1. Trang chủ
  2. » Luận Văn - Báo Cáo

Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen

123 1,5K 1

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Thông tin cơ bản

Định dạng
Số trang 123
Dung lượng 3,18 MB

Nội dung

Luận văn

MỞ ĐẦU 1. Lý do chọn đề tài Khuếch tán là một hiện tượng rất cơ bản trong tự nhiên nó xảy ra trong tất cả các môi trường vật chất [1]: Trong môi trường chất khí, chất lỏng, chất rắn, trong động vật, thực vật, trong vũ trụ,… Do vậy, nghiên cứu để hiểu các quá trình khuếch tán chính là nghiên cứu quy luật cơ bản của tự nhiên. Nó sẽ góp phần làm cho con người hiểu rõ về các quá trình vận động của vật chất góp phần khám phá ra những quy luật cơ bản của quá trình vận động vật chất trong tự nhiên, nhất là sự vận động trong thế giới vi mô. Chính vì ý nghĩa đó nên từ xưa đến nay, hiện tượng khuếch tán trong tự nhiên là một đề tài hấp dẫn luôn có những vấn đề mới đặt ra để nghiên cứu. Trong từng thời kì, con người đã đi sâu tìm hiểu quá trình khuếch tán ở các mức độ khác nhau: từ việc quan tâm nghiên cứu các hạt bụi di chuyển trong không khí, đến việc nghiên cứu các chất màu lan truyền trong chất lỏng, quan sát sự thẩm thấu các chất qua các màng động thực vật, coi quá trình khuếch tán là một hiện tượng lí sinh,… Từ đầu thế kỉ XX, con người đã nghiên cứu rất mạnh các thành phần vật chất khác nhau trong các kim loại để tạo nên các hợp kim có tính chất đặc biệt phục vụ cuộc sống của con người. Đặc biệt là sau khi Schockley phát minh ra hiệu ứng tranzito vào năm 1948, ngành công nghiệp điện tử phát triển như vũ bão thì kĩ thuật khuếch tán các nguyên tử tạp chất vào vật liệu bán dẫn cũng phát triển nhanh chóng nhằm chế tạo các linh kiện bán dẫn, mạch tổ hợp, các linh kiện cảm biến thông minh, linh kiện quang điện tử bán dẫn,… Các linh kiện bán dẫn vi điện tử là nền tảng để chế tạo các thiết bị điện tử tiên tiến, các hệ thống thiết bị truyền thông, công nghệ thông tin, máy tính quang lượng tử, người máy, đo lường điều khiển,… mà chúng đã, đang sẽ phát triển rất mạnh trong thế kỉ XXI này. 1 Có hàng trăm công trình nghiên cứu cả lí thuyết thực nghiệm về sự tự khuếch tán khuếch tán của các tạp chất trong bán dẫn, đặc biệt là sự khuếch tán trong bán dẫn silic, thu hút được sự quan tâm mạnh mẽ của nhiều nhà khoa học có tên tuổi trên thế giới. Tuy nhiên, việc đo đạc chính xác các đại lượng khuếch tán là một điều rất khó, đòi hỏi phải có các trang thiết bị hiện đại có đội ngũ chuyên gia giàu kinh nghiệm. Về mặt lí thuyết, có nhiều phương pháp đã được sử dụng để nghiên cứu về khuếch tán như phương pháp mô phỏng, phương pháp liên kết chặt, phương pháp thế kinh nghiệm, các phương pháp ab initio,… Các phương pháp này đã thu được những thành công nhất định nhưng các tính toán còn bị hạn chế các kết quả số thu được có độ chính xác chưa cao so với các giá trị thực nghiệm. Vì vậy, nghiên cứu về sự tự khuếch tán khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn vẫn là vấn đề có ý nghĩa khoa học mang tính thời sự. Trong khoảng 30 năm trở lại đây, một phương pháp thống mới gọi là phương pháp thống mômen đã được áp dụng nghiên cứu thành công đối với các tính chất nhiệt động đàn hồi của các tinh thể phi điều hòa có cấu trúc lập phương tâm diện, lập phương tâm khối, cấu trúc kim cương cấu trúc zinc blend (ZnS). Phương pháp này cũng đã được sử dụng một cách có hiệu quả để nghiên cứu về hiện tượng tự khuếch tán trong các kim loại hợp kim