TẠP CHÍ KHOA HỌC, Đại học Huế, Tập 74B, Số 5, (2012), 65-74
65
NGHIÊN CỨUXÁCĐỊNHCADMI,CHÌVÀĐỒNGBẰNGPHƯƠNGPHÁP
VON-AMPE HÒATANANOTSỬDỤNGĐIỆNCỰCMÀNGTHỦYNGÂN
TRÊN NỀNPASTECARBON
Nguyễn Văn Hợp, Bùi Thị Ngọc Bích, Nguyễn Hải Phong, Võ Thị Bích Vân
Khoa Hóa, Trường Đại học Khoa học, Đại học Huế
Tóm tắt. Điệncựcmàngthủyngân tạo ra theo kiểu in situ trênnền đĩa rắn pastecarbon
(hay điệncực MFE/PC) được dùng cho phươngphápvon-ampehòatananot sóng vuông
(SqW-ASV) để xácđịnh cadmi (Cd), chì (Pb) vàđồng (Cu) trong nền đệm axetat. Các yếu
tố ảnh hưởng đến dòngđỉnhhòatan (I
p
) của Cd, Pb và Cu như: nồng độ Hg
II
, thế và thời
gian điện phân làm giàu, các thông số kỹ thuật von-ampe sóng vuông, các chất cản trở…
cũng được khảo sát. Ở thế điện phân làm giàu -1100 mV, thời gian điện phân làm giàu 120 s
và các điều kiện thí nghiệm khác thích hợp, phươngpháp đạt được độ nhạy cao (tương ứng
đối với Cd, Pb và Cu là 1,7 ± 0,1; 1,4 ± 0,3 và 1,0 ± 0,1 µA/ppb), độ lặp lại tốt của I
p
(RSD
3%, n = 8 đối với cả Cd, Pb và Cu), giới hạn phát hiện (3) thấp (tương ứng đối với Cd,
Pb và Cu là 0,3; 1,1 và 0,3 ppb); giữa I
p
và nồng độ Cd
II
, Pb
II
, Cu
II
có tương quan tuyến tính
tốt trong khoảng 2 – 60 ppb với R > 0,98. So sánh với điệncựcmàngthủyngân in situ trên
nền đĩa rắn glassy carbon (MFE/GC), điệncực MFE/PC đạt được độ lặp lại cao hơn và độ
nhạy không thua kém điệncực MFE/GC. Kết quả kiểm tra chất lượng của phươngpháp
trên mẫu thực tế cho thấy: phươngpháp đạt được độ lặp lại tốt đối với Pb và Cu (RSD <
10%, n = 3), đạt được độ đúng tốt với độ thu hồi tương ứng đối với Cd, Pb và Cu là 84 –
96%, 86 – 98% và 84 – 95%.
1. Mở đầu
Phương phápvon-ampehòatan đã và đang được thừa nhận là một trong những
phương pháp đạt được độ nhạy cao khi phân tích các kim loại nặng, trong đó có Cd, Pb
và Cu – một trong những kim loại có độc tính cao và thường có mặt ở mức vết và siêu
vết trong các đối tượng sinh hóavà môi trường [2]. Hiện nay, đa số các nghiêncứu về
phương phápvon-ampehòatantrên thế giới cũng như ở nước ta hầu hết đều sửdụng
điện cực làm việc là điệncực giọt thủyngân treo (HMDE) hoặc điệncực giọt thủyngân
tĩnh (SMDE). Loại điệncực đó cho độ lặp lại tốt, nhưng khó chế tạo và đòi hỏi phải
thao tác, bảo quản cẩn thận, nếu không dễ bị tắc mao quản. Trong nhiều năm qua, người
ta đã nghiêncứu phát triển nhiều điệncựcmàng kim loại (Hg, Bi, Ag…) trênnền vật
liệu rắn trơ như graphite carbon (than graphit), glassy carbon (than thủy tinh), paste
carbon (than nhão), nano carbon (than nano)… [4, 5, 6]. Ở Việt Nam đã có nhiều nghiên
66 NghiêncứuxácđịnhCadmi,chìvàđồngbằngphương pháp…
cứu phân tích các kim loại độc bằngphươngpháp von–ampe hòatansửdụng các điện
cực làm việc khác nhau: HMDE, điệncựcmàngthủyngân (MFE), điệncựcmàng
bismut (BiFE) trênnền than thủy tinh [1]… Nhưng những nghiêncứusửdụngđiệncực
màng kim loại trênnềnpastecarbon còn rất hạn chế. Bài báo này đề cập đến các kết quả
nghiên cứu phát triển điệncực MFE/PC để xác địnhđồng thời Cd, Pb và Cu bằng
phương phápvon-ampehòatananot sóng vuông (SqW-ASV) trong nền đệm axetat (pH
= 4,5).
