Phương pháp phổ nhiễu xạ ti aX

Một phần của tài liệu (Luận văn thạc sĩ) Nghiên cứu ảnh hưởng của nhiệt độ và độ PH lên quá trình hình thành các cấu trúc Nanoplasmonic bằng hấp thụ Plasmon bề mặt (Trang 43 - 44)

Nhiễu xạ tia X là hiện tượng các chùm tia X tương tác với các mặt tinh thể của chất rắn, do tính tuần hoàn của cấu trúc tinh thể tạo nên các cực đại và cực tiểu nhiễu xạ. Chiếu một chùm tia X đơn sắc có bước sóng λ tới một tinh thể chất rắn, tia X đi vào bên trong mạng lưới. Tinh thể mạng lưới này đóng vai trò như một cách tử nhiễu xạ gây ra hiện tượng nhiễu xạ của các tia X tới. Định luật phản xạ Bragg cho biết mối quan hệ giữa khoảng cách của hai mặt phẳng tinh thể song song (d), góc giữa phương tia X tới và mặt phẳng tinh thể (θ) và bước sóng tia X (λ) được xác định:

2dhklsinθ = nλ (2.1) với n là bậc nhiễu xạ (n = 1, 2, 3, …).

Từ thực nghiệm có thể xác định được bước sóng λ, góc nhiễu xạ θ tương ứng với vạch nhiễu xạ thu được. Khi đó xác định được khoảng cách giữa các mặt mạng d theo phương trình (2.1) và (2.2).

33 2 2 2 2 2 2 2 1 c l b k d h dhkl    (2.2)

Trong đó, h,k,l là các chỉ số Miler và a,b,c là các hằng số mạng. Hình 2.7 minh họa về mặt hình học định luật Bragg.

Vì mỗi một tinh thể khác nhau được đặc trưng bằng các giá trị d khác nhau. Do vậy, phương pháp nhiễu xạ tia X có thể xác định được thành phần pha tinh thể của vật liệu, xác định được kích thước tinh thể cũng như cấu trúc tinh thể của vật liệu.

Hình 2.8. Giản đồ minh họa về mặt hình học của định luật Bragg

Giản đồ XRD của các mẫu chế tạo được thực hiện trên hệ nhiễu xạ kế tia X sử dụng nhiễu xạ kế D5000 (Siemens) với nguồn tia X là Cu Kα có bước sóng 1,5406 Å, có khả năng phân giải 0,01o với thời gian đếm xung tùy chọn được đặt tại trường Đại học Bách Khoa Hà Nội.

Một phần của tài liệu (Luận văn thạc sĩ) Nghiên cứu ảnh hưởng của nhiệt độ và độ PH lên quá trình hình thành các cấu trúc Nanoplasmonic bằng hấp thụ Plasmon bề mặt (Trang 43 - 44)

Tải bản đầy đủ (PDF)

(74 trang)