có cấu trúc lập phương tâm diện lập phương tâm khối [7, 11]. Trong công trình [5] “nghiên cứu các tính chất nhiệt động môđun đàn hồi của tinh thể hợp chất bán dẫn bằng phương pháp mômen” tác giả đã xây dựng được các biểu thức giải tích đã áp dụng tính số cho một loạt các đại lượng nhiệt động môđun đàn hồi như: nhiệt dung riêng, hệ số dãn nở nhiệt, hệ số nén đẳng nhiệt, môđun Young E,… của tinh thể hợp chất bán dẫn có cấu trúc kim cương cấu trúc ZnS. Tuy nhiên, hiện tượng khuếch tán các đại lượng vật lí gắn liền với hiện tượng khuếch tán như năng lượng kích hoạt Q, 2 hệ số trước hàm mũ D 0 , hệ số khuếch tán D, … của tinh thể hợp chất bán dẫn vẫn chưa được đề cập đến. Vì vậy, việc tiếp tục áp dụng phương pháp thống mômen để nghiên cứu hiện tượng khuếch tán trong tinh thể bán dẫn có cấu trúc kim cương cấu trúc ZnS là việc làm hết sức cần thiết nhằm hoàn thiện phát triển lí thuyết này. Với tất cả những lí do như đã trình bày ở trên, chúng tôi đã lựa chọn đề tài của luận án là “Nghiên cứu sự tự khuếch tán khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống mômen”. 2. Mục đích, đối tượng phạm vi nghiên cứu Mục đích của luận án là xây dựng lí thuyết về sự tự khuếch tán khuếch tán của tạp chất trong tinh thể bán dẫn dưới ảnh hưởng của nhiệt độ, áp suất độ biến dạng. Áp dụng các công thức lí thuyết thu được để tính số cho các đại lượng khuếch tán như năng lương kích hoạt Q, hệ số trước hàm mũ D 0 hệ số khuếch tán D của một số chất cụ thể. Các kết quả tính số sẽ được so sánh với thực nghiệm các tính toán bằng lí thuyết khác để thấy được mức độ tin cậy của phương pháp đã chọn. Đối tượng phạm vi nghiên cứu của luận án là hai chất bán dẫn: Si có cấu trúc kim cương GaAs có cấu trúc ZnS. Đây là hai loại bán dẫn điển hình được nghiên cứu nhiều nhất. Các tạp chất được dùng để khuếch tán vào trong bán dẫn Si là Ga, As, Al, B P (với nồng độ 10 -3 ÷ 10 -4 % so với nồng độ nguyên tử gốc). Đây cũng là các tạp chất được dùng phổ biến nhất trong công nghệ chế tạo các linh kiện bán dẫn. 3. Phương pháp nghiên cứu Sử dụng phương pháp thống mômen với khai triển đến gần đúng bậc bốn của thế năng tương tác để xác định độ dời của hạt khỏi vị trí cân bằng năng lượng tự do Helmholtz của hệ gồm N hạt trong tinh thể bán dẫn có cấu 3 trúc kim cương cấu trúc ZnS. Từ đó xác định năng lượng kích hoạt Q, hệ số trước hàm mũ D 0 hệ số khuếch tán D của tinh thể. 4. Ý nghĩa khoa học thực tiễn của luận án Đối tượng nghiên cứu của luận án là các chất bán dẫn các tạp chất thông thường có nhiều ứng dụng đang được nghiên cứu rộng rãi. Các kết quả thu được từ luận án góp phần bổ sung, hoàn thiện lí thuyết về sự tự khuếch tán khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn đặc biệt là bán dẫn Si. Sự thành công của luận án đã góp phần hoàn thiện phát triển việc áp dụng phương pháp thống mômen trong nghiên cứu các tính chất của tinh thể. 5. Những đóng góp mới của luận án Xây dựng được các biểu thức giải tích tổng quát đối với các đại lượng khuếch tán như năng lượng kích hoạt Q, hệ số trước hàm mũ D 0 hệ số khuếch tán D cho sự tự khuếch tán khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn theo các cơ chế khuếch tán khác nhau. Các đại lượng này được xem xét dưới ảnh hưởng của nhiệt độ, áp suất độ biến dạng. Áp dụng tính số theo các biểu thức thu được cho sự tự khuếch tán của 2 chất bán dẫn điển hình là Si, GaAs sự khuếch tán của 5 tạp chất trong Si là Ga, As, Al, B P. Các