6. Cấu trúc luận văn
3.4.2. Tính chất ức chế ăn mòn kim loại trong môi trường axit của tanin tách từ vỏ cây
tách từ vỏ cây keo lai
Tiến hành đo đường cong phân cực của điện cực thép trong môi trường axit HCl với các nồng độ: 0,1M; 0,2M; 0,3M; 0,4M; 0,5M và 1M. Tiếp theo, tiến hành ngâm điện cực trong dung dịch tanin nồng độ 0,5g/L, trong thời gian 40 phút, sau đó tiến hành đo đường cong phân cực của điện cực thép CT3 có lớp phủ tanin trong môi trường HCl ở các nồng độ như trên. Kết quả được trình bày ở Hình 3.28; 3.29; 3.30; 3.31; 3.32;3.33.
Corr.density ( 1):4.8702E-0002; (2):3.1583E-0002 mA/cm2
Hình 3.28. Đường cong phân cực của điện cực thép CT3:trong dung dịch HCl 0.1M:(1)không ngâm tanin -(2) ngâm trong dd tanin
Corr.density ( 1):7.8435E-0002; (2):4.0643E-0002 mA/cm2
Hình 3.29. Đường cong phân cực của điện cực thép CT3:trong dung dịch HCl 0.2M:(1)không ngâm tanin -(2) ngâm trong dd tanin
Corr.density ( 1):1.6312E-0001; (2):5.0590E-0002 mA/cm2
Hình 3.30. Đường cong phân cực của điện cực thép CT3:trong dung dịch HCl 0.3M:(1)không ngâm tanin -(2) ngâm trong dd tanin
Corr.density ( 1):1.7221E-0001; (2):5.8163E-0002 mA/cm2
Hình 3.31. Đường cong phân cực của điện cực thép CT3:trong dung dịch HCl 0.4M:(1)không ngâm tanin -(2) ngâm trong dd tanin
Corr.density ( 1):1.8780E-0001; (2):7.5823E-0002 mA/cm2
Hình 3.32. Đường cong phân cực của điện cực thép CT3:trong dung dịch HCl 0.5M:(1)không ngâm tanin -(2) ngâm trong dd tanin
Corr.density ( 1):2.0978E-0001; (2):8.5244E-0002 mA/cm2
Hình 3.33. Đường cong phân cực của điện cực thép CT3:trong dung dịch HCl 1M:(1)không ngâm tanin -(2) ngâm trong dd tanin 0,5g/L ; thời gian 40 phút
Hình 3.34. Tổng hợp các đường cong phân cực của điện cực thép CT3 trong dung dịch HCl 0.1M (1) ;0.2M(2); 0.3M(3); 0.4M(4); 0.5M(5) và 1M(6)
không ngâm dd tanin
Hình 3.35. Tổng hợp các đường cong phân cực của điện cực thép CT3 trong dung dịch HCl 0.1M(1) ;0.2M(2); 0.3M(3); 0.4M(4); 0.5M(5) và 1M(6) sau khi
ngâm dd tannin 0,5g/L; thời gian 40 phút
Bảng 3.7. Giá trị điện trở phân cực (Rp), dòng ăn mòn (Icorr) và hiệu quả ức chế Z (%) theo nồng độ dung dịch HCl
Nồng độ HCl
(M)
Không ngâm trong tanin Ngâm trong dd tanin
Z (%) RP(Ohm) Icorr(mA/cm2) RP(Ohm) Icorr (mA/cm2)
0,1 133.9258 4.8702E-0002 563.0667 3.1583E-0002 35,1505 0,2 65.5955 7.8435E-0002 315.9601 4.0643E-0002 48,1826 0,3 39.9848 1.6312E-0001 301.6069 5.0590E-0002 68,9860 0,4 39.0211 1.7221E-0001 294.5551 5.8163E-0002 66,2255 0,5 38.8706 1.8780E-0001 252.5841 7.5823E-0002 59,6256 1,0 31.0926 2.0978E-0001 224.5823 8.8244E-0002 57,9349
Hình 3.36. Tính chất ức chế ăn mòn kim loại trong môi trường axit của tanin
Như vậy, từ Bảng 3.7 ta thấy khi ngâm thép vào dung dịch Tanin trong môi trường axit thì tốc độ ăn mòn thép có giảm so với không ngâm. Ở hình 3.36 ta thấy Khi nồng độ axit tăng thì dòng ăn mòn cũng tăng nhưng hệ số tác dụng bảo vệ tăng lên sau đó giảm do khi nồng độ axit thấp khả năng tương tác của tanin và axit còn yếu, lớp màng tanin bảo vệ ăn mòn. Nồng độ axit tăng lên lớp màng tanin mỏng dần khả năng bảo vệ ăn mòn sẽ giảm và tốc độ ăn mòn thép tăng. Trong môi trường axit,
kim loại bị ăn mòn mạnh hơn trong môi trường NaCl 3,5% nên hiệu quả ức chế của tanin không cao, và hiệu quả ức chế tối ưu là 68,9860 % trong môi trường HCl 0,3 M.