2. Phươngphápnghiêncứu
2.1. Thiết bị vàhóa chất
Thiết bị VA 693 Processor và hệ điệncực 694 VA-Stand của hãng Metrohm,
Switzeland gồm 3 điệncực (điện cực đĩa rắn pastecarbon đường kính 3,0 ± 0,1 mm tự chế
tạo, điệncực so sánh Ag/AgCl/KCl 3M vàđiệncực đối Pt) được sửdụng cho nghiên cứu.
Các hóa chất được sửdụng là hóa chất tinh khiết phân tích của hãng Merck,
gồm: CH
3
COONa, CH
3
COOH, HNO
3
, HCl, HF, Hg
II
, Pb
II
, Cd
II
, Cu
II
, Zn
II
, Triton X-100.
Nước cất hai lần (Fistream Cyclon, England) được sửdụng để pha chế hóa chất và tráng,
rửa các dụng cụ thủy tinh.
2.2. Chuẩn bị điệncực làm việc - điệncực MFE/PC
Chuẩn bị điệncực nền: cân 0,2 g pastecarbon (Metrohm, Swirtzeland), sau đó
nhồi bột pastecarbon đó vào ống Teflon dài 52 mm, đường kính trong 3,0 ± 0,1 mm, đã
được bịt một đầu bằng chốt kim loại để tạo tiếp xúc giữa pastecarbonvà thiết bị ghi đo.
Tiếp theo, dùng một thanh inox có đường kính d
2,95 mm để nénpastecarbon vào
một đầu của ống Teflon vàdùng búa gõ nhẹ lên đầu phía trên của thanh inox để nén chặt
bột carbonpaste vào ống Teflon. Cuối cùng, cho điệncựcnền quay vàdùng giấy mềm
để mài và đánh bóng bề mặt điệncực cho đến khi bề mặt điệncực phẳng đều. Sau đó,
tia rửa điệncựcbằng nước sạch (nước cất hai lần).
Điện cựcnền được nhúng vào dung dịch nghiêncứu chứa ion Hg(II), đệm axetat
(pH = 4,5) và các kim loại cần khảo sát. Màngthủyngân in situ được hình thành trên bề
mặt điệncựcpastecarbon (PC) trong giai đoạn làm giàu ở thế và thời gian xác định, tạo
ra điệncực làm việc MFE/PC.
2.3. Tiến trình ghi đường von-ampehòatan
Tiến hành điện phân dung dịch nghiêncứu (chứa Cd
II
, Pb
II
, Cu
II
, Hg
II
và đệm
axetat 0,2 M, pH = 4,5) để kết tủa đồng thời Cd, Pb, Cu và Hg lên bề mặt điệncực PC ở
thế -1100 mV (E
đp
) trong thời gian 120 s (t
đp
). Trong giai đoạn điện phân, điệncực quay
với tốc độ không đổi (ω) và lúc này, Hg kim loại bám trên bề mặt điệncực PC tạo ra
điện cực MFE/PC vàđồng thời Cd, Pb và Cu được làm giàu trên bề mặt điệncực (do
nồng độ Cd và Pb trên bề mặt điệncực lớn hơn nhiều so với nồng độ của chúng trong
dung dịch). Kết thúc giai đoạn làm giàu, ngừng quay điệncực 10 – 15 s (t
rest
) và tiến
NGUYỄN VĂN HỢP VÀ CS 67
hành quét thế biến thiên tuyến tính theo thời gian với tốc độ không đổi theo chiều anot
(từ -1100 đến +500 mV) vàđồng thời ghi tín hiệu hòatanbằng kỹ thuật von-ampe sóng
vuông với các thông số kỹ thuật thích hợp, thu được đường von-ampehòatan có dạng
đỉnh. Kết thúc giai đoạn hòa tan, tiến hành làm sạch bề mặt điệncựcbằng cách giữ thế
trên điệncực ở +500 mV (E
clean
) trong thời gian 30 s (t
clean
) để hòatan hoàn toàn Hg và
các kim loại khác (có thể có) khỏi bề mặt điện cực.
