Dưới đây là bài thuyết trình Phương pháp phún xạ Magnetron RF trong chế tạo màng mỏng. Mời các bạn tham khảo bài thuyết trình để nắm bắt được những nội dung về phương pháp phún xạ (khái niệm, hệ số phún xạ, phún xạ Magnetron); phún xạ Magnetron RF, khó khăn trong phương pháp RF, so sánh phún xạ Magnetron RF với DC.
PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG GVHD: PGS TS Lê Văn Hiếu Học viên: Phùng Nguyễn Thái Hằng NỘI DUNG: I PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I.1 Phún xạ ? I.2 Hệ số phún xạ I.3 Phún xạ Magnetron II PHÚN XẠ MAGNETRON RF II.1 Khái niệm II.2 Cấu tạo II.3 Sơ đồ hoạt động II.4 Nguyên tắc hoạt động III KHÓ KHĂN TRONG PP RF IV SO SÁNH PHÚN XẠ MAGNETRON RF VỚI DC I.1 Khái niệm phún xạ Hình ảnh mơ tả Sự Phún xạ Đế Ar + BIA I.2 Hệ số phún xạ n s n a i s hệ số phún xạ nα số nguyên tử bị phún xạ ni số ion đập vào bề mặt cathode Hệ số phún xạ s phụ thuộc vào : Bản chất vật liệu phún xạ Loại ion lượng ion bắn phá lên bia Góc đập ion lên bề mặt cathode Phụ thuộc vào áp suất khí làm việc Sự phụ thuộc số loại vật liệu làm bia vào phún xạ Ảnh hưởng lượng ion vào phún xạ Sự phụ thuộc góc tới vào phún xạ Hệ số phún xạ đạt giá trị cao vào khoảng góc tới có giá trị 720 I.3 Phún xạ Magnetron Cấu trúc số hệ Magnetron thông thường f/ Plasma: Vùng plasma vùng tối Sơ đồ cấu tạo nguyên lý hoạt động phún xạ Magnetron RF II.3 Sơ đồ hệ phún xạ Magnetron RF Thế RF cathode SƠ ĐỒ: Bia: Được gắn vào giải nhiệt Bản giải nhiệt gắn vào cathode Từ trường vòng nam châm bên bao quanh khác cực với nam châm Chúng nối với sắt, có tác dụng khép kín đường sức từ phía Đế: Được áp vào điện cực anode Đế (Athod) N (Kathod) S N N (b) (a) Hình Hệ magnetron phẳng đường sức từ bề mặt bia Sơ đồ hệ Magnetron N II.4 Nguyên tắc hoạt động Đế tAr KhíAr Ar Ar e- Ar+ Ar+ e- Khí N2 N 13.56MHz N Ar + tN Khí bên ngồi S N S Bơm CKhơng Đặc trưng vùng phún xạ Vùng I:Vùng sụt Cathode Vùng II:Vùng ion hóa Vùng III:Vùng plasma Hình ảnh phún xạ • Áp suất thấp,khoảng từ 5-15 mTorr Điều đòi hỏi phải hút chân khơng cao • Số electron theo thời gian tích tụ nhiều cực làm hủy tái phún xạ • Ion dương đập vào phá hủy màng Phún xạ DC Phún xạ RF Không sử dụng trực tiếp cho vật liệu điện môi Có thể sử dụng cho vật liệu điện mơi,kim loại bán dẫn Hoạt động chủ yếu dựa vào electron bị bứt ion dương bị va đập vào điện cực Hoạt động chủ yếu dựa vào hiệu dịch Bị dập tắt nguồn Vùng tối cách điện đế vùng plasma làm cho chất lượng màng tốt TÀI LIỆU THAM KHẢO Một số sách luận văn: [1] Trần Định Tường, Màng mỏng quang học,NXBKHKT Hà Nội,2004 [2] Võ Thị Kim Chung,Luận văn Thạc sĩ Khoa Học Tự Nhiên, Tổng hợp màng mỏng TiO2 Bằng pp phún xạ Magnetron-mạ ion,Trường ĐH KHTN TPHCM,1999 [3] ThS Vũ Thị Hạnh Thu,các giảng Vật Lý Màng Mỏng,Trường ĐH KHTN TPHCM [4] Lê Phương Ngọc,Nguyễn Thị Thu Thảo,Khóa Luận Tốt Nghiệp [5] Nguyễn Ngọc Thùy Trang,Khóa Luận tốt nghiệp [6] Lê Vũ Tuấn Hùng,Nguyễn Văn Đến,Huỳnh Thành Đạt,Nghiên cứu chế tạo màng mỏng TiO2 phương pháp phún xạ Magnetron RF,Tạp chí phát triển KH&CN ,tập 9,số 6/2006 • Một số trang web: http://vi.wikipedia.org/wiki/M%C3%A0ng_m%E1%BB%8Fn g http://vi.wikipedia.org/wiki/Ph%C3%BAn_x%E1%BA%A1_c at%E1%BB%91t http://en.wikipedia.org/wiki/Sputtering http://en.wikipedia.org/wiki/Radio_frequency www.freepatentsonline.com http://www.lermps.com/PHP/HTML/textes.php?ref=process _depot+phase+vapeur.xls http://www.ajaint.com/whatis.htm ... I PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I.1 Phún xạ ? I.2 Hệ số phún xạ I.3 Phún xạ Magnetron II PHÚN XẠ MAGNETRON RF II.1 Khái niệm II.2 Cấu tạo II.3 Sơ đồ hoạt động II.4 Nguyên tắc hoạt động III KHÓ KHĂN TRONG. .. TRONG PP RF IV SO SÁNH PHÚN XẠ MAGNETRON RF VỚI DC I.1 Khái niệm phún xạ Hình ảnh mơ tả Sự Phún xạ Đế Ar + BIA I.2 Hệ số phún xạ n s n a i s hệ số phún xạ nα số nguyên tử bị phún xạ ni số ion... phún xạ Ảnh hưởng lượng ion vào phún xạ Sự phụ thuộc góc tới vào phún xạ Hệ số phún xạ đạt giá trị cao vào khoảng góc tới có giá trị 720 I.3 Phún xạ Magnetron II.1 Khái niệm II.2 Cấu tạo hệ phún