Nghiên cứu sản xuất chất tẩy rửa lô cao su máy in offset dùng mực uv

Bộ giáo dục đào tạo Trường đại học bách khoa hµ néi -  Luận văn thạc sỹ khoa học Nghiên cứu sản xuất chất tẩy rửa lô cao su Của Máy in offset dïng mùc UV NguyÔn Duy h­ng NgƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC: TS TRẦN VĂN THẮNG Hµ néi - 2007 Bộ giáo dục đào tạo Trường đại học bách khoa hà nội Luận văn thạc sỹ khoa học Nghiên cứu sản xuất chất tẩy rửa lô Cao su máy in offset dùng mực UV Ngành: Công nghệ hóa học Nguyễn Duy hưng Người hướng dẫn: TS Trần Văn Thắng Hà nội - 2007 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Lời nói đầu In offset đà trở thành phương pháp in phổ biến công nghiệp in nước ta Sự phát triển ngành công nghiệp in năm gần mạnh mẽ, hÃng sản xuất thiết bị in không ngừng tìm tòi phát minh máy in để phục vụ nhu cầu thị trường Sự đời mực in UV vào năm cuối kỷ XIX đánh dấu phát triển ngành công nghệ in Đến nay, mực in UV đà đạt nhiều ưu điểm so với mực khác cải thiện độ nhớt, tăng cường mật độ màu, hình thành độ màu có tính thấu minh cao Trong trình in sử dụng mực UV trước sản phẩm làm khô ánh sáng UV bị phần ánh sáng nhìn thấy chiếu vào gây bẩn lô cao su Do cần phải có chất tẩy rửa mực UV đà bám lô cao su Hiện nay, ®ang sư dơng chÊt tÈy rưa mùc in UV nhập ngoại từ Cộng hòa liên bang Đức có tên thương mại là: ACEDINFORM 171, giá thành đắt độc hại Để giải vấn đề em đà chọn đề tài: Nghiên cứu sản xuất chất tẩy rửa lô cao su máy in offset dùng mực UV nhằm tìm công nghệ sản xuất chất tẩy rửa mực in UV đáp ứng nhu cầu là: chất lượng tốt, giá thành rẻ, thân thiện với môi trường có khả thay dần chất tẩy rửa phải nhập ngoại Luận văn gồm có ba chương chính: Chương I: Tổng quan vỊ mùc in offset vµ chÊt tÈy rưa mùc in Chương II: Cơ sở mô hình nghiên cứu trình công nghệ sản xuất chất tẩy rửa mực UV Chương III: Thiết lập mô hình thực nghiệm hai mức tối ưu bậc Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Trang Danh mục hình Hình I.1: Sơ đồ nguyên lý máy in offset Hình I.2: Một máy in offset đại Hình I.3: Minh họa cho trình khô mực UV 25 Hình I.4: Vật phản xạ ánh sáng hình elip 31 Hình I.5: Quá trình đóng rắn mực in UV 32 Hình III.1: Sơ đồ khối mô tả thuật toán 62 Hình III.2: Biểu đồ biểu diễn mối quan hƯ gi÷a z2, z3 z1 = 1,2 65 Hình III.3: Phổ hồng ngoại mực trước tẩy rửa 66 Hình III.4: Phổ hồng ngoại mực sau tÈy rưa 67 H×nh III.5: Phỉ Raman cđa mùc tr­íc tÈy rưa 68 H×nh III.6: Phỉ Raman cđa mùc sau tÈy rưa 69 Danh mơc b¶ng biĨu Bảng I.1: Thành phần chất tham gia vào mực in UV 13 Bảng III.1: Thí nghiệm xác định thời gian chiÕu tia UV 51 B¶ng