Tiêu chuẩn Quốc gia TCVN 6854:2001 về An toàn bức xạ - Tẩy xạ cho các bề mặt bị nhiễm xạ - Phương pháp thử nghiệm và đánh giá tính dễ tẩy xạ quy định trong tiêu chuẩn này áp dụng cho việc thử nghiệm các bề mặt bị nhiễm xạ.
TIÊU CHUẨN QUỐC GIA TCVN 6854:2001 ISO 8690 : 1988 AN TOÀN BỨC XẠ - TẨY XẠ CHO CÁC BỀ MẶT BỊ NHIỄM XẠ - PHƯƠNG PHÁP THỬ NGHIỆM VÀ ĐÁNH GIÁ TÍNH DỄ TẨY XẠ Decontamination of radioactively contaminated surfaces - Method for testing and assessing the ease of decontamination Lời nói đầu TCVN 6854 : 2001 hồn tồn tương đương với ISO 8690:1988 TCVN 6854 : 2001 Ban kỹ thuật tiêu chuẩn TCVN/TC 85 Năng lượng hạt nhân biên soạn, Tổng cục Tiêu chuẩn Đo lường Chất lượng đề nghị, Bộ Khoa học, Công nghệ Môi trường (nay Bộ Khoa học Công nghệ) ban hành Tiêu chuẩn chuyển đổi năm 2008 từ Tiêu chuẩn Việt Nam số hiệu thành Tiêu chuẩn Quốc gia theo quy định Khoản Điều 69 Luật Tiêu chuẩn Quy chuẩn kỹ thuật điểm a khoản Điều Nghị định số 127/2007/NĐ-CP ngày 1/8/2007 Chính phủ quy định chi tiết thi hành số điều Luật Tiêu chuẩn Quy chuẩn kỹ thuật Lời giới thiệu Tiêu chuẩn nhằm xác định điều kiện khách quan để thử nghiệm tính dễ tẩy xạ bề mặt Phương pháp thử nghiệm xây dựng để thu nhập liệu cho phép so sánh tính dễ tẩy xạ vật liệu có bề mặt khác Phương pháp sử dụng cho thử nghiệm so sánh với hạt nhân phóng xạ dung dịch nước Việc đánh giá kết loạt phép thử so sánh thực vào tốc độ đếm xung tồn dư trung bình Để xem chất lượng chung vật liệu bề mặt sản phẩm đơn nhất, tiêu chuẩn quy định việc thử nghiệm đánh giá dựa nhiễm xạ dung dịch có chứa hạt nhân phóng xạ 60Co 137Cs Hai hạt nhân phóng xạ lựa chọn chúng hai loại nguồn gây nhiễm xạ quan trọng công nghiệp hạt nhân Việc đánh giá kết thử nghiệm riêng lẻ tiến hành cách sử dụng bảng đánh giá tốc độ đếm xung tồn dư cuối dựa thí nghiệm luân phiên Việc so sánh trực tiếp kết phương pháp tẩy xạ với kết thu áp dụng quy định tiêu chuẩn quốc gia khác khơng hiệu không phù hợp chất khác phương pháp sử dụng Các phụ lục A, B, C D phụ lục quy định tiêu chuẩn AN TOÀN BỨC XẠ - TẨY XẠ CHO CÁC BỀ MẶT BỊ NHIỄM XẠ - PHƯƠNG PHÁP THỬ NGHIỆM VÀ ĐÁNH GIÁ TÍNH DỄ TẨY XẠ Decontamination of radioactively contaminated surfaces - Method for testing and assessing the ease of decontamination Phạm vi lĩnh vực áp dụng Đặc tính kỹ thuật quy định tiêu chuẩn áp dụng cho việc thử nghiệm bề mặt bị nhiễm xạ Dữ liệu khả tẩy xạ thu áp dụng phương pháp thử không áp dụng cho hệ thống kỹ thuật mà lớp vật chất gây nhiễm xạ hình thành sau thời gian dài chịu nhiệt độ áp suất cao (ví dụ vòng sơ cấp lò phản ứng hạt nhân) Mục đích thử nghiệm đánh giá tính dễ tẩy xạ bề mặt điều kiện phòng thí nghiệm Trong ứng dụng thực tế, việc xem xét tính chất khác, tính bền hóa, phóng