Cuối cùng, xácđịnh thế đỉnh (E
p
) vàdòngđỉnhhòatan (I
p
) của Cd, Pb và Cu từ
đường von-ampe thu được. Đường von-ampehòatan đối với mẫu trắng – mẫu được
chuẩn bị từ nước cất, có thành phần tương tự như dung dịch nghiên cứu, nhưng không
chứa Cd
II
, Pb
II
và Cu
II
– cũng được ghi tương tự như trên. Tiến hành định lượng Cd, Pb
và Cu bằngphươngpháp thêm chuẩn (3 – 4 lần thêm). Trong mọi trường hợp, luôn bỏ
kết quả của phép ghi đầu tiên, vì nó thường không ổn định. Toàn bộ tiến trình ghi đường
von-ampe hòatan được điều khiển tự động theo một chương trình được đưa vào từ bàn
phím.
3. Kết quả và thảo luận
3.1. Ảnh hưởng của nồng độ Hg
II
Tiến hành thí nghiệm với các nồng độ Hg
II
khác nhau trong khoảng 2 ppm – 12
ppm, thu được các kết quả ở bảng 1 và hình 1.
Bảng 1. Ảnh hưởng của nồng độ Hg(II) đến I
p
của Cd, Pb và Cu
(*)
C
Hg(II)
, ppm
2 4 5 6 8 10 12
I
p
(Cd), µA
2,63 4,08 4,60 5,00 5,36 5,43 5,45
I
p
(Pb), µA 2,50 3,71 4,31 4,82 5,17 5,25 5,33
I
p
(Cu), µA 1,84 2,82 3,09 2,69 2,18 1,74 1,48
(*)
Điều kiện thí nghiệm (ĐKTN): mỗi kim loại 5 ppb; đệm axetat (Ax) pH = 4,5 (HAx
0,1M + NaAx 0.1 M); Hg
II
5 ppm; E
đp
= -1200 mV; t
đp
= 60 s;
= 1600 vòng/phút; t
rest
= 15 s;
khoảng quét thế (E
range
) = -1200 mV
+500 mV; E
clean
=
500 mV, t
clean
= 30 s; SqW mode: biên
độ sóng vuông ΔE = 50 mV, tần số sóng vuông f = 50 Hz, thời gian mỗi bước thế t
step
= 0,3 s,
thời gian ghi dòng t
meas
= 2 ms, tốc độ quét thế v = 40 mV/s.
0 2 4 6 8 10 12 14
0
1
2
3
4
5
6
C
Hg(II)
, ppm
I
p
, A
Cd
Pb
Cu
Hình 1. Ảnh hưởng của nồng độ Hg
II
đến I
p
của Cd, Pb và Cu.
ĐKTN: mỗi kim loại 5 ppb; các ĐKTN khác như ở bảng 1.
68 NghiêncứuxácđịnhCadmi,chìvàđồngbằngphương pháp…
Khi nồng độ Hg
II
lớn hơn 5 ppm, I
p
của Cd và Pb có xu hướng tăng nhẹ, I
p
của
Cu giảm mạnh. Theo chúng tôi, do thế đỉnhhòatan của Cu gần với thế đỉnhhòatan của
Hg hơn so với Cd và Pb, nên khi tăng nồng độ Hg
II
nhánh phải đỉnhhòatan của Cu bị
dâng lên. Hay nói cách khác, đỉnhhòatan của Hg xen phủ một phần đỉnhhòatan của
Cu dẫn đến I
p
của Cu giảm. Nồng độ Hg
II
5 ppm là thích hợp, vì tại đó I
p
của Cu đạt giá
trị lớn nhất.
3.2. Ảnh hưởng của thế điện phân làm giàu
-1400 -1200 -1000 -800
0
2
4
6
8
10
E
®p
, mV
I
p
, A
Cd
Pb
Cu
Hình 2. Ảnh hưởng của E
đp
đến I
p
của Cd, Pb và Cu
ĐKTN: mỗi kim loại 5 ppb; Hg
II
5 ppm; các ĐKTN khác như ở bảng 1.
Ở những thế điện phân làm giàu (E
đp
) âm hơn -1100 mV, là những thế thích hợp
cho sự tích lũy cả Zn, Co, Ni (nếu có trong dung dịch) trên bề mặt điệncực MFE/PC,
nên có thể ảnh hưởng đến sự làm giàu Cd, Pb và đặc biệt là Cu, dẫn đến làm giảm I
p
của
Cu (hình 2). Ở những thế dương hơn -1100 mV, là những thế gần với thế đỉnhhòatan
của Cd và Pb, nênsự làm giàu Cd và Pb trên bề mặt điệncực cũng kém hiệu quả, dẫn
đến làm giảm I
p
. E
đp
thích hợp là -1100 mV.