III.2: HiƯu st tÈy rưa mùc UV víi chÊt tÈy rưa ACEDINFORM 171 52 B¶ng III.3: Ma trËn thùc nghiƯm 53 B¶ng III.4: KÕt qu¶ hiƯu st tÈy rưa mùc UV 54 B¶ng III.5: Ma trận thực nghiệm kế hoạch toàn phần hai mức tối ưu 55 BảngIII.6: Các thí nghiệm lặp tâm kế hoạch 56 Bảng III.7: Chương trình tính tối ưu hàm thực nghiệm dùng ngôn ngữ Matlab BảngIII.8: Kết tính giá trị tối ưu hàm hồi quy (III.5) 63 64 B¶ng III.9: HiƯu st tÈy rưa mùc UV ứng với thành phần MIBK, SDBS tối ưu 66 Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Mục lục Lời nói đầu Chương I: Tổng quan mực in offset chất tÈy rưa mùc in I.1 Mùc in offset vµ công nghệ in offset I.1.1 Khái quát công nghÖ in offset I.1.2 Mùc in offset I.2 Mùc in UV 10 I.2.1 Giíi thiƯu vỊ mùc in UV 10 I.2.2 Thành phần mực in UV 12 I.2.3 Nghiên cứu chế khô mực in UV offset 23 I.2.4 An toàn lao động làm việc môi trường UV 33 I.3 Tìm hiểu chất tẩy rưa mùc in UV 37 I.3.1 Mơc ®Ých sư dơng chất tẩy rửa mực 37 I.3.2 Yêu cầu ®èi víi chÊt tÈy rưa cho mùc in offset UV 37 I.3.3 Cơ chế trình hoà tan cao phân tử 39 I.3.4 Một số đặc trưng trương nở phân tử cao phân tử 40 I.3.5 Lựa chọn hoá chất tẩy rửa 40 I.3.6 Sức căng bề mặt, chế làm giảm sức căng bề mặt dung dịch 41 I.3.7 Nguyên lý tẩy rửa mực in UV Chương II: 41 Cơ sở mô hình nghiên cứu trình công nghệ sản xuất chất tẩy rửa mực UV 42 II.1 Các phương pháp mô hình hóa trình công nghệ hóa học 43 II.2 Khái quat xác định hệ cấu trúc hệ 43 II.3 Xác định hàm toán mô tả hệ 43 II.4 Xác định thông số mô hình thống kê hai mức tối ưu 43 II.5 Kiểm tra tính tương hợp mô hình cải tiến mô hình 46 Chương III: Thiết lập mô hình thực nghiệm hai mức tối ­u bËc mét III.1 Mơc ®Ých thÝ nghiƯm 49 49 Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in III.2 Dụng cụ thí nghiệm - hóa chất 50 III.3 Mô tả thí nghiệm xác định thêi gian chiÕu tia UV lªn mùc 50 III.4 TiÕn hành thí nghiệm 52 III.5 Thiết lập mô hình 55 III.6 Tối ưu hoá mô hình 59 III.6.1 Đặt vấn đề 59 III.6.2 Xây dựng thuật toán cho phương pháp tèi ­u ho¸ kiĨu l­íi 61 III.7 Thùc nghiƯm kiĨm tra lại kết thành phần chất tẩy rửa đạt hiệu suất rửa theo kết tối ưu đà thu ®­ỵc 65 III.7.1 KiĨm tra hiƯu st tÈy rưa b»ng chất tẩy rửa theo thành phần tối ưu đà thu 65 III.7.2 Kiểm tra phá hủy lớp mực UV lô cao su cách đo phổ hồng ngoại phổ Raman mực trước sau tÈy rưa 66 III.9 So s¸nh chÊt tÈy rưa nhËp ngoại ACEDINFORM 171 (1) chất tẩy rửa chế tạo phòng thí nghiệm (2) 71 Kết luận 72 Tài liệu tham khảo 73 Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học Chương I: Ngành Công nghệ in Tỉng quan vỊ mùc in offset vµ chÊt tÈy rưa mực in I.1 Mực in