kết quả tính số đều được so sánh với thực nghiệm các tính toán bằng lí thuyết khác. Luận án cũng đã làm sáng tỏ được một số vấn đề đang còn tranh cãi. Đó là cơ chế khuếch tán nào sẽ chiếm ưu thế trong sự tự khuếch tán cơ chế nào là đóng vai trò chủ đạo trong sự khuếch tán của các tạp chất Ga, As, Al, B P trong tinh thể Si. 6. Bố cục của luận án Ngoài phần mở đầu, kết luận, tài liệu tham khảo phụ lục, luận án được chia làm 4 chương 16 mục. Nội dung của luận án được trình bày 4 trong 119 trang với 23 bảng số, 23 hình vẽ đồ thị, 116 tài liệu tham khảo. Nội dung chủ yếu của từng chương như sau: Chương 1: Trình bày sơ lược về bán dẫn; các cơ chế khuếch tán chủ yếu trong bán dẫn; các nghiên cứu lí thuyết thực nghiệm về sự khuếch tán trong bán dẫn; phương pháp thống mômen trong nghiên cứu tinh thể. Chương 2: Trình bày các biểu thức giải tích thu được từ việc áp dụng phương pháp thống mômen cho tinh thể bán dẫn; xây dựng lí thuyết tổng quát cho sự tự khuếch tán trong tinh thể bán dẫn; áp dụng các công thức đã thu được để tính số cho sự tự khuếch tán của Si GaAs. Chương 3: Trình bày lí thuyết khuếch tán của tạp chất trong tinh thể bán dẫn theo các cơ chế khuếch tán khác nhau. Áp dụng tính số cho sự khuếch tán của các tạp chất Ga, Al, B, P As trong tinh thể Si. Chương 4: Trình bày sự tự khuếch tán khuếch tán của tạp chất trong tinh thể Si dưới ảnh hưởng của áp suất biến dạng. Áp dụng tính số cho Si tự khuếch tán khuếch tán của các tạp chất Ga, As, Al, B P trong tinh thể Si. Nội dung của luận án đã được báo cáo tại các hội nghị khoa học: 1. Hội nghị Vật lý Chất rắn toàn quốc lần thứ IV, Núi Cốc, tháng 11 năm 2003. 2. Hội nghị Vật lý Lý thuyết lần thứ 29, TP. Hồ Chí Minh, tháng 8 năm 2004. 3. Hội nghị Vật lý Lý thuyết lần thứ 34, Đồng Hới, tháng 8 năm 2009. 4. Hội nghị Vật lý Lý thuyết lần thứ 35, TP. Hồ Chí Minh, tháng 8 năm 2010. 5. Hội nghị Vật lý toàn quốc lần thứ VII, Hà Nội, tháng 11 năm 2010. 6. Hội nghị Vật lý Lý thuyết lần thứ 36, Quy Nhơn, tháng 8 năm 2011. 7. Hội nghị Vật lý Lý thuyết lần thứ 37, Cửa Lò, tháng 8 năm 2012. 5 CHƯƠNG 1 CÁC NGHIÊN CỨU VỀ KHUẾCH TÁN TRONG BÁN DẪN 1.1. Sơ lược về bán dẫn 1.1.1. Cấu trúc tinh thể của bán dẫn Các chất bán dẫn thông dụng thường kết tinh theo mạng tinh thể lập phương tâm diện [8]. Trong đó, mỗi nút mạng được gắn với một gốc (basis) gồm hai nguyên tử. Hai nguyên tử đó cùng loại nếu là bán dẫn đơn chất như Si, Ge hai nguyên tử đó khác loại nếu là bán dẫn hợp chất như GaAs, InSb, ZnS, CdS, . Silic là vật liệu bán dẫn điển hình. Đơn tinh thể Si có cấu trúc kim cương (Hình 1.1) gồm hai phân mạng lập phương tâm diện lồng vào nhau, phân mạng này nằm ở 1/4 đường chéo chính của phân mạng kia. Trong một ô cơ sở có 8 nguyên tử Si, mỗi nguyên tử Si là tâm của một hình tứ diện đều cấu tạo từ bốn nguyên tử lân cận gần nhất xung quanh. Độ dài cạnh của ô cơ sở (còn gọi là hằng số mạng tinh thể) ở 298K là a 0 = 5,43Ǻ [8]. Hình 1.1. Mạng tinh thể Si 6 Mạng tinh thể Si rất hở do chỉ có 34 % thể tích là bị các nguyên tử Si chiếm chỗ. Bán kính của nguyên tử Si là 1,18Ǻ. Trong một ô cơ sở của mạng tinh thể Si có 5 lỗ hổng mạng (còn gọi là hốc hay kẽ hở mạng) trong đó 4 hốc nằm trên bốn đường chéo chính đối diện với các nguyên tử Si thuộc đường chéo đó qua tâm hình lập phương hốc thứ 5 nằm ở tâm của hình lập phương (Hình 1.2- hốc 1, 2, 3, 4, 5). Mỗi hốc có bán kính đúng bằng bán kính của nguyên tử Si [8] do đó có thể chứa khít một nguyên tử Si. Mỗi hốc cũng là tâm của một hình tứ diện đều cấu tạo từ bốn hốc xung quanh hoặc bốn nguyên tử Si xung quanh (xem Hình 1.2). Hình 1.2. Các hốc (lỗ hổng) trong mạng tinh thể Si Các bán dẫn hợp chất A III B V hoặc A II B VI như GaAs hay ZnS chẳng hạn (Hình 1.3) thường kết tinh dưới dạng zinc blend (ZnS), cũng gồm hai phân mạng lập phương tâm diện lồng vào nhau, phân mạng này nằm ở 1/4 đường chéo chính của phân mạng kia. Tuy nhiên, nếu mạng thứ nhất cấu tạo từ một 7 1 2 3 4 5 loại nguyên tử (Zn chẳng hạn) thì mạng thứ hai cấu tạo từ loại nguyên tử khác (S chẳng hạn). Trong tinh thể ZnS, mỗi nguyên tử Zn là tâm của một hình tứ diện đều cấu tạo từ bốn nguyên tử S xung quanh. Ngược lại, mỗi nguyên tử S lại là tâm của một hình tứ diện đều, cấu tạo từ bốn nguyên tử Zn xung quanh. Hình 1.3. Mạng tinh thể ZnS 1.1.2. Các ứng dụng quan trọng của vật liệu bán dẫn Vật liệu bán dẫn được nghiên cứu ứng dụng rất nhiều trong các lĩnh vực khoa học, kỹ thuật công nghiệp. Tuy nhiên, ứng dụng quan trọng nhất phổ biến nhất của chúng chính là dùng để chế tạo các linh kiện điện tử bán dẫn. Chúng ta đang sống trong thời đại thông tin. Một lượng lớn thông tin có thể thu được qua Internet cũng có thể thu được một cách nhanh chóng qua những khoảng cách lớn bằng những hệ thống truyền thông vệ tinh. Sự phát triển của các linh kiện bán dẫn như điốt, tranzito mạch tích hợp (IC- Integrated Circuit) đã dẫn đến những khả năng đáng kinh ngạc này. IC thâm nhập vào hầu hết mọi mặt của đời sống hàng ngày, chẳng hạn như đầu đọc đĩa 8 CD, máy fax, máy quét tại các siêu thị điện thoại di động. Phôtôđiốt là một loại dụng cụ không thể thiếu trong thông tin quang học trong các ngành kỹ thuật tự động. Điốt phát quang được dùng trong các bộ hiển thị, đèn báo, màn hình quảng cáo các nguồn sáng. Pin nhiệt điện bán dẫn được ứng dụng để chế tạo các thiết bị làm lạnh gọn nhẹ, hiệu quả cao dùng trong khoa học, y học, . Để có được các linh kiện bán dẫn kể trên từ chất bán dẫn tinh khiết ban đầu (Si hoặc Ge), người ta phải tạo ra hai loại bán dẫnbán dẫn loại n (dẫn điện chủ yếu bằng điện tử) bán dẫn loại p (dẫn điện chủ yếu bằng lỗ trống) bằng cách pha các nguyên tử tạp chất vào Si (hay Ge). Sau đó, ghép hai loại bán dẫn đó lại với nhau để được điốt hay tranzito. Công nghệ pha tạp nói chung rất đa dạng cũng là một công nghệ rất cơ bản được sử dụng thường xuyên từ xa xưa. Có nhiều phương pháp pha nguyên tử tạp chất vào vật liệu bán dẫn như phương pháp nuôi đơn tinh thể, phương pháp cấy ion, phương pháp khuếch tán, . So với các phương pháp khác thì phương pháp khuếch tán có nhiều ưu điểm như không làm thay đổi cấu trúc tinh thể, có thể pha tạp với chiều sâu tùy ý, cho phép điều khiển tốt hơn các tính chất của tranzito đã thu được những thiết bị có thể hoạt động ở tần số cao. Hơn nữa, quá trình khuếch tán cũng cho phép nhiều tranzito được chế tạo trên một lớp silic đơn tinh thể mỏng, do đó có thể hạ giá thành của những thiết bị này. Đó là những lí do chính khiến cho kĩ thuật khuếch tán các nguyên tử tạp chất vào vật liệu bán dẫn đã đang phát triển nhanh chóng nhằm chế tạo các tranzito, các vi mạch điện tử ngày nay là các mạch điện có các cấu hình với kích thước nanô, nanô sensor, . 