3.3. Ảnh hưởng của thời gian điện phân làm giàu
0 50 100 150 200 250 300 350
0
5
10
15
20
25
30
35
R = 0,996
R = 0,994
R = 0,991
I
p
, A
t
®p
, s
Cd
Pb
Cu
Hình 3. Sự phụ thuộc của I
p
vào t
đp
ĐKTN: mỗi kim loại 5 ppb; Hg
II
5 ppm; E
đp
= -1200 mV;
các ĐKTN khác như ở bảng 1.
Trong khoảng thời gian điện phân làm giàu (t
đp
) 30 - 300 s, giữa I
p
và t
đp
có
tương quan tuyến tính tốt với R 0,99 đối với cả Cd, Pb và Cu (hình 3). Khi tăng t
đp
,
NGUYỄN VĂN HỢP VÀ CS 69
hiệu quả làm giàu tăng và do đó làm tăng I
p
của Cd, Pb và Cu. Tuy nhiên, khi t
đp
tăng,
sẽ làm tăng thời gian phân tích vàđồng thời, có thể tích lũy thêm các kim loại cản trở
như Zn, In trên bề mặt điện cực. t
đp
thích hợp là 120 s (đối với những nồng độ mỗi
kim loại khoảng n ppb (n = 2 – 10).
3.4. Ảnh hưởng của tốc độ quay điệncực
Tốc độ quay cực () là điều kiện thủyđộng học quan trọng ảnh hưởng đến sự
chuyển khối và do đó tác động đến quá trình điện phân làm giàu. Kết quả khảo sát ảnh
hưởng của trong khoảng 1000 – 2400 vòng/phút (ở ĐKTN: mỗi kim loại 5 ppb; Hg
II
5
ppm; E
đp
= -1200 mV; t
đp
= 120 s và các ĐKTN khác như ở bảng 1) cho thấy, trênđiện
cực MFE/PC, giữa I
p
của kim loại và
1/2
có tương quan tuyến tính trong khoảng ω
khảo sát:
Đối với Cd: I
p
= (-3,62 ± 2,88) + (0,33 ± 0,07)
1/2
với R =0,993;
Đối với Pb: I
p
= (-7,77 ± 3,65) + (0,32 ± 0,09)
1/2
với R =0,988;
Đối với Cu: I
p
= (-2,93 ± 1,75) + (0,14 ± 0,04)
1/2
với R =0,985.
Ciceri. E. [5] khi khảo sát trênđiệncực HMDE, cũng cho rằng, có tương quan
tuyến tính giữa I
p
của kim loại và
1/2
. Giá trị = 1800 vòng/phút được chọn cho các
nghiên cứu tiếp theo.
3.5. Ảnh hưởng của các thông số kỹ thuật von-ampe sóng vuông
- Ảnh hưởng của tần số sóng vuông (f): Kết quả khảo sát (f) trong khoảng 30 ÷
70 Hz cho thấy; giữa f và I
p
của Cd, Pb và Cu có tương quan tuyến tính tốt với R > 0,98
đối với cả 3 kim loại. N.H.Phong [1] khi nghiêncứu ảnh hưởng của f đến I
p
trong
phương pháp SqW–ASV xácđịnh Pb trênđiệncực BiFE/GC, cũng cho rằng giữa I
p
và f
cũng có mối quan hệ tuyến tính. Kết quả này cũng phù hợp với thông báo ở [8]. Khi f >
50 Hz, độ lặp lại của I
p
đối với Cd và Cu có xu thế giảm. Giá trị f = 50 Hz được chọn cho
các nghiêncứu tiếp theo.