offset công nghệ in offset I.1.1 Khái quát công nghệ in Offset In offset kỹ thuật in ấn đó, hình ảnh dính mực in ép lên cao su (còn gọi offset) trước ép từ miếng cao su lên giấy Khi sử dụng với in thạch bản, kỹ thuật tránh việc làm nước bị dính lên giấy theo mực in In offset ngày trở thành kỹ thuật in phổ biến in ấn thương mại Tuy in ấn dành cho thú vui cá nhân, người ta tạo số sách với chất lượng cao, sử dụng cách in trực tiếp Một số người thích đường nét chìm để lại giấy từ việc in trực tiếp Thậm chí số sách kiểu cịn in in xếp từ chữ chì, cơng nghệ in typo, cơng nghệ cổ Máy in dùng kỹ thuật offset thạch đời Anh khoảng năm 1875 thiết kế để in lên kim loại Trống offset làm giấy tơng truyền hình ảnh cần in từ in thạch sang bề mặt kim loại Khoảng năm sau, giấy tông thay cao su Người áp dụng kỹ thuật in offset cho in ấn giấy Ira Washington Rubel năm 1903 Ơng tình cờ nhận thấy tờ giấy không đưa vào máy in thạch ông cách nhịp, in thạch in lên trống in bọc cao su, tờ giấy cho vào bị dính hình: in thạch mặt in dính từ trống in mặt Rubel nhận thấy hình ảnh in từ trống in cao su nét miếng cao su mềm áp lên giấy in đá cứng Ông NguyÔn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành C«ng nghƯ in định in thơng qua cao su Độc lập với Rubel, hai anh em Charles Harris Albert Harris phát điều chế tạo máy in offset cho Công ty In n T ng Harris Hệ thống đèn UV Lô hướng giấy Hình I.1: Sơ đồ nguyên lý máy in offset dïng mùc UV Sơ đồ nguyên lý cấu tạo làm việc máy in offset trình bày hình I.1 Máy gồm lơ lắp in tiếp xúc chặt với lô chà ẩm mực in Một lô lắp cao su tiếp xúc bên lô lắp in Lô ép in bên có nhiệm vụ ấn chặt tờ giấy vào trống cao su để truyền chữ hình ảnh Ngày nay, nguyên lý dùng, nhiều cải tiến thực để in hai mặt giấy hay dùng giấy cuộn giấy (thay cỏc t giy ri) Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Nguyờn lý làm việc máy sau: Bản in từ khâu chế xong lắp vào lô lắp Trong trình quay in chà dung dịch ẩm trước sau chà mực in Những phần tử khơng in nhận dung dịch ẩm phần tử in (chữ hình ảnh) nhận mực Vì phương pháp in offet in gián tiếp nên phần tử in (là chữ hình ảnh) truyền lên lô cao su từ truyền lên tờ giấy in Khi in mực UV, sau nhận hình ảnh từ lơ cao su truyền sang, tờ in chiếu hệ thống đèn UV làm khô mực UV tờ in Tấm cao su lô cao su truyền in sang tờ in sau thời gian in, mực lại cao su bị ánh sáng tự nhiên phần tia UV hệ thống đèn UV làm khô dần làm bẩn lô cao su nên người ta phải tẩy rửa lô để làm cho lô không bị bẩn nhằm nâng cao chất lượng sản phẩm in Mặt khác, in màu mực khác, người ta phải rửa lơ cao su Do sản xuất chất tẩy rửa