Hình 1.1
Cấu trúc tinh thể vàng (Trang 11)
Hình 1.3
Phổ hấp thụ mô phỏng của các hạt vàng kích th−ớc 10 nm trong môi tr−ờng có các hằng số điện môi: 1,0; 1,77; 2,0 và 2,5 [30] (Trang 16)
Hình 1.4
Phổ hấp thụ mô phỏng của các hạt nanô vàng 10 nm trong môi tr−ờng cóhằng số điện môi ε m =2.5 khi thay đổi khoảng cách tách giữa (Trang 18)
Hình 1.5
Phổ kích thích và bức xạ của các đám nanô có kích thước khác nhau [19] (Trang 19)
Hình 2.1
Sự phản xạ chọn lọc trên một họ mặt phẳng (hkl) (Trang 22)
Hình 2.2
Sơ đồ nguyên lý hoạt động của hiển vi điện tử quét [8] (Trang 24)
Hình 2.3
Sơ đồ khối thiết bị TEM (Trang 26)
Hình 3.1
Quy trình chế tạo keo vàng bằng ph−ơng pháp quang hoá (Trang 32)
Hình 3.2
Quy trình chế tạo keo vàng bằng ph−ơng pháp hoá (Trang 35)
Bảng 3.6
Các mẫu keo vàng đ−ợc chế tạo bằng ph−ơng pháp hoá khử khi có chất hoạt động bề mặt C 19 H 42 BrN (Trang 37)
Bảng 3.7
Các mẫu keo vàng đ−ợc chế tạo bằng ph−ơng pháp khử nhiệt, thay đổi nhiệt độ ủ khác nhau (Trang 38)
Hình 4.1
và 4.2 là giản đồ nhiễu xạ tia X của các mẫu keo vàng đ−ợc chế tạo bằng phương pháp hoá khử và phương pháp khử nhiệt (Trang 39)
Bảng 4.1
Các mặt phẳng nhiễu xạ của tinh thể vàng (Trang 40)
Hình 4.2
Giản đồ nhiễu xạ tia X của mẫu KT4 chế tạo bằng ph−ơng pháp khử nhiệt (Trang 40)