- Ảnh hưởng của biên độ sóng vuông (ΔE): Kết quả khảo sát ΔE trong khoảng
10 ÷ 50 mV cho thấy, có tương quan tuyến tính tốt giữa ΔE và I
p
của Cd, Pb và Cu với
R > 0,98. Kết quả này cũng phù hợp với thông báo ở [2]. Với giá trị ΔE = 45 mV, I
p
có
độ lặp lại khá tốt và do vậy, ΔE = 45 mV được chọn cho các thí nghiệm tiếp theo
- Ảnh hưởng của bước thế (U
step
): giữa v và
U
step
, f có quan hệ với nhau, nên khi
cố định f, v sẽ thay đổi khi U
step
thay đổi. Kết quả khảo sát U
step
trong khoảng 2
12
mV cho thấy, khi tăng U
step,
I
p
của Cd, Pb và Cu cũng tăng; nhưng khi U
step
> 8 mV, I
p
của Cd và Pb tăng chậm. Giá trị U
step
= 8 mV (hay v = 26,67 mV/s) là thích hợp vì ở
U
step
đó độ lặp lại của I
p
khá tốt (RSD < 5%, n = 4).
3.6. Ảnh hưởng của các chất cản trở
- Kẽm (Zn) là kim loại thường đi kèm với Cd, Pb, Cu trong các mẫu môi trường và
70 NghiêncứuxácđịnhCadmi,chìvàđồngbằngphương pháp…
Zn có đỉnhhòatan gần đỉnhhòatan của Cd, nên nó thường ảnh hưởng mạnh đến phép xác
định Cd, Pb và Cu. Kết quả thí nghiệm ở những nồng độ của Cd
II
, Pb
II
và Cu
II
cỡ 5 ppb
(ĐKTN: 5 ppm Hg
II
, E
đp
= -1200 mV; t
đp
= 120 s, = 1800 vòng/phút , ΔE = 50 mV, f
= 50 Hz, U
step
= 8 mV và các ĐKTN khác như ở bảng 1) cho thấy: khi tỉ lệ C
Zn(II)
/C
Cd(II)
và C
Zn(II)
/C
Pb(II)
(ppb/ppb) ≤ 40, Zn vẫn không ảnh hưởng đến phép xácđịnh Cd và Pb.
Tuy vậy, sự có mặt lượng lớn Zn đã làm giảm I
p
của Cu rất nhiều: khi C
Zn(II)
/C
Cu(II)
(ppb/ppb) ≥ 1,6; Zn đã ảnh hưởng mạnh đến phép xácđịnh Cu. Ảnh hưởng này được giải
thích là do sự hình thành hợp chất “gian kim loại” Cu-Zn trên bề mặt điệncực MFE/PC.
Hợp chất “gian kim loại” thường xuất hiện khi phân tích hỗn hợp các kim loại trên các điện
cực rắn hoặc điệncựcmàng kim loại [9].
Tuy vậy, trong khoảng nồng độ xácđịnh của cả 4 kim loại (Cd, Pb, Cu và Zn), vẫn
có thể xác địnhđồng thời chúng trênđiệncực MFE/PC. Tiến hành khảo sát trong trường
hợp dung dịch có mặt đồng thời 4 kim loại Cd, Pb, Cu và Zn ở mức nồng độ tương
đương nhau (5 ppb) cho thấy: có thể xác địnhđồng thời cả 4 kim loại trênđiệncực
MFE/PC bằngphươngpháp SqW–ASV; giữa I
p
và C
Me(II)
(Me = Zn, Cd, Pb, Cu) có
tương quan tuyến tính tốt với R > 0,99. Song, khi phân tích đồng thời cả 4 kim loại
trong các mẫu thực tế, trước hết cần kiểm tra độ đúngvà độ lặp lại của phươngpháp
SqW–ASV dùngđiện MFE/PC.
- Chất hoạt động bề mặt: Triton X-100 - chất hoạt động bề mặt tổng hợp không
ion điển hình - ảnh hưởng mạnh đến phép xácđịnh Cd, Pb và Cu khi nồng độ của nó
lớn hơn 4 ppm. Như vậy, nhất thiết phải loại trừ các chất hoạt động bề mặt và các chất
hữu cơ khác có mặt trong mẫu, trước khi tiến hành định lượng bằng cách phân hủy mẫu
với hỗn hợp axit hoặc chiếu xạ bằng bức xạ UV hoặc bằng vi sóng.