nhiệm vụ luận văn Từ năm cuối kỷ XIX đến nay, in offset trở thành kỹ thuật in phổ biến cho in ấn thương mại sau nhiều cải tiến thực cho máy in, in, mực in giấy, tốc độ in tuổi thọ in ngày tăng cao Ngày nay, đa số loại sản phẩm in sử dụng kỹ thuật NguyÔn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Hình I.2: Một máy in offset đại I.1.2 Mực in offset Hiện thị trường tồn nhiều loại mực in khác Tùy theo phương pháp in, đặc điểm bề mặt vật liệu in mục đích sử dụng sản phẩm in khác mà mực in sử dụng khác Do mà chủng loại mực in có tính phong phú đa dạng Ngày in offset đà trở nên phổ biến có rÊt nhiỊu ­u ®iĨm nh­: - Chất lượng hình ảnh cao, nét in trực tiếp từ in lên giấy lơ cao su áp lên bề mặt cần in - Khả ứng dụng in ấn lên nhiều dạng bề mặt, kể bề mặt không phẳng (như gỗ, vải, kim loại, da, giấy thô nhám) - Việc chế tạo in dễ dàng tiện lợi - Các in có tuổi thọ lâu – khơng phải trực tiếp tiếp xúc với bề mặt cần in nên giảm mi mũn Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học 59 Ngành Công nghệ in Xét mô hình tìm ®­ỵc: yˆ = 94,55 + 1,08x1 - 0,82x2 + 1,86x1x2- 2,47x2x3+ 0,73x1x2x3 Trong ®ã: xi víi i = 1,3 : biến mà hoá thông số ảnh hưởng đến trình công nghệ y : hiệu suất tẩy rửa mực UV Nhận xét: Từ mô hình (III.3) ta thấy hiệu suất tẩy rửa phụ thuộc vào thành phần cđa ba chÊt tham gia vµo chÊt tÈy rưa víi hệ số tỷ lệ khác nhau: - Khi tăng x1 hiệu suất tẩy rửa tăng - Khi tăng x2 hiệu suất tẩy rửa giảm - Ngoài có tương tác kép tương tác ba ba yếu tố x1, x2, x3 lên hiệu suất tẩy rửa Để xác định thành phần yếu tố thành phần chất tẩy rửa cho hiệu suất tẩy rửa đạt giá trị lớn ta tiến hành tối ưu hóa mô hình (III.3) III.6 Tối ưu hoá mô hình III.6.1 Đặt vấn đề Để đánh giá ảnh hưởng biến chất thực (tức thông số công nghệ thực ảnh hưởng trực tiếp tới hiệu suất trình tẩy rửa mực UV), nhằm tính toán đưa giá trị tối ưu chúng cho hiệu suất tẩy rửa đạt giá trị lớn nhất, ta chuyển phương trình (III.3) với biến mà hoá xi phương trình với biến thùc Zi Chóng ta ®· biÕt quan hƯ cđa xi Zi theo công thức (II.3) (II.4), đo ta làm bước chuyển đổi ngược lại Khi thiết lập mô hình ta đà đặt biến thực sau: Nguyễn Duy Hưng 60 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Z1 = mMIBK , khèi l­ỵng MIBK (g) ( Z1max = 3; Z1min = 1) Z2 = mSDBS , khèi l­ỵng SDBS (g) ( Z 2max = 0,8; Z 2min = 0,2) Z3 = mIPA, khèi l­ỵng IPA (g) ( Z 3max = 0,8; Z 3min = 0,4) Thay giá trị vào (5.3) (5.4), ta được: Z1 = 1; Z10 = ∆Z2 = 0,3; Z 02 = 0,5 ∆Z3 = 0,2; Z 30 = 0,6 VËy x1 = (Z − 0,6) (Z1 − 2) (Z − 0,5) ; x2 = ; x3 = 0,3 0,2 (III.4) Thay biÓu thøc c¸c biÕn m· ho¸ x1, x2, x3 ë (III.4) vào phương trình hồi quy (III.3), ta có: = 94,55 + 1,08 y - 2,47 (Z − 2) (Z − 0,5) (Z1 − 2) (Z − 0,5) - 0,82 + 1,86 1 0,3 0,3 (Z − 2) (Z − 0,5) (Z − 0,6) (Z − 0,5) (Z − 0,6) + 0,73 1 0,3 0,2 0,3 0,2 Tóm lại phương trình håi quy thùc nghiƯm víi biÕn thùc: yˆ =79,81- 0,94Z1+ 27,9Z2+ 33,59Z3 – 1,42Z1Z2 – 6,35Z1Z3 – 67,17Z2Z3 + 12,17Z1Z2Z3 (III.5) Nhiệm vụ phải tìm giá trị cực đại y phương trình (II.21) theo biến thực Z1, Z2, Z3 Việc tìm giá trị tối ưu mô hình theo phương pháp trình bày [tr.295-303, 13], [1], sử dụng phương pháp tối ưu Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học 61 Ngành Công nghệ in hoá kiểu lưới Ưu điểm phương pháp với toán biến số tính toán nhanh, sai số kết tính toán chấp nhận kỹ thuật III.6.2 Xây dựng thuật toán cho phương pháp tối ưu hoá kiểu lưới Để thuận tiện, chia miền khảo sát thành lưới theo bước tuỳ chän nh­ sau: - Chia vïng biÕn thiªn cđa Z1 thành N1 = 10 khoảng với bước chia h1 =(Z1max- Z1min)/N1 - Chia vùng biến thiên Z2 thành N2 = 20 kho¶ng víi b­íc chia h2 =(Z2max- Z2min)/N2 - Chia vùng biến thiên Z3 thành N3 = 30 khoảng với bước chia h3 =(Z3max- Z3min)/N3 Với mạng lưới này, tính giá trị y phương trình (III.5) điểm nút lưới tìm giá trị cực đại chúng mảng ba chiều Sơ đồ khối mô tả thuật toán chương trình đưa hình III.1 Nguyễn Duy Hưng 62 Luận văn Thạc sỹ khoa học Begin Z2 Ngành Công nghÖ in NhËp Z1min, Z1max, N1, , Z2max, N2, Z3min, Z3max, N3 In ymin TÝnh h1, h2, h3 i1 = 0, i2 = 0, i3 = Z1=Z1min, Z2=Z2min, Z3=Z3min i1 = 0, i2 = 0, i3 = Z1=Z1min, Z2=Z2min, Z3=Z3min ymin= y(Z1,Z2,Z3) i1 = i1+1 i1 = i1+1 i1 ≤ N1 i1 ≤ N1 Z1 = Z1+ i1*h1 ymin=y(Z1,Z2,Z3) Z1 = Z1+ i1*h1 ymin≤y(Z1,Z2,Z3) In Z1 i2 = i2+1 ymin=y(Z1,Z2,Z3) i2 ≤ N2 i2 = i2+1 Z2 = Z2+ i2*h2 i2 ≤ N2 ymin=y(Z1,Z2,Z3) Z2 = Z2+ i2*h2 ymin≤y(Z1,Z2,Z3) In Z2 ymin=y(Z1,Z2,Z3) i3 = i3+1 i3 = i3+1 i3 ≤ N3 i3 ≤ N3 Z3 = Z3+ i3*h3 ymin=y(Z1,Z2,Z3) Z3 = Z3+ i3*h3 ymin≤y(Z1,Z2,Z3) ymin=y(Z1,Z2,Z3) In Z3 End Hình III.1: Sơ đồ khối mô tả thuật toán Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học 63 Ngành Công nghệ in Từ ta lập chương trình tính dùng ngôn ngữ Matlab, cách chia vùng khảo sát biến (xem bảng III.8) % Tinh cuc dai cua bai toan tinh hieu suat tay rua muc uv z10 z20 z30 m = for = 1.0; z11 = 3.0; n1 = 10; dz1= (z11-z10)/n1; = 0.2; z21 = 0.8; n2 = 20; dz2= (z21-z20)/n2; = 0.4; z31 = 0.8; n3 = 30; dz3= (z31-z30)/n3; f11(z10,z20,z30); n1 = 1:10 for n2 = 1:20 for n3 = 1:30 if f11(z10+n1*dz1,z20+n2*dz2,z30+n3*dz3) >= m m = f11(z10+n1*dz1,z20+n2*dz2,z30+n3*dz3); end end end end for n1 = 1:10 for n2 = 1:20 for n3 = 1:30 if f11(z10+n1*dz1,z20+n2*dz2,z30+n3*dz3) == m