnetron rf và chuyển pha bằng xử lý nhiệt sau đó. Màng được phún xạ phản ứng từ bia nhôm kim loại trong môi trường hỗn

Ngày tải lên: 27/06/2014, 10:20

... mặt cathode phẳng Hình 2.2 Mô tả hệ phún xạ magnetron phẳng Hình 2.3 Sự phân bố phún xạ magnetron cân chế độ dc rf Hình 2.4 Thế phún xạ cathode magnetron dc rf theo công suất phóng điện bia ZnO ... pha tạp Al điều kiện phún xạ Luận án khảo sát tập hợp đầy đủ ảnh hưởng thông số kỹ thuật điển hình phương pháp phún xạ magnetron (như áp suất phún xạ, mật độ công suất phún xạ, nhiệt độ đế, xử ... "Kim loại hóa màng dẻo phương pháp phún xạ magnetron theo chế độ liên tục", Mã số: B2001-18-07 178 Chủ nhiệm đề tài cấp Bộ: "Tạo màng dẫn điện suốt phương pháp phún xạ magnetron" , Mã số: B2002-18-23

Ngày tải lên: 26/02/2016, 22:02

... cách đế bia phún xạ giữ ổn định cm lúc phóng điện phún xạ tạo màng (hình 2.7) Đối với bia phún xạ loại bia gốm WO3 khơng dẫn điện để phún xạ tạo màng đòi hỏi phải dùng kỹ thuật phún xạ RF Trong ... nhỏ trước có kết xác 2.3.3 Một số định hướng kỹ thuật phún xạ tạo màng Trong luận án này, màng oxit Vonfram chế tạo phương pháp phún xạ magnetron phẳng hỗn hợp khí Argon - Oxy đế thủy tinh thường ... màng oxit Vonfram lắng đọng phương pháp phún xạ magnetron RF từ bia gốm WO3; hỗn hợp khí làm việc Ar + O2 với tỷ lệ mol khơng đổi (PAr / PO2 = 5); cơng suất phún xạ 100 W, thời gian lắng đọng

Ngày tải lên: 09/09/2016, 04:57

... màng mỏng phún xạ rf - Chế tạo màng mỏng TiO2 phún xạ rf Phạm vi nghiên cứu Phương pháp phún xạ magnetron rf: ưu điểm, nhược điểm phương pháp phún xạ rf, Ứng dụng phương pháp phún xạ magnetron rf ... Chương Phương pháp phún xạ 1.1 .Phún xạ 1.2 Bản chất trình phún xạ .3 1.3 Các loại phún xạ 1.3.1 Phún xạ phóng điện chiều 1.3.2 Phún xạ phóng điện ... filter hay màng chống phản xạ Có nhiều phương pháp khác chế tạo màng TiO2 phương pháp sol-gel, phương pháp hóa học, phương pháp lắng đọng xung lazer, … phương pháp phún xạ rf đưa hiệu tốt Sơ đồ

Ngày tải lên: 19/02/2018, 04:55

... nhiều đến phương pháp ngưng tụ hoá học CVD (chemical vapour deposition) phương pháp ngưng tụ vật lý PVD (physical vapour deposition) Trong phương pháp ngưng tụ vật lý PVD phương pháp phún xạ magnetron ... 2.3 Hệ magnetron không cân 2.1.3 Phún xạ phản ứng Phún xạ phản ứng phún xạ bia kim loại mơi trường có khí hoạt tính O2, N2, N2O… Màng tạo hợp chất hạt phún xạ khí hoạt tính Q trình phún xạ plasma, ... thuật, Trường đại học khoa học tự nhiên Tp Hồ Chí Minh 2.1 Phương pháp phún xạ magnetron DC 2.1.1 Hệ magnetron phẳng Bộ phận hệ phún xạ magnetron phẳng hệ nam châm bố trí khép kín để tạo bẫy từ

Ngày tải lên: 17/01/2019, 20:17

... Các phương pháp chế tạo màng giới thiệu gồm: phương pháp lắng đọng pha hóa học (CVD), phương pháp lắng đọng pha vật lý (PVD) Trong luận án này, phương pháp PVD (cụ thể phương pháp phún xạ magnetron) ... WC-Co chế tạo phương pháp phún xạ magnetron chiều sử dụng hai bia phún xạ Ti50Al40X10 (X: Si,B) bia Cr Thông số q trình phún xạ bao gồm: cơng suất phún xạ (300W), áp suất phún xạ (5 mtor), khoảng ... trình phún xạ o Khoảng cách bia mẫu WC-Co: 30-60 mm o Thời gian phún xạ: 30 phút o Nhiệt độ đế phún xạ: nhiệt độ phòng (25oC) o Thành phần bia phún xạ: Ti50Al40X10 Sau kết thúc trình phún xạ,

Ngày tải lên: 31/07/2019, 10:33

... bị phún xạ magnetron Hình 2.4 Sơ đồ chế tạo màng đa lớp TiAlX(Si,B)N/CrN phương pháp phún xạ magnetron Hình 2.5 Bia phún xạ TiAlSi(B) Cr gắn thiết bị phún xạ magnetron Hình 2.6 Thiết bị phún xạ ... chân không21 1.4.2.2 Phương pháp phún xạ 23 1.5 Sự hình thành màng phủ phương pháp phún xạ 30 1.5.1 Phún xạ vật liệu 30 1.5.2 Sự chuyển động hạt phún xạ 32 1.5.3 ... bia phún xạ đa nguyên tố Ti 50Al40X10 (X:Si, B, V) phương pháp luyện kim bột tiên tiến, (ii) chuẩn bị bề mặt mẫu đế hợp kim WC-Co, (iii) phún xạ magnetron chiều Trong đó, thơng số q trình phún xạ