9 1.2. Các khuyết tật trong bán dẫn 1.2.1. Khuyết tật trong tinh thể Đa số vật rắn có cấu trúc mạng tinh thể chúng gồm một số rất lớn các nguyên tử, phân tử được sắp xếp một cách tuần hoàn trong không gian để tạo thành mạng tinh thể lí tưởng. Thực tế, mạng tinh thể lí tưởng thường không có thực. Các tinh thể thực luôn chứa đựng bên trong nó những khuyết tật (còn gọi là sai hỏng). Có nhiều loại khuyết tật [3] với những đặc điểm khác nhau như: - khuyết tật điểm có kích thước cỡ nguyên tử theo ba chiều không gian, - khuyết tật đường có kích thước cỡ nguyên tử theo hai chiều rất lớn theo chiều thứ ba, - khuyết tật mặt có kích thước lớn theo hai chiều nhỏ theo chiều thứ ba, - khuyết tật khối có kích thước lớn theo cả ba chiều không gian. Trong số các loại khuyết tật kể trên, khuyết tật điểm có cấu trúc đơn giản nhất tồn tại nhiều nhất trong các tinh thể rắn. Các khuyết tật điểm có thể được phát sinh trong tinh thể bằng quá trình Schottky hoặc Frenkel [49]. Trong quá trình Schottky, một xen kẽ (Iterstitial- kí hiệu là I) được tạo ra bởi sự di chuyển của một nguyên tử từ bề mặt vào một lỗ hổng nào đó bên trong tinh thể hay ngược lại một nút khuyết (Vacancy- kí hiệu là V) được hình thành khi một nguyên tử rời khỏi nút mạng để di chuyển ra mặt ngoài của tinh thể. Trong quá trình Frenkel, một nguyên tử sẽ rời khỏi vị trí nút mạng của nó để tới một vị trí lỗ hổng mạng, tạo ra một xen kẽ một nút khuyết. Khi nghiên cứu hiện tượng khuếch tán của các nguyên tử trong tinh thể, người ta đã chỉ ra rằng các khuyết tật điểm trong tinh thể đóng vai trò quyết định trong sự khuếch tán của các nguyên tử [25, 38, 92, 95]. Vì vậy, nghiên cứu về 10

Ngày đăng: 04/12/2013, 13:53

Nguồn tham khảo

Tài liệu tham khảo Loại Chi tiết
1. Đào Khắc An (2009), Công nghệ micro và nano điện tử, Nhà xuất bản Giáo dục Việt Nam, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Công nghệ micro và nano điện tử
Tác giả: Đào Khắc An
Nhà XB: Nhà xuất bảnGiáo dục Việt Nam
Năm: 2009
2. Nguyễn Quang Báu, Bùi Bằng Đoan và Nguyễn Văn Hùng (1998), Vật lý thống kê, Nhà xuất bản Đại học Quốc gia Hà Nội, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Vậtlý thống kê
Tác giả: Nguyễn Quang Báu, Bùi Bằng Đoan và Nguyễn Văn Hùng
Nhà XB: Nhà xuất bản Đại học Quốc gia Hà Nội
Năm: 1998
3. Lê Công Dưỡng (1997), Giáo trình Vật liệu học, Nhà xuất bản Khoa học và Kỹ thuật, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Giáo trình Vật liệu học
Tác giả: Lê Công Dưỡng
Nhà XB: Nhà xuất bản Khoahọc và Kỹ thuật
Năm: 1997
4. Vũ Bá Dũng (2011), Nghiên cứu khuếch tán đồng thời tạp chất và sai hỏng điểm trong silic, Luận án Tiến sỹ Vật lý, Trường Đại học Khoa học Tự nhiên, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Nghiên cứu khuếch tán đồng thời tạp chất và saihỏng điểm trong silic
Tác giả: Vũ Bá Dũng
Năm: 2011
5. Phạm Thị Minh Hạnh (2006), Nghiên cứu các tính chất nhiệt động và môđun đàn hồi của tinh thể và hợp chất bán dẫn bằng phương pháp mômen, Luận án Tiến sỹ Vật lý, Trường Đại học Sư phạm Hà Nội, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Nghiên cứu các tính chất nhiệt động vàmôđun đàn hồi của tinh thể và hợp chất bán dẫn bằng phương phápmômen
Tác giả: Phạm Thị Minh Hạnh
Năm: 2006
6. Hà Thị Hằng (2005), Lý thuyết khuếch tán của tạp chất trong tinh thể bán dẫn, Luận văn Thạc sĩ vật lý, Trường Đại học Sư phạm Hà Nội, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Lý thuyết khuếch tán của tạp chất trong tinh thểbán dẫn
Tác giả: Hà Thị Hằng
Năm: 2005