z1m = z10+n1*dz1; z2m = z20+n2*dz2; z3m = z30+n3*dz3; end end end end fprintf(' Gia tri cuc dai cua ham so la %f\n',m) fprintf(' Vi tri dat cuc dai la z1 = %f\n',z1m) fprintf(' z2 = %f\n',z2m) fprintf(' z3 = %f\n',z3m) B¶ng III.7: Chương trình tính tối ưu hàm thực nghiệm dùng ngôn ngữ Matlab Giá trị cực tiểu hàm dùng chương trình giải phần mềm ứng dụng Matlab III.7, kết trình bày bảng III.8 Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học 64 Ngành Công nghệ in To get started, type one of these: helpwin, helpdesk, or demo For product information, visit www.mathworks.com Gia tri cuc dai cua ham so la 95.810936 Vi tri dat cuc dai la z1 = 1.200000 z2 = 0.230000 z3 = 0.800000 BảngIII.8: Kết tính giá trị tối ưu hàm hồi quy (III.5) Từ kết tính toán ta thấy hiệu suất tẩy rửa đạt 95,81% khi: Z1= 1,20; Z2= 0,23; Z3= 0,80 Cã thĨ biĨu diƠn sù phơ thc cđa hiƯu st y phơ thc vµo ba u tè hệ tọa độ không gian lấy z1= 1,20 sau: Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học 65 Ngành Công nghệ in Hình III.2: Biểu đồ biĨu diƠn mèi quan hƯ gi÷a z2, z3 z1 = 1,2 III.7 Thực nghiệm kiểm tra kết thành phần chất tẩy rửa đạt hiệu suất rửa theo kết tối ưu đà thu Trên sở kết tối ưu ta tiến hành kiểm tra l¹i hiƯu st tÈy rưa víi chÊt tÈy rưa cã thành phần đà tìm III.7.1 Kiểm tra hiệu suất tẩy rửa chất tẩy rửa theo thành phần tối ưu đà thu Tiến hành 03 thí nghiệm với mẫu chất tẩy rửa có thành phần MIBK, SDBS, IPA tối ưu thu sau chạy phần mềm Matlab lµ: - mMIBK = 1,20g - mSDBS = 0,23g Nguyễn Duy Hưng 66 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in - mIPA = 0,80g Tiến hành thí nghiệm đà trình bày mục (III.4) ta thu kết bảng sau: mcao su mmực + cao su mmù+cao su sau rưa HiƯu st tÈy (g) (g) (g) röa(%) 1,85 2,09 1,86 96,00 1,79 1,99 1,80 95,00 1,89 2,11 1,90 95,83 STT B¶ng III.9: HiƯu st tÈy rưa mùc UV øng víi thành phần MIBK, SDBS tối ưu Vậy ta có hiệu suất tẩy rửa trung bình là: 96,00 + 95,00 + 95,83 = 95,61 %, kÕt qu¶ thùc tÕ thu phù hợp với tính toán lý thuyết III.7.2 Kiểm tra phá hủy lớp mực UV lô cao su cách đo phổ hồng ngoại phổ Raman cđa mùc tr­íc vµ sau tÈy rưa Mơc đích chụp phổ hồng ngoại Raman xem chất tẩy rửa có trung hòa gốc cacboxyl (-COOH) mực UV hay không Nhận xét: Kết chụp phổ hồng ngoại Raman mực cho thấy mùc cã chøa nhãm cacboxyl (-COOH) thĨ hiƯn ë c¸c pitch 2939.6 cm-1 (hình III.3) 1714.3cm-1 (hình III.5) Sau sử dụng dung dịch tẩy rửa nhóm cacboxyl việc không thấy xuất picth thể hình III.4 III.6 Điều giải thích chất tẩy rửa có thành phần SDBS có tính kiềm đà trung hòa gốc cacboxyl (-COOH) mực in UV Kết chụp phổ hồng ngoại