3.7. Độ lặp lại, độ nhạy, giới hạn phát hiện và khoảng tuyến tính
Độ lặp lại: Phươngpháp SqW-ASV với điệncực MFE/PC ở các ĐKTN thích
hợp (mỗi kim loại 5 ppb, Hg
II
5 ppm, E
đp
= -1100 mV; t
đp
= 120 s, = 1800 vòng/phút ,
ΔE = 50 mV, f = 50 Hz, U
step
= 8 mV), I
p
của cả Cd, Pb và Cu đều đạt được độ lặp lại tốt
với RSD 3% (n = 8). So sánh với điệncực MFE/GC (ở cùng điều kiện thí nghiệm như
đối với điệncực MFE/PC), I
p
trên điệncực MFE/PC có độ lặp lại tốt hơn so với trên
điện cực MFE/GC (RSD của I
p
trênđiệncực MFE/GC đối với Cd, Pb và Cu tương ứng là
5,2%, 5,8% và 8,7%).
Độ nhạy: Độ nhạy của phươngpháp được đánh giá qua độ dốc (b) của đường
hồi quy tuyến tính. Ở các ĐKTN thích hợp, phươngpháp SqW – ASV dùngđiệncực
MFE/PC đạt được độ nhạy khá cao, tương ứng đối với Cd, Pb và Cu là 1,7 ± 0,1; 1,4 ±
0,3 và 1,0 ± 0,1 µA/ppb. Độ nhạy này cũng không thua kém khi sửdụngđiệncực
MFE/GC (chỉ đạt được độ nhạy đối với Cd, Pb và Cu tương ứng là 2,56 ± 0,13; 1,02 ±
0,55 và 0,50 ± 0,08 µA/ppb).
Giới hạn phát hiện (LOD): Kết quả xácđịnh LOD theo quy tắc 3 cho thấy,
NGUYỄN VĂN HỢP VÀ CS 71
phương pháp SqW-ASV dùngđiệncực MFE/PC đạt được LOD thấp đối với Cd, Pb và
Cu tương ứng là 0,3, 1,1 ppb và 0,3 ppb (với E
đp
= -1200 mV và t
đp
= 120 s).
Khoảng tuyến tính: trong khoảng nồng độ mỗi kim loại 2 60 ppb, giữa I
p
và
nồng độ kim loại có tương quan tuyến tính tốt với R > 0,98 (hình 4A và 4B).
0 10 20 30 40 50 60
0
10
20
30
40
50
60
70
C
Me(II)
, ppb
I
p
, A
Cd
Pb
Cu
Hình 4A. Các đường von-ampehòatan của Cd,
Pb và Cu khi xácđịnh độ nhạy và LOD: a. nền,
b, c, d, e, f. 5 lần thêm, mỗi lần thêm 2 ppb mỗi
kim loại
Hình 4B. Đường hồi quy tuyến tính giữa I
p
và nồng độ kim loại (trong khoảng nồng độ
mỗi kim loại 2
60 ppb).
ĐKTN (chung cho hình 4A và 4B): đệm Ax pH = 4,5 (Hax 0,1 M + NaAx 0,1 M); Hg
II
5
ppm; E
đp
= -1100 mV; t
đp
= 120 s;
= 1800 vòng/phút; t
rest
= 15 s; E
range
= -1100 mV
+500
mV; SqW mode: ΔE = 50 mV, f = 50 Hz, t
step
= 0,3 s, t
meas
= 2 ms, v = 26,67 mV/s; E
clean
= +500
mV; t
clean
= 30 s.
3.8. Kiểm soát chất lượng của phươngpháp khi phân tích mẫu thực tế
Để khẳng định khả năng áp dụngphươngpháp SqW – ASV với điệncực
MFE/PC vào thực tế, cần kiểm tra chất lượng của phươngpháp qua độ lặp lại và độ
đúng.
Bảng 2. Kết quả kiểm tra độ lặp lại của phươngphápxácđịnh Cd, Pb và Cu
(*)
Mẫu
Cd Pb Cu
Nồng độ
xác
định được,
ppb
RSD(%)
Nồng độ xác
định được,
ppb
RSD(%)
(n = 3)
Nồng độ
xác định
được, ppb
RSD(%)
(n = 3)
TT1 < LOD kxđ 1,7 9 11,7 3
TT2 < LOD kxđ 6,3 5 2,2 4
(*)
ĐKTN: như ở hình 4A và 4B; giá trị RSD trong bảng là đối với nồng độ kim loại;
- TT1 và TT2 là 2 mẫu trầm tích được lấy ở phá Tam Giang vào ngày 28/4/2012 tại 2 vị
P
(A)
a
b
d
e
f
c
A
Cd
Cu
Pb
B
72 Nghiên cứuxácđịnh Cadmi, chìvàđồngbằngphương pháp…
trí khác nhau có tọa độ tương ứng là: 16
0
37
’
07 vĩ độ Bắc và 107
0
30
’
37 kinh độ Đông, 16
0
36
’
54
và 107
0
30
’
35; xử lý mẫu và phân hủy mẫu theo quy trình được thông báo ở [3] (phân hủy mẫu
bằng hỗn hợp axit HNO
3
, HCl, HF theo tỉ lệ thể tích là 1: 3: 1 (mL) trong bom Teflon đặt trong
tủ sấy 100 – 105
0
C trong 12 giờ);
- LOD đối với Cd là 0,3 ppb; kxđ: không xác định.