xạ; tính ổn định lâu dài lựa chọn vật liệu để sử dụng quan trọng Cần lưu ý thử nghiệm tẩy xạ điều kiện mơ hoạt động cần thiết Tiêu chuẩn viện dẫn ISO 15, Rolling bearings - Radial bearings - Boudary dimensions - General plan ISO 273, Fasteners - Clearance holes for bolts and screws ISO 683-13, Heat-treated steels, alloy steels and free-cutting steels - Part 13: Wrought stainless steels ISO 2009, Slotted coutersunk head screws (common head style) - Product grade A ISO 2010, Slotted raise coutersunk head screws (head style) - Product grade A ISO 4762, Hexagon socket head cap screws - Product grade A Định nghĩa Các định nghĩa sau sử dụng tiêu chuẩn này: 3.1 Nhiễm xạ (contamination): Sự có mặt khơng mong muốn hạt nhân phóng xạ bề mặt ngấm khơng sâu vào bề mặt 3.2 Tẩy xạ (decontamination): Việc loại toàn phần nhiễm xạ mà không làm thay đổi tính chất bề mặt 3.3 Tốc độ đếm xung riêng (specific pulse rate): Tốc độ đếm xung gây ml dung dịch nhiễm xạ thiết bị đo điều kiện hình học cho Tốc độ đếm tính xung/min/ml Các tốc độ đếm xung thu chu kỳ đếm áp dụng hiệu chỉnh thời gian chết phông 3.4 Tốc độ đếm xung tồn dư (residual pulse rate): Tốc độ đếm xung gây hạt nhân phóng xạ tồn dư bề mặt thử nghiệm mẫu sau tẩy xạ thiết bị đo điều kiện hình học cho Tốc độ đếm tính số xung/min 3.5 Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình (mean residual pulse rate): Trung bình số học trị số tần suất xung tồn dư thu năm mẫu thử bị nhiễm xạ hạt nhân phóng xạ Tốc độ đếm xung tính xung/min 3.6 Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa (standardized mean residual pulse rate): Trị số tốc độ đếm xung tồn dư trung bình hiệu chỉnh Hệ số hiệu chỉnh thu cách chia giá trị tham chiếu tốc độ đếm xung riêng cho tốc độ đếm xung dung dịch gây nhiễm xạ sử dụng thử nghiệm Tốc độ đếm xung tính xung/min Mục đích hệ số hiệu chỉnh nhằm khắc phục sai khác giá trị tốc độ xung riêng dung dịch gây nhiễm xạ sử dụng phòng thí nghiệm khác 3.7 Tốc độ đếm xung tồn dư cuối (final residual pulse rate): Trung bình số học trị số tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn thu 60Co 137Cs Chu kỳ tính xung/min Nguyên tắc Chuẩn bị loạt dung dịch gây nhiễm xạ riêng biệt chứa 60Co 137Cs (nồng độ chất mang: 10-5 mol; độ pH: 4) Sử dụng đầu dò xạ rộng đo mẫu, mẫu 100 µl dung dịch sử dụng kết đo để tính tốn tốc độ đếm xung riêng dung dịch gây nhiễm xạ Làm nhiễm xạ diện tích xác định bề mặt mẫu vật thử nghiệm dung dịch gây nhiễm xạ sau tẩy xạ nước loại khống Xác định tốc độ đếm xung tồn dư thực việc đo mẫu bị nhiễm xạ Tính tốn tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa hạt nhân phóng xạ Sử dụng giá trị trung bình số học trị số tương ứng với 60Co 137Cs (tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng) để đánh giá tính dễ tẩy xạ nhờ phân hạng lập thực nghiệm Thiết bị Các thiết bị thông thường phòng thí nghiệm, 5.1 Hai cốc thủy tinh có mỏ, cốc loại thấp, có dung tích 2000 ml đạt yêu cầu ISO 3819 5.2 Đầu dò xạ thiết bị điện tử kết nối để xác định tốc độ đếm xung Kích thước tối thiểu vùng nhạy đầu dò phải có đường kính 30 mm, thực tế yêu cầu hình học quy định thường phải sử dụng vùng nhạy lớn Các loại đầu dò thích hợp bao gồm loại: ống đếm tỉ lệ, đầu dò nhấp nháy bán dẫn Để phù hợp với yêu cầu hình học, tỷ số (lmin-12,5 mm) : h không nhỏ 3, lmin khoảng cách nhỏ nhất, tính milimét, từ tâm khu vực bị nhiễm xạ vng góc với tiết diện ngang đầu dò, đến mép vùng nhạy tiết diện ngang đầu dò; h khoảng cách, tính milimét, từ bề mặt bị nhiễm xạ mẫu thử đến bề mặt đầu dò Nếu u cầu hình học quy định khơng thỏa mãn [tức (lmin-12,5 mm):h phải không nhỏ 3], sử dụng đầu dò có vùng nhạy tròn với đường kính khơng nhỏ 30 mm, với điều kiện là: a) việc xác định tốc độ đếm xung riêng (xem 8.1), dùng 100 µl dung dịch gây nhiễm xạ nhỏ giọt lên diện tích hình tròn có đường kính 25 mm, tức diện tích mẫu thử làm nhiễm xạ b) tốc độ đếm xung thực 100 µl dung dịch nhiễm xạ đo điều kiện hình học khơng nhỏ 200.000 xung/min (xem 8.1) Chú ý - Phải có thiết bị riêng cho hai hạt nhân phóng xạ để ngăn ngừa nhiễm xạ chéo, thiết bị nêu điều 5.3 5.6 Hình - Yêu cầu hình học (mặt cắt) 5.3 Hai pipet, dung tích 100 µl với đầu hút dùng lần 5.4 Hai pipet, dung tích 1000 µl với đầu hút dùng lần 5.5 Hai cốc có mỏ polytetrafloetylen (PTFE) 5.6 Hai bình đựng làm polytetrafloetylen (PTFE) Chú thích - Những vật liệu flo hóa có độ bền hóa học tương tự dùng thay cho polytetrafloetylen (PTFE) polytetrafloetylen/ perflopropylen (PTFE/PFP), perrflo alkoxyl alkan (PFA) poly vinyliden florua (PVDF) 5.7 Năm giá kẹp để giữ mẫu, làm poly (metyl metacrylat) (PMMA), dùng để định vị cho công đoạn gây nhiễm xạ (xem phụ lục A) Mỗi giá kẹp có vòng cao su silicon phẳng (45 mm x 25 mm x mm) làm vật liệu xốp có độ cứng Shore A khơng q 60 Chú thích - Cao su silicon xốp, khơng nhuộm màu, chứa fluo đặc biệt thích hợp với mục đích Trước sử dụng lần đầu, vòng cao su phải rửa hỗn hợp dung môi hữu để rửa mẫu thử Các vòng nên sử dụng lại sau tẩy xạ kỹ Chú thích - Mười giá kẹp, năm cho hạt nhân phóng xạ, làm giảm đáng kể thời gian cần thiết để tiến hành thử nghiệm phòng ngừa nhiễm xạ chéo 5.8 Máy khuấy dạng buồng cho sáu mẫu thử phù hợp với phụ lục B Thiết bị phải có động để quay cánh khuấy với tốc độ 100 vòng/min Tác nhân gây nhiễm xạ tẩy xạ 6.1 Dung dịch gây nhiễm xạ 6.1.1 Thành phần dung dịch gây nhiễm xạ Các mẫu thử gây nhiễm xạ chứa 137 Cs 60Co dung dịch riêng biệt Việc sử dụng hạt nhân phóng xạ khác dung dịch nước thích hợp mặt chủng loại tính chất hóa học mục đích định trước vật liệu bề mặt, cần tham khảo ý kiến phòng thử nghiệm Tuy nhiên, dung dịch gây nhiễm xạ cần phải bền vững mặt hóa học khơng ăn mòn mẫu thử Các mẫu tẩy xạ phải có độ bền cao phép đo độ nhiễm xạ tồn dư Trường hợp hạt nhân phóng xạ mà xạ phát bị hấp thụ dùng kỹ thuật đo đặc biệt Nồng độ phóng xạ dung dịch gây nhiễm xạ phải đủ lớn cho 100 µl mẫu thử sau bay tạo tốc độ đếm xung không nhỏ 200.000 xung/min dụng cụ đo, sau hiệu chỉnh thời gian chết phơng Chú thích - Nồng độ hoạt độ 0,2 MBq/ml đủ để đáp ứng yêu cầu Các hạt nhân phóng xạ phải dùng với nồng độ chất mang (1 ± 0,1) x 10-5 mol/l dung dịch axit nitric có pH 4,0 ± 0,2 Độ pH chất gây nhiễm xạ phải kiểm tra hàng tháng Các mẫu thử gây nhiễm xạ cần loại bỏ sau kiểm tra 6.1.2 Chuẩn bị dung dịch gây nhiễm xạ 6.1.2.1 Trừ ion Co2+ Cs+ iôn nitrat tương ứng, dung dịch gốc hạt nhân phóng xạ khơng chứa thành phần khác mẫu tồn lại bề mặt dung dịch bốc mô tả 6.1.2.4 Thuốc thử sử dụng phải loại dùng phân tích tốt 6.1.2.2 Trên sở số liệu có nồng độ phóng xạ dung dịch gốc 137Cs 60Co, tính lượng dung dịch cần dùng để điều chế lượng dung dịch gây nhiễm xạ Công thức để chuẩn bị dung dịch gây nhiễm xạ cho phụ lục C 6.1.2.3 Bước từ lượng đầu vào tính lượng chất mang cần dùng với hạt nhân phóng xạ từ tính lượng dung dịch coban (II) nitrat [Co(NO3)2] cesi nitrat (CsNO3), lượng dung dịch tương ứng cần thêm vào để tạo nồng độ chất mang (1 ± 0,1) x 10-5 mol/l dung dịch tương ứng Đổ dung dịch chất mang vào bình polytetrafloetylen có dung tích đủ để pha lỗng dung dịch đến thể tích cuối Để thay ion clo có dung dịch gốc hạt nhân phóng xạ, cần thêm ml dung dịch axit nitric (độ tinh khiết cao) [c(HNO3) = mol/l] tính cho 90 ml thể tích cuối dung dịch gây nhiễm xạ Cuối cùng, thêm lượng dung dịch gốc 137Cs 60Co tính 6.1.2.4 Làm bay hết hỗn hợp cách dùng đèn hồng ngoại đến trình bay kết thúc Sau nung nóng bình đèn hồng ngoại khoảng cách gấp đôi khoảng cách ban đầu Sau làm nguội, thêm vừa đủ axit nitric có pH [thực cách pha lỗng µl axit nitric (ρ = 1,4 g/ml) thành I nước cất hai lần] Kiểm tra tốc độ đếm xung riêng dung dịch khuấy kỹ theo 8.1 Việc xác định giá trị pH tiến hành 12 sau hòa tan cặn khơ 6.1.2.5 Để tránh thành bình làm thay đổi nồng độ, dung dịch riêng biệt phải đựng bình polytetrafloetylen nút kín dùng bình thủy tinh có dung tích nhỏ để tránh bay 6.1.2.6 Dung dịch chuẩn bị theo quy trình dùng độ pH nằm phạm vi định hoạt độ phóng xạ riêng thay đổi không % so với giá trị ban đầu (sau hiệu chỉnh có tính đến phân rã) 6.2 Tác nhân tẩy xạ Nước khử khoáng (độ dẫn tối đa µS/cm) sử dụng tác nhân tẩy xạ cho thử nghiệm nhiệt độ 23 °C ± °C Mẫu thử 7.1 Chuẩn bị