7. Nguyễn Thị Hòa (2007), Nghiên cứu biến dạng đàn hồi-phi tuyến và quá trình truyền sóng đàn hồi của kim loại, hợp kim bằng phương pháp mô men, Luận án Tiến sĩ Vật lý, Trường Đại học Sư phạm Hà Nội, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Nghiên cứu biến dạng đàn hồi-phi tuyến vàquá trình truyền sóng đàn hồi của kim loại, hợp kim bằng phương phápmô men
Tác giả: Nguyễn Thị Hòa
Năm: 2007
8. Phùng Hồ và Phan Quốc Phô (2001), Giáo trình Vật lý bán dẫn, Nhà xuất bản Khoa học và Kỹ thuật, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Giáo trình Vật lý bán dẫn
Tác giả: Phùng Hồ và Phan Quốc Phô
Nhà XB: Nhàxuất bản Khoa học và Kỹ thuật
Năm: 2001
9. Vũ Văn Hùng, Nguyễn Quang Học và Phan Thị Thanh Hồng (2004),"Nghiên cứu sự tự khuếch tán trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen", Những vấn đề hiện đại của Vật lý chất rắn, Nhà xuất bản Khoa học và Kỹ thuật, tập III-A, tr. 121-125 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Nghiên cứu sự tự khuếch tán trong bán dẫn bằng phương pháp thốngkê mômen
Tác giả: Vũ Văn Hùng, Nguyễn Quang Học và Phan Thị Thanh Hồng
Nhà XB: Nhà xuất bảnKhoa học và Kỹ thuật
Năm: 2004
10. Vũ Văn Hùng (1990), Phương pháp mômen trong việc nghiên cứu tính chất nhiệt động của tinh thể lập phương diện tâm và lập phương tâm khối, Luận án Phó Tiến sỹ khoa học Toán lý, Đại học Tổng hợp Hà Nội, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Phương pháp mômen trong việc nghiên cứu tínhchất nhiệt động của tinh thể lập phương diện tâm và lập phương tâmkhối
Tác giả: Vũ Văn Hùng
Năm: 1990
11. Hoàng Văn Tích (2000), Lý thuyết khuếch tán của các tinh thể kim loại và hợp kim, Luận án Tiến sĩ Vật lý, Trường Đại Học Sư phạm Hà Nội, Hà Nội Sách, tạp chí
Tiêu đề: Lý thuyết khuếch tán của các tinh thể kim loạivà hợp kim
Tác giả: Hoàng Văn Tích
Năm: 2000
13. Antonelli A. and Bernholc J. (1989), "Pressure effects on self-diffusion in silicon", Physical Review B 40, pp.10643-10646 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Pressure effects on self-diffusionin silicon
Tác giả: Antonelli A. and Bernholc J
Năm: 1989
14. Antonelli A., Ismail-Beigi S., Kaxiras E., and Pandey K. C. (1996),"Free energy of the concerted-exchange mechanism for self-diffusion in silicon", Physical Review B 53, pp.1310-1314 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Free energy of the concerted-exchange mechanism for self-diffusionin silicon
Tác giả: Antonelli A., Ismail-Beigi S., Kaxiras E., and Pandey K. C
Năm: 1996
15. Arsenault R. J., Beeler J. R., and Esterling D. M. (1988), "Computer simulation in materials science ", Editors, ASM International, Metals Park, Ohio, pp.269-290 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Computersimulation in materials science
Tác giả: Arsenault R. J., Beeler J. R., and Esterling D. M
Năm: 1988
16. Aziz M. J. (1998), "Pressure and Stress Effects on Diffusion in Silicon", Ten Years of Diffusion in Silicon, Defect and Diffusion Forum 153-155, pp.1-10 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Pressure and Stress Effects on Diffusion inSilicon
Tác giả: Aziz M. J
Năm: 1998
17. Aziz M. J. (1997), "Thermodynamics of diffusion under pressure and stress: Relation to point defect mechanisms", Applied Physics Letters 70(21), pp.2810-2812 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Thermodynamics of diffusion under pressure andstress: Relation to point defect mechanisms
Tác giả: Aziz M. J
Năm: 1997