Kết quả ở bảng 3 cho thấy: phươngpháp đạt được độ lặp lại tốt đối với Pb và Cu
với RSD 10% (n = 3). Horwitz W. cho rằng, khi xácđịnh những nồng độ C cỡ 10 ppb,
nếu đạt được RSD không vượt quá 16% là đạt yêu cầu [7].
Mặt khác, phươngpháp SqW-ASV dùngđiệncực MFE/PC cũng đạt được độ
đúng tốt (khi phân tích mẫu thêm chuẩn) với độ thu hồi tương ứng đối với Cd, Pb và Cu
là 84 – 96%, 86 – 98% và 84 – 95% (hình 5, 6 vàbảng 3).
Hình 5. Các đường von-ampehòatan của Cd,
Pb và Cu đối với mẫu TT1: a. mẫu; b, c, d. 3
lần thêm, mỗi lần thêm 2 ppb Cd
II
, 1 ppb Pb
II
và 2 ppb Cu
II
.
ĐKTN: như ở hình 4A và 4B.
Hình 6. Các đường von-ampehòatan của Cd,
Pb và Cu đối với mẫu TT2: a. mẫu; b, c, d. 3
lần thêm, mỗi lần thêm 2 ppb Cd
II
, 1 ppb Pb
II
và 2 ppb Cu
II
.
ĐKTN: như ở hình 4A và 4B.
Bảng 3. Kết quả xácđịnh độ đúng của phươngpháp SqW - ASV dùngđiệncực MFE/PC
(*)
Mẫu
Nồng độ kim loại
trong mẫu xácđịnh
được (ppb), x
1
Nồng độ kim
loại thêm
chuẩn (ppb), x
0
Nồng độ kim
loại trong mẫu
đã thêm chuẩn
xác định được
(ppb),
x
2
Rev, %
Cd Pb Cu Cd Pb
Cu
Cd Pb
Cu
Cd Pb
Cu
TT1 < LOD 1,7 11,6 4 4 4 3,6 4,9 13,1
84 86 84
TT2 < LOD 6,3 2,2 2 4 2 2,2 10,1 4,0 96 98 95
(*)
Rev (độ thu hồi) = 100*x
2
/(x
1
+x
0
); LOD đối với Cd là 0,3 ppb; để tính Rev đối với
a
b
d
c
d
b
a
c
NGUYỄN VĂN HỢP VÀ CS 73
Cd, chấp nhận x
1
= LOD = 0,3 ppb. ĐKTN: như ở hình 4A và 4B.
4. Kết luận
Điện cựcmàngthủyngântrênnềnpastecarbon (MFE/PC) có thể sửdụng cho
phương pháp SqW – ASV để xácđịnh lượng vết Cd, Pb và Cu. Phươngpháp này đạt
được độ nhạy cao (tương ứng đối với Cd, Pb và Cu là 1,7 ± 0,1; 1,4 ± 0,3 và 1,0 ± 0,1
µA/ppb), độ lặp lại tốt (RSD của I
p
3%, n = 8 đối với cả Cd, Pb và Cu), giới hạn phát
hiện (LOD) thấp (0,3 – 1,1 ppb đối với cả 3 kim loại); giữa Ip và nồng độ Cd
II
, Pb
II
, Cu
II
có tương quan tuyến tính tốt trong khoảng 2 – 60 ppb với R > 0,98. Điệncực MFE/PC
là một trong những kiểu điệncực chưa được nghiêncứu nhiều ở nước ta, nên những vấn
đề về lý thuyết và thực nghiệm đối với nó cần được tiếp tục nghiêncứuchi tiết thêm.
TÀI LIỆU THAM KHẢO
[1]. Nguyễn Hải Phong, Nghiêncứuxácđịnh cadmi trong một số mẫu môi trường bằng
phương phápvon-ampehòatan hấp phụ, Luận án Tiến sĩ Hóa học, Trường Đại học
Khoa học Tự nhiên – Đại học Quốc gia Hà Nội, 2011.