thử nghiệm sơ 7.1.1 Độ trơ dung dịch làm Để tiến hành thử nghiệm sơ bộ, mẫu thử có mặt phẳng có kích thước thích hợp (xem 7.2) làm vật liệu thích hợp nào, vật liệu kim loại phi kim loại, hệ thống bao phủ, lớp phủ sàn nhà Mẫu thử phải đủ trơ với dung dịch làm sạch; kiểm tra điều theo quy trình sau: a) nhúng miếng nhỏ vào chất lỏng làm sạch, đặt lên bề mặt mẫu thử đậy lại đĩa Petri; b) sau cho tiếp xúc 10 phút, lấy miếng rửa mẫu thử nước; c) sấy khô mẫu thử nhiệt độ 40 °C ± °C; d) quan sát mẫu thử mắt Mẫu thử có thay đổi chút màu sắc độ bóng khơng dùng để thử nghiệm 7.1.2 Mẫu thử vật liệu phi kim loại Các vật liệu phi kim loại dùng để thử nghiệm - thí dụ: polyme cao phân tử, thủy tinh, gốm phải có bề mặt có chất lượng đặc trưng vật liệu sử dụng thực tế Nếu mặt sau mẫu thử xốp kim loại không bao phủ mặt sau cạnh phải phủ cho dễ tẩy xạ (thí dụ cách sử dụng lớp phủ nhựa epoxy, polyuretan cao su clorinat) Để chuẩn bị mẫu thử với lớp phủ, phải lấy mẫu đại diện từ vật liệu che phủ cần phải nghiên cứu chuẩn bị cho việc thử nghiệm theo phương pháp tiêu chuẩn thích hợp Vật liệu che phủ phải đặt lên đầu kẹp giá đỡ cách tương tự sử dụng thực tế phải xử lý cách thích đáng; việc xử lý khác, thí dụ gia nhiệt thêm, không phép Thời gian chuẩn bị mẫu thử phải ghi rõ 7.1.3 Mẫu thử vật liệu kim loại Mẫu thử kim loại với bề mặt kim loại phải xử lý trước cách điển hình cho việc sử dụng thực tế Để che phủ mặt sau cạnh, xem 7.1.2 Độ nhám bề mặt (trị số nhám trung bình) phải nhà sản xuất xác định ghi mô tả vật liệu dùng làm mẫu thử 7.2 Số lượng kích thước Để tiến hành thử nghiệm, cần phải chuẩn bị 15 mẫu thử giống số có hai nhóm gồm mẫu phải thử nghiệm hai phép thử đồng thời Chú thích - Những mẫu thử lại dùng cho thử nghiệm sơ theo 7.1 dùng làm mẫu đối chứng sau thử nghiệm 10 10 Các mẫu thử phải có kích thước 50 mm x 50 mm Độ dày mẫu thử phải nằm khoảng từ mm đến 10 mm Một góc (tốt góc vng) đánh dấu chữ thập gồm hai vết cạo mảnh phía sau mẫu thử góc đối chứng Các chiều khác mẫu thử điều kiện khác cho việc chuẩn bị cần ghi rõ báo cáo thử nghiệm Chú thích - Các mẫu thử có kích thước khơng lớn 51 mm x 51 mm x 3,5 mm cất giữ vận chuyển congteno bảo quản trượt; nhằm tránh tiếp xúc bề mặt thử nghiệm 7.3 Điều hòa nhiệt độ làm Các mẫu thử phải giữ cơngtenơ mở phòng thử nghiệm có khơng khí khơng ăn mòn 20 °C ± °C không 14 ngày Yêu cầu không áp dụng cho mẫu thử mà bề mặt thử nghiệm làm gốm thủy tinh Mẫu thử làm khăn xenlulô mềm Trước hết cần lau bề mặt thử nghiệm khăn ngâm đẫm hỗn hợp làm gồm có ete dầu hỏa (nhiệt độ sôi từ 60 °C đến 80 °C) isopropanol (nồng độ tối thiểu 99 %) với tỷ lệ 1:1 theo thể tích Lau lại cách dùng khăn "hầu khô" Lau lại lần thứ ba cách dùng mảnh vải nhúng dẫm nước