18. Aziz M. J., Zhao Y., Gossmann H.-J., Mitha S., Smith S. P., and Schiferl D. (2006), "Pressure and stress effects on the diffusion of B and Sb in Si and Si-Ge alloys", Physical Review B 73(5), p054101 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Pressure and stress effects on the diffusion of Band Sb in Si and Si-Ge alloys
Tác giả: Aziz M. J., Zhao Y., Gossmann H.-J., Mitha S., Smith S. P., and Schiferl D
Năm: 2006
19. Bockstedte M. and Scheffler M. (1996), "Theory of Self-diffusion in GaAs", Z. Phys. Chem. in Pror Materials Science Sách, tạp chí
Tiêu đề: Theory of Self-diffusion inGaAs
Tác giả: Bockstedte M. and Scheffler M
Năm: 1996
20. Boorgoin J. and Lannoo M. (1983), Point Defects in Semiconductors I- II, Springer-Verlag Berlin Heidelberg, New York Sách, tạp chí
Tiêu đề: Point Defects in Semiconductors I-II
Tác giả: Boorgoin J. and Lannoo M
Năm: 1983
21. Bửsker G., Stolwijk N. A., Sửdervall U., and Jọger W. (1997),"Properties of Ga Self-interstitials in GaAs Investigated by In-Diffusion of Cd", Defect and Diffusion Forum 143-147, pp.1109-1116 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Properties of Ga Self-interstitials in GaAs Investigated by In-Diffusionof Cd
Tác giả: Bửsker G., Stolwijk N. A., Sửdervall U., and Jọger W
Năm: 1997

HÌNH ẢNH LIÊN QUAN

Hình 1.1. Mạng tinh thể Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 1.1. Mạng tinh thể Si (Trang 6)
Hình 1.2. Các hốc (lỗ hổng) trong mạng tinh thể Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 1.2. Các hốc (lỗ hổng) trong mạng tinh thể Si (Trang 7)
Hình 1.2. Các hốc (lỗ hổng) trong mạng tinh thể Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 1.2. Các hốc (lỗ hổng) trong mạng tinh thể Si (Trang 7)
Hình 1.3. Mạng tinh thể ZnS - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 1.3. Mạng tinh thể ZnS (Trang 8)
Hình 1.4. Khuyết tật nút khuyết trong tinh thể Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 1.4. Khuyết tật nút khuyết trong tinh thể Si (Trang 11)
Hình 1.8. Các cơ chế khuếch tán chủ yếu trong tinh thể rắn - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 1.8. Các cơ chế khuếch tán chủ yếu trong tinh thể rắn (Trang 16)
Hình 1.9. Hệ số khuếch tán của các tạp chất B, P và As  trong Si phụ thuộc vào nồng độ [1] - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 1.9. Hệ số khuếch tán của các tạp chất B, P và As trong Si phụ thuộc vào nồng độ [1] (Trang 19)
Bảng 2.1. Giá trị thực nghiệm đối với các thông số thế của Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Bảng 2.1. Giá trị thực nghiệm đối với các thông số thế của Si (Trang 53)
Bảng 2.7. So sánh các đại lượng tự khuếch tán của Ga và As trong GaAs với thực nghiệm và các tính toán khác - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Bảng 2.7. So sánh các đại lượng tự khuếch tán của Ga và As trong GaAs với thực nghiệm và các tính toán khác (Trang 60)
Hình 3.1. Độ hòa tan rắn cực đại phụ thuộc vào nhiệt độ của một số tạp chất thông dụng trong Si [1] - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 3.1. Độ hòa tan rắn cực đại phụ thuộc vào nhiệt độ của một số tạp chất thông dụng trong Si [1] (Trang 65)
Hình 3.4.  Hai cơ chế hỗn hợp trong Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 3.4. Hai cơ chế hỗn hợp trong Si (Trang 74)
Bảng 3.4. So sánh các đại lượng khuếch tán của Ga  và Al trong Si với thực nghiệm - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Bảng 3.4. So sánh các đại lượng khuếch tán của Ga và Al trong Si với thực nghiệm (Trang 78)