[2]. Bard A. J., Farlkner L. R., Electrochemical Methods, 2
th
Edition, John Wiley & Sons
Inc., USA, 2001.
[3]. Bettinelli M., Beone G.M., Spezia S., Baffi C., Determination of heavy metals in soils
and sediments by microwave-assisted digestion and inductively coupled plasma optical
emission spectrometry analysis, Analytica Chimica Acta, Vol. 424, (2000), 289 – 296.
[4]. Carvalho L. M., Nascimento P. C., Koschinsky A., Bau M., Stefanello R. F., Spengler
C., Bohrer D., Jost C., Simultaneous determination of cadmium, lead, copper, and
thallium in highly saline sample by anodic stripping voltammetry (ASV) using mercury-
film and bismuth-film electrodes, Electroanalysis 19 (16), (2007),1719 – 1726.
[5]. Ciceri. E., Dossi. C., Monticelli. D., Optimization and validation of an automated
voltammetric stripping technique for ultratrace metal analysis, Analytica Chimica Acta
594, (2007), 192–198.
[6]. Hocevar S., Svancara I., Vytras K., Ogorevc B., Novel eleclectrode for eletrochemical
stripping analysis based on carbonpaste modified with bismuth powder,
Electrochimica Acta, 51, (2005), 706 – 710.
[7]. Horwitz W., Albert R., The Concept of Uncertainty as Applied to Chemical
Measurement, Analyst, 122, (1997), 615-617.
[8]. Mirceski V., Lovric S. K., Lovric M., Square-Wave Voltammetry, Springer-Verlag
Berlin Heidelberg, Germany, 2007.
[9]. Piccardi. G., Udisti. R., Intermetallic compounds and the determination of copper and
zinc by anodic stripping voltammetry, Analytica Chimica Acta, 202, (1987), 151-157.
74 NghiêncứuxácđịnhCadmi,chìvàđồngbằngphương pháp…
DETERMINATION OF CADMIUM, LEAD AND COPPER BY ANODIC
STRIPPING VOLTAMMETRY USING MERCURY FILM ELECTRODE ON
PASTE CARBON SUPPORT
Nguyen Van Hop, Bui Thi Ngoc Bich, Nguyen Hai Phong, Vo Thi Bich Van
Chemistry
Department, College of Sciences, Hue University
Abstract. Mercury film electrode prepared in situ on pastecarbon disk surface (MFE/PC)
was used for square-wave anodic stripping voltammetry (SqW-ASV) for the determination
of cadmium (Cd), lead (Pb) and copper (Cu) in acetate buffer as supporting electrolyte.
Influences of the factors on Cd, Pb and Cu stripping peak curents (I
p
) such as: Hg
II
concentration, deposition potential and deposition time, square-wave voltammetric
parameters, interferents… were investigated. At the deposition potential of -1100 mV, the
deposition time of 120 s and other suitable conditions, the method gained high sensitivity
(1,7 ± 0,1; 1,4 ± 0,3 and 1,0 ± 0,1 µA/ppb for Cd, Pb and Cu, respectively), good
reproducibility of the I
p
(RSD 3%, n = 8 for the three metals), low detection limit (3) (0,3,
1,1 and 0,3 ppb for Cd, Pb and Cu, respectively); linear correlation between the I
p
and
metal concentration was good in the range of 2 – 60 ppb (R > 0,98). In comparison with
mercury film electrode prepared in situ on glassy carbon disk surface (MFE/GC), the
MFE/PC had better repeatability and sensitivity. The results obtained from the analysis of
the two Tam Giang Lagoon sediment samples showed that the method gained good
precisions for Cd, Pb and Cu (RSD < 10%, n = 3) and good accuracy with the recovery of
84 – 96%, 86 – 98% and 84 – 95% for Cd, Pb and Cu, respectively.
. 65-74
65
NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH CADMI, CHÌ VÀ ĐỒNG BẰNG PHƯƠNG PHÁP
VON-AMPE HÒA TAN ANOT SỬ DỤNG ĐIỆN CỰC MÀNG THỦY NGÂN
TRÊN NỀN PASTE CARBON
Nguyễn. tắt. Điện cực màng thủy ngân tạo ra theo kiểu in situ trên nền đĩa rắn paste carbon
(hay điện cực MFE/PC) được dùng cho phương pháp von-ampe hòa tan anot