tinh khiết Trong trường hợp tiến hành thao tác lau năm lần theo chiều mẫu, lần dùng phần khác khăn dùng khăn Cuối dùng chai bóp để rửa mẫu thử nước tinh khiết để rửa sợi vải mảnh vụn bề mặt thử nghiệm Sau sấy khơ mẫu thử theo chiều thẳng đứng nhiệt độ 40 °C ± °C h Ngồi mẫu thử phủ kín lớp vật liệu hữu thử nghiệm mà khơng cần làm trước, có yêu cầu đặc biệt Trong trường hợp này, việc chuẩn bị mẫu phải tiến hành trung tâm thử nghiệm với điều kiện không làm bẩn lên bề mặt thử nghiệm theo dẫn nhà sản xuất Nếu bỏ qua giai đoạn làm phải ghi vào báo cáo thử nghiệm Quy trình 8.1 Xác định tốc độ đếm xung riêng dung dịch gây nhiễm xạ Khi gây nhiễm xạ theo quy trình nêu 8.2, đổ 100 µl dung dịch gây nhiễm xạ lên kính ba kính xây dựng có kích thước 50 mm x 50 mm vào điểm trùng với tâm vết gây nhiễm xạ Để làm điều dùng dụng cụ định vị dụng cụ tương tự Sau để dung dịch khô nhiệt độ tối đa 45 °C, tiến hành đo tốc độ đếm xung kính thiết bị nêu 5.2 Chú ý - Phải bảo đảm vị trí đo (đặc biệt khoảng cách từ bề mặt kính bị nhiễm xạ đến đầu dò) giống vị trí dự định để đo mẫu thử (xem 8.3.2) Thời gian đo phải kính Cần hiệu chỉnh phơng thời gian chết Nhân trung bình cộng ba kết với hệ số 10 cho kết biểu thị xung phút mililit Xác định riêng biệt hai dung dịch gây nhiễm xạ 8.2 Gây nhiễm xạ Việc gây nhiễm xạ thực cách sử dụng thiết bị hình Đặt mẫu thử vào dụng cụ định vị (5.7) với góc tham chiếu R hình Đưa cạnh A B mẫu thử tiếp xúc với đường a b dụng cụ định vị, ưu tiên cho tiếp xúc B-b Sau ép mẫu thử sát với phần (U) có chứa cao su silicon cách vặn chặt đinh vít mẫu thử tiếp xúc với phần (U) dọc theo tất cạnh Gây nhiễm xạ mẫu thử cách cho ml dung dịch gây nhiễm xạ vào tâm hình tròn nhìn thấy qua phần (U) Giữ giá kẹp vị trí nằm ngang Trong trường hợp vật liệu bề mặt có độ kỵ nước cao, chất gây nhiễm xạ khơng lan hết hình tròn thử nghiệm nghiêng giá kẹp chất lỏng lan rộng Đặt đĩa Petri nhỏ lên hình tròn thử nghiệm miệng phần U để ngăn bay dung dịch gây nhiễm xạ Sau 120 ± min, dùng pipet (5.4) hút hết dung dịch Muốn cần để giá kẹp nằm nghiêng Sau lộn ngược giá kẹp Sau tháo đinh vít, nâng phần (L) tiếp nâng mẫu thử lên tránh không cho dung dịch làm bẩn phần không bị nhiễm xạ mẫu thử Để tránh bay cần đưa mẫu thử vào buồng khuấy bắt đầu tẩy xạ sau mẫu cố định Tồn q trình lấy mẫu khỏi giá kẹp cố định chúng vào buồng khuấy không 12 8.3 Tẩy xạ 8.3.1 Phương pháp Để tẩy xạ, cố định năm mẫu thử vào ngăn buồng khuấy (5.8) cách dùng băng cao su mỏng lò xo (làm thép chống ăn mòn axit) Để bảo đảm cho diện tích nhiễm xạ mẫu thử định vị ngăn buồng khuấy, góc đối chứng mẫu thử phải khớp với góc phía bên phải ngăn buồng khuấy Đặt cạnh A B mẫu thử lại tiếp xúc với đường d e dụng cụ định vị, ưu tiên cho