Hình 3.5. Quy luật Arrhenius của Ga (trái) và Al (phải) khuếch tán trong Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 3.5. Quy luật Arrhenius của Ga (trái) và Al (phải) khuếch tán trong Si (Trang 79)
Bảng 3.7. Ảnh hưởng của nhiệt độ lên các đại lượng khuếch tán của P trong Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Bảng 3.7. Ảnh hưởng của nhiệt độ lên các đại lượng khuếch tán của P trong Si (Trang 82)
Bảng 3.8.  So sánh các đại lượng khuếch tán của B và P trong Si với thực nghiệm và các tính toán khác - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Bảng 3.8. So sánh các đại lượng khuếch tán của B và P trong Si với thực nghiệm và các tính toán khác (Trang 83)
Hình 3.7. Quy luật Arrhenius của As khuếch tán trong Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 3.7. Quy luật Arrhenius của As khuếch tán trong Si (Trang 87)
Hình 4.9. Lược đồ sự thay đổi thể tích trong lúc hình thành và  dịch chuyển khuyết tật - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.9. Lược đồ sự thay đổi thể tích trong lúc hình thành và dịch chuyển khuyết tật (Trang 90)
Hình 4.10. Mẫu chịu tác dụng của ứng suất lưỡng trục - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.10. Mẫu chịu tác dụng của ứng suất lưỡng trục (Trang 93)
Bảng 4.10. Sự phụ thuộc nhiệt độ của hằng số mạng và thể tích kích hoạt đối với Si tự khuếch tán - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Bảng 4.10. Sự phụ thuộc nhiệt độ của hằng số mạng và thể tích kích hoạt đối với Si tự khuếch tán (Trang 97)
Bảng 4.12. Thể tích kích hoạt của các tạp B, P, As, Al và Ga khuếch tán trong Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Bảng 4.12. Thể tích kích hoạt của các tạp B, P, As, Al và Ga khuếch tán trong Si (Trang 99)
Hình 4.11. Sự phụ thuộc áp suất của B và P khuếch tán trong Si - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.11. Sự phụ thuộc áp suất của B và P khuếch tán trong Si (Trang 101)
Hình 4.12. Ảnh hưởng của biến dạng kéo lưỡng trục lên hệ số  khuếch tán  của B trong Si ở nhiệt độ 1073K - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.12. Ảnh hưởng của biến dạng kéo lưỡng trục lên hệ số khuếch tán của B trong Si ở nhiệt độ 1073K (Trang 102)
Hình 4.6: sự phụ thuộc biến dạng của hệ số tự khuếch tán của Si ở 1300 0 K - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.6 sự phụ thuộc biến dạng của hệ số tự khuếch tán của Si ở 1300 0 K (Trang 121)
Hình 4.5: sự phụ thuộc áp suất của hệ số tự khuếch tán của Si ở 1300 0 K - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.5 sự phụ thuộc áp suất của hệ số tự khuếch tán của Si ở 1300 0 K (Trang 121)
Hình 4.8: Sự phụ thuộc biến dạng của hệ số khuếch tán của B và P trong Si ở 1073 0 K - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.8 Sự phụ thuộc biến dạng của hệ số khuếch tán của B và P trong Si ở 1073 0 K (Trang 122)
Hình 4.7: Sự phụ thuộc áp suất của hệ số khuếch tán của Ga, As và Al trong Si ở 1083 0 K - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.7 Sự phụ thuộc áp suất của hệ số khuếch tán của Ga, As và Al trong Si ở 1083 0 K (Trang 122)
Hình 4.9: Sự phụ thuộc biến dạng của hệ số khuếch tán của Ga, As và Al trong Si ở 1073 0 K - Nghiên cứu sự tự khuếch tán và khuếch tán của tạp chất trong bán dẫn bằng phương pháp thống kê mômen
Hình 4.9 Sự phụ thuộc biến dạng của hệ số khuếch tán của Ga, As và Al trong Si ở 1073 0 K (Trang 123)

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

w