Ngày tải lên: 01/08/2019, 05:29

... Nguyễn Văn An “Nghiên cứu công nghệ phủ màng siêu cứng đa lớp TiAlSiN/CrN hợp kim cứng WC-Co phương pháp phún xạ? ?? Tuyển tập hội nghị khoa học niên Viện Hàn lâm Khoa học Công nghệ Việt Nam lần thứ 13, ... remove adsorbents and residual oxides on the substrate surfaces Polished samples are deposited by DC magnetron sputtering in the gas mixture of Ar/N2 The buffer layer of Cr or Ti metal is deposited ... B)N/CrN MULTILAYER HARD COATINGS TiAl-X (Si, B) N / CrN multilayer hard coating are deposited by dc magnetron sputtering on Si substrate and WC-Co alloy substrate, using two targets of Ti50Al40X10

Ngày tải lên: 01/08/2019, 05:47

... Các phương pháp chế tạo màng giới thiệu gồm: phương pháp lắng đọng pha hóa học (CVD), phương pháp lắng đọng pha vật lý (PVD) Trong luận án này, phương pháp PVD (cụ thể phương pháp phún xạ magnetron) ... WC-Co chế tạo phương pháp phún xạ magnetron chiều sử dụng hai bia phún xạ Ti50Al40X10 (X: Si,B) bia Cr Thơng sớ q trình phún xạ bao gồm: công suất phún xạ (300W), áp suất phún xạ (5 mtor), khoảng ... trình phún xạ o Khoảng cách bia mẫu WC-Co: 30-60 mm o Thời gian phún xạ: 30 phút o Nhiệt độ đế phún xạ: nhiệt độ phòng (25oC) o Thành phần bia phún xạ: Ti50Al40X10 Sau kết thúc trình phún xạ,

Ngày tải lên: 01/08/2019, 05:47

... PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG GVHD: PGS TS Lê Văn Hiếu Học viên: Phùng Nguyễn Thái Hằng NỘI DUNG: I PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I.1 Phún xạ ? I.2 Hệ số phún xạ I.3 Phún xạ ... I.1 Khái niệm phún xạ Hình ảnh mơ tả Sự Phún xạ Đế Ar + BIA I.2 Hệ số phún xạ n s  n a i s hệ số phún xạ nα số nguyên tử bị phún xạ ni số ion đập vào bề mặt cathode Hệ số phún xạ s phụ thuộc vào ... xạ Magnetron II PHÚN XẠ MAGNETRON RF II.1 Khái niệm II.2 Cấu tạo II.3 Sơ đồ hoạt động II.4 Nguyên tắc hoạt động III KHÓ KHĂN TRONG PP RF IV SO SÁNH PHÚN XẠ MAGNETRON RF VỚI DC I.1 Khái niệm phún

Ngày tải lên: 15/01/2020, 11:26

... màng ITO phương pháp phún xạ Magnetron GVHD: TS Lê Trấn HVTH: Nguyễn Thanh Tú Nội dung Page  Tổng quan Màng ITO Phương pháp phún xạ magnetron Thực nghiệm Các bước tạo màng Các phương pháp xác ... Các hợp kim hợp chất vật liệu với áp suất khác dễ dàng phún xạ ? ?Phương pháp có chi phí khơng cao Có khả phủ màng diện tích rộng Page  Phún xạ Magetron Page  Page  Một số đặc điểm trình tạo màng ... torr Cơng suất phún xạ, áp suất làm việc, nhiệt độ đế, thời gian phún xạ thay đổi tùy theo yêu cầu Page  Hệ tạo màng mỏng Univex 450 Các phép đo xác định tính chất màng Phương pháp mũi dò thẳng:

Ngày tải lên: 18/04/2021, 02:42

... nghiệm phún xạ tạo màng Màng WO chế tạo phương pháp phún xạ magnetron phẳng hỗn hợp khí Ar – Oxy đế thủy tinh thường số thủy tinh phủ lớp điện cực suốt ITO Khoảng cách đế bia giữ ổn định 5cm lúc phún ... oxit vonfram đư ợc lắng đọng phương pháp phún xạ magnetron RF từ bia gốm WO Trong hỗn hợp khí làm việc Ar O với tỉ lệ mol không đổi ( PAr / PO2 = ) , công suất phún xạ 100W thời gian lắng đọng ... lượng phún xạ nguồn 50Wh Nhiệt độ ban đầu đế 350 0C sau trình phún xạ, trình cấp nhiệt khogn6 trì nên nhiệt độ đế khơng ổn định mà tự giảm dần Tốc độ màng thay đổi cách thay đổi công suất phún xạ

Ngày tải lên: 27/04/2021, 12:01

... Các phương pháp chế tạo màng giới thiệu gồm: phương pháp lắng đọng pha hóa học (CVD), phương pháp lắng đọng pha vật lý (PVD) Trong luận án này, phương pháp PVD (cụ thể phương pháp phún xạ magnetron) ... WC-Co chế tạo phương pháp phún xạ magnetron chiều sử dụng hai bia phún xạ Ti50Al40X10 (X: Si,B) bia Cr Thông số q trình phún xạ bao gồm: cơng suất phún xạ (300W), áp suất phún xạ (5 mtor), khoảng ... trình phún xạ o Khoảng cách bia mẫu WC-Co: 30-60 mm o Thời gian phún xạ: 30 phút o Nhiệt độ đế phún xạ: nhiệt độ phòng (25oC) o Thành phần bia phún xạ: Ti50Al40X10 Sau kết thúc trình phún xạ,

Ngày tải lên: 11/06/2021, 06:51