51
Bảng 4.2 Điều kiện của MS
Source ESI+
Ion source Turbo Spray
Curtain gas 25 psi
Ion spray voltage 4500 V
TEM 400 oC
Ion source gas 1 35 psi
Ion source gas 2 35 psi
Bảng 4.3 Điều kiện phân mảnh ion
Compound Q1 mass Q3 mass Time DP EP CE CXP
AFB1 312,9 285,1 5,0 60 11 34 9 312,9 241,8 5,0 72 11 39 8,5 AFB2 315,1 287,2 4,8 73 7 34 8,5 315,1 259,1 4,8 73 8 41 10 AFG1 329,1 311,2 4,8 76 10 30 7 329,1 242,6 4,8 79 9 34 7 AFG2 330,9 245,1 4,6 100 12 40 8 330,9 217,4 4,6 104 14 47 8
Tối ưu hóa quy trình chiết
4.2
Hai quy trình chiết pha rắn được lựa chọn như sau
52
Hình 4.4 Quy trình chiết pha rắn thứ nhất
Quy trình SPE2:
Hình 4.5 Quy trình chiết SPE thứ hai Nhận xét:
Với quy trình thứ nhất chỉ sử dụng MeOH:H2O (4:1) để rửa, thể tích dùng là 2 mL; trong khi quy trình thứ hai sử dụng 0,5 mL MeOH:H2O (4:1) và 0,5 mL MeOH để rửa; thời gian thực hiện của hai quy trình tương đương nhau, lượng dung môi sử dụng không chênh lệch nhiều. Vậy quy trình nào cho kết quả phân tích có độ thu hồi cao hơn và độ nhiễu thấp hơn.
Hoạt hóa cột SPE bằng 5 mL MeOH Rửa bỏ MeOH thừa bằng 3-5 mL H2O
Cho 10 mL mẫu qua cột (loading sample)
Rửa cột bằng 2 mL MeOH:H2O (4:1)
Rửa giải bằng 5 mL acetone:H2O:FA (96:3,7:0,3)
Hoạt hóa cột SPE bằng 5 mL MeOH Rửa bỏ MeOH thừa bằng 3-5 mL H2O
Cho 10 mL mẫu qua cột (loading sample)
Rửa cột bằng 0,5 mL MeOH:H2O (4:1) Rửa tiếp bằng 0,5 mL MeOH
53
Quy trình thứ nhất chỉ sử dụng MeOH:H2O (4:1) để rửa nên tạp còn nhiều hơn, tuy sử dụng 2 mL nhưng chất phân tích bị rửa trôi không quá nhiều, độ thu hồi vẫn thỏa điều kiện. Trong khi quy trình hai có sử dụng thêm MeOH để rửa nên mẫu sạch hơn. Chất phân tích có bị rửa trôi bởi MeOH mạnh hơn MeOH:H2O (4:1), nhưng lượng dung môi sử dụng chỉ 0,5 mL nên độ thu hồi vẫn còn khá cao và nằm trong khoảng chấp nhận được. Vậy quy trình thứ hai cho kết quả mẫu sạch hơn và độ thu hồi cao, nếu xét kĩ hơn về lượng dung môi thì ít hơn so với quy trình thứ nhất nên chọn quy trình thứ hai làm quy trình chiết.
Kết quả thẩm định