tiếp xúc B-e (xem hình 4) Phải dùng thép chống ăn mòn axit để đóng ngăn thứ sáu Tấm thép loại dùng để đỡ mẫu thử mỏng, không bề mặt chúng không đủ phẳng Ngâm buồng khuấy vào cốc có mỏ chứa 900 ml ± 20 ml nước khử khoáng (6.2) cho buồng khuấy chạm vào đáy cốc (5.1) Nếu sử dụng cốc có mỏ khác với mơ tả 5.1, cốc phải đổ đầy nước đến mức tối thiểu hình Nhiệt độ ban đầu nước phải 23 °C ± °C Cho máy khuấy chạy 2, với tốc độ 100 vòng/min ± vòng/min Thay cốc có mỏ cốc có mỏ khác đựng nước cho chạy máy khuấy thêm 10 s Lấy mẫu thử sấy khô tủ sấy nhiệt độ 40 °C ± °C Chú thích - Nếu thấy cần kiểm tra tái nhiễm dung dịch tẩy xạ, thép đậy ngăn thứ sáu thay mẫu thử không bị nhiễm xạ 8.3.2 Xác định tốc độ đếm xung tồn dư Sau sấy khô, đo tốc độ đếm xung mẫu thử tẩy xạ cách sử dụng thiết bị quy định 5.2 Hình học đo, tức khoảng cách vị trí tương đối mẫu thử đầu dò phải giống tất phép đo (xem 8.1) Ngay trước đo tốc độ đếm xung tồn dư mẫu thử, phải đo tần suất xung phông với mẫu thử không bị nhiễm xạ Mỗi phép đo tiến hành lần, có hiệu chỉnh phơng thời gian chết Phép đo phải tiến hành tới 5.000 số đếm trừ phông 10 min, tùy theo cách có thời gian ngắn Tính kết đánh giá tính dễ tẩy xạ Sau tẩy xạ, tính (riêng cho 60Co 137Cs) số trung bình tốc độ đếm xung tồn dư năm mẫu thử nhóm Các kết phải tính xung/min phải sử dụng để tính tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa theo cơng thức sau: Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa = Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình x 106 x Tốc độ đếm xung riêng Việc tính tốn phải thực riêng cho 60Co 137Cs Chú thích - Giá trị x 106 xung phút mililít giá trị tham chiếu tốc độ đếm xung riêng dung dịch gây nhiễm xạ mà bảng đánh giá tính dễ tẩy xạ vào Tính kết cuối (tức tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng) giá trị trung bình tốc độ đếm xung tồn dư tiêu chuẩn hóa 60Co 137Cs Tính dễ tẩy xạ đánh giá theo bảng dùng cho hạt nhân phóng xạ 60Co 137Cs Bảng - Đánh giá tính dễ tẩy xạ Tốc độ đếm xung tồn dư cuối (FRP) Tính dễ tẩy xạ xung/min FRP < 3.000 Rất dễ 3.000 ≤ FRP vòng/min < 15.000 Khá dễ 15.000 ≤ FRP < 60.000 60.000 ≤ FRP Tương đối dễ Khó 10 Báo cáo thử nghiệm Báo cáo thử nghiệm bao gồm thông tin số liệu quy định phụ lục D Hình thức trình bày phụ lục D sử dụng làm ví dụ báo cáo thử nghiệm Kích thước tính milimét Hình - Giá kẹp để gây nhiễm xạ mẫu thử (xem thêm hình 6) Hình - Sử dụng giá kẹp để gây nhiễm xạ mẫu thử (gắn mẫu thử) Hình - Sử dụng buồng khuấy để tẩy xạ (đặt mẫu thử) (xem thêm hình 16) Phụ lục A (quy định) Giá kẹp để giữ mẫu thử nhiễm xạ kích thước tính milimet Hình - Phần L Hình - Phần U Phụ lục B (quy định) Buồng khuấy để tẩy xạ Hình - Buồng khuấy - Sơ đồ chung Chú thích Số ghi