Raman biểu diễn hình sau: Nguyễn Duy Hưng %Transmittance 50 55 60 65 70 75 80 85 90 95 3500 Mau M 3000 Mau M 2500 2000 Wavenumbers (cm-1) Nicolet 6700 FT-IR Spectrometer 1500 984.3 1119.1 1068.1 608.9 555.7 500 67 660.6 809.5 873.7 1198.6 1273.7 Number of background scans:128 Number of sample scans: 128 Resolution: cm-1 1000 1016.6 706.3 748.0 100 Title 1556.6 1586.9 1606.0 1448.0 1477.3 1406.9 1343.1 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Hình III.3: Phổ hồng ngoại mực trước tÈy rưa Ngun Duy H­ng 418 1724.1 2939.6 2870.8 3173.5 3273.1 %Transmittance 4000 82 84 86 88 90 92 94 96 3500 3000 Mau Cl (lan2) 2500 2000 Wavenumbers (cm-1) 1500 Nicolet 6700 FT-IR Spectrometer 1188.7 1127.6 500 68 471.7 670.1 836.5 1343.8 1454.5 Number of background scans:128 Number of sample scans: 128 Resolution: cm-1 1000 583.7 618.0 98 Mau Cl (lan2) Title 1560.1 1584.0 1606.3 1013.2 1042.2 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Hình III.4: Phổ hồng ngoại mực sau tÈy NguyÔn Duy H­ng 1637.7 1719.9 2926.6 2856.3 3437.7 Raman intensity 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 3.5 4.0 3500 3068.6 3000 2500 Mau M 1944.2 2000 Raman shift (cm-1) 1594.3 1500 1564.0 4.5 Sample: 1486.6 1451.0 1261.8 1237.4 5.0 Mau M 2244.3 2266.1 2202.1 1107.1 1037.8 500 69 349.9 1180.7 Number of sample scans: 256 Resolution: 2.0000 1064nm excitation laser 1000 750.0 718.4 5.5 2111.9 2077.3 Nicolet 6700 NRX FT-Raman Module Spectrometer 974.1 949.0 493.9 458.0 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Hình III.5: Phỉ Raman cđa mùc tr­íc tÈy Ngun Duy H­ng 181.7 1319.2 1367.4 1643.0 1714.3 2938.1 Raman intensity 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 3.5 3500 3000 2500 Sample: 1946.0 2120.9 2000 Raman shift (cm-1) Mau Cl 1594.4 1483.2 1500 1567.0 4.0 Mau Cl 980.1 1104.3 1038.0 70 458.0 643.5 1179.1 Number of sample scans: 256 Resolution: 2.0000 1064nm excitation laser 1000 500 Nicolet 6700 NRX FT-Raman Module Spectrometer 747.0 719.6 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghƯ in H×nh III.6: Phỉ Raman cđa mùc sau tÈy rưa Ngun Duy H­ng 181.8 1315.5 1235.2 1378.7 1647.4 3387.0 Luận văn Thạc sỹ khoa học 71 Ngành Công nghệ in III.9 So sánh chất tẩy rửa nhập ngoại ACEDINFORM 171 (1) chất tẩy rửa chế tạo phòng thí nghiệm (2) Chất tẩy rửa (1) nặng mùi hắc dung môi hữu nên gây ảnh hưởng không tốt tới sức khỏe người trình sản xuất Trong chất tẩy rửa (2) có mùi dung môi nhẹ chứng tỏ không gây ¶nh h­ëng nhiỊu tíi søc kháe ng­êi VỊ giá: Chất tẩy rửa (1) có giá 523.000đồng/lít chất tẩy rửa (2) theo tính toán có giá khoảng 125.000đồng/lít Như khả tẩy rửa, vấn đề môi trường sức khỏe người lao động giá chất tẩy rửa chế tạo phòng thí nghiệm thay chất tẩy rửa phải nhập ngoại Nguyễn Duy Hưng Luận văn Thạc sỹ khoa học 72 Ngành Công nghƯ in KÕt ln ViƯc tÈy rưa mùc in UV lô cao su công nghiệp in offset cho ®Õn ë n­íc ta chđ u dïng c¸c chÊt tẩy rửa nhập ngoại Đa số chất tẩy rửa có mùi hắc đặc trưng cho dung môi, gây ô nhiễm môi trường sức khỏe người lao động Quá trình nghiên cứu phòng thí nghiệm đà thành công chế tạo chất tẩy gốc nước để rửa mực in UV offset Dung dịch tẩy rửa có khả tẩy rửa hoàn toàn mực UV, thân thiện với môi trường người sử dụng Sau tẩy rửa dung dịch không làm biến đổi tính chất bề mặt lô cao su lô bản, sản phẩm thử nghiệm kiểm tra phòng thí nghiệm cho kết tốt Dung dịch tẩy rửa dạng hướng nghiên cứu phát triển mạnh mẽ giới Đây đề tài có tính ứng dụng thực tiễn cao hy vọng tương lai thay dần chất tẩy rửa phải nhập ngoại Em xin bày tỏ lòng biết ơn tới TS Trần Văn Thắng Thầy giáo Phùng Anh Tuân, Thầy, Cô giáo Bộ môn Công nghệ in đà tận tình giúp đỡ em suốt trình thực đề tài Thay mặt nhóm nghiên cứu thực đề tài, em xin chân thành cảm ơn Trường Đại học Bách Khoa Hà Nội đà hỗ trợ kinh phí thực đề tài Em xin chân thành cảm ơn! Học viên: Nguyễn Duy Hưng Nguyễn Duy Hưng 73 Luận văn Thạc sỹ khoa học Ngành Công nghệ in Tài liệu tham khảo Nguyễn Minh Tuyển, (1987), Các phương pháp triển khai Công nghệ Hóa học, Nhà xuất Khoa học Kỹ thuật Nguyễn Minh Tuyển, Phạm Văn Thiêm, (1997), Kỹ thuật hệ thống Công nghệ Hóa học(Tập I), Nhà xuất Khoa học Kỹ thuật Nguyễn Văn Hạnh, (2005), Máy thiết bị in, Nhà xuất Khoa học Kỹ thuËt Sachdev, Harbans S, United States Patent Application, 20020094939, July 18, 2002 Mackenzie and H.G Smith, The printing ink manual, reprinted 1999, 2002, 2004 Helmut Kipphan (Ed.), Hand book of print media, April 2000 Web site: http://vi.wikipedia.org Web site: http://www.hoahocvietnam.com Web site: http://ebook.moet.gov.vn 10 Web site: http://www.sciencegeek.net NguyÔn Duy H­ng ... giấy in Khi in mực UV, sau nhận hình ảnh từ lơ cao su truyền sang, tờ in chiếu hệ thống đèn UV làm khô mực UV tờ in Tấm cao su lô cao su truyền in sang tờ in sau thời gian in, mực lại cao su bị... nghệ in Tỉng quan vỊ mùc in offset vµ chÊt tÈy rưa mực in I.1 Mực in offset công nghệ in offset I.1.1 Khái quát công nghệ in Offset In offset kỹ thuật in ấn đó, hình ảnh dính mực in ép lên cao su. .. lượng sản phẩm in ta phải tiến hành tẩy rửa lô I.2.3.6 Sự khô mực trình in offset: Trong trình in offset sử dụng mực in UV, sau in xong sản phẩm làm khô ánh sáng UV Thực tế, chất tạo màng mực UV