D [K-1] Hệ số giãn nở nhiệt của nớc
4.6.4.2 Sự thay đổi liên tục năng lợng trong lớp giới hạn đáy
Tác nhân của sự xáo trộn lớp giới hạn lμ ma sát đáy. Tổng số năng lợng thay đổi vμo lớp đáy với độ dμy z cho bởi :
Pdiss = W0UZ = UCz UZ3 =(U / Cz1/2) U3
*(Wm-2) (77)
Nơi mμ z (thờng chọn 1 m) nằm trong lớp ứng suất không đổi (W(z) = Wo). Có thể đánh giá đợc tổng số năng lợng bị tiêu hao ở phía dới lớp nhớt trên 1 mực phân tử đợc quyết định bởi ứng suất nhớt (bảng 9) :
Hv= (Wo /U) *(wu/wz) =U4
*/v [wkg-1] (78)
Từ đó tổng lợng tiêu hao trong phụ lớp nhớt cho bởi :
PdissQ = UHQ GQ=(U /v) U*4Gv|10 U* [wm-2] (79)
nhỏ hơn ba lần trong ví dụ đa ra ở bảng 9. Phía chuỗi thời gian của độ sâu của hai sự lựa chọn chỉ đờng đẳng nhiệt ở phía cuối tầng lu vực hồ (trạm a). Sự liên kết vμ các giai đoạn của dòng đáy.
Phía trên lớp nhớt các xoáy rối có thể tồn tại với tỉ lệ mμ tăng theo khoảng cách kể từ biên. Phía trong phần giới hạn nhỏ ứng suất W0 có thể đợc giả thiết lμ không đổi (lớp ứng suất không đổi). Nh ở phơng trình (61) "quy luật của tờng" dẫn đến logarit đợc sự phân bố theo độ dμi quan hệ với cấu trúc địa hình đáy của đờng giới hạn trầm tích. Nếu tỷ lệ độ dμi đoạn zs *
So sánh phơng trình (77) vμ (79) cho thấy: PV
diss / Pdiss= 10 C1/2
1m | 0.4 do đó gần khoảng 40% năng lợng vμo lớp đáy bị tiêu hao ở phía dới lớp nhớt với phần còn lại bị tiêu hao trong lớp logarithmic, nếu không xảy ra sự phân lớp, bởi vì ứng suất Reynolds cân bằng với phần tiêu hao:
H = (W0/U ) *(wu/wz) = U*3/kz (wkg-1) (80)
Hệ số ma sát đáyc1m =1,5.10-3 (Ellidtt1984)
Do đó trong lớp bề mặt sự chuyển động rối giảm khi tăng cờng độ từ lớp giới hạn (hình4.9).
Trong lớp giới hạn sự thay đổi nhiệt độ vμ hoμ tan cũng giảm theo mực phân tử. Bởi vì khuếch tán phân tử nhỏ hơn tính nhớt, sự di chuyển khu vực phần tử thuần tuý bị hạn chế từ cái gọi lμ phụ lớp khuếch tán, lớp mμ mỏng hơn phụ lớp nhớt (bảng 4.9). Độ lớn của hệ số khuếch tán phân tử do nhiệt độ lμ kết quả trong độ dμy của phụ lớp khuếch tán nhiệt độ nằm giữa lớp khuếch tán nμy vμ phụ lớp nhớt. Hệ số khuếch tán xoáy của nhiệt vμ muối độ lớn tăng theo cờng
huếch tán của chúng.
)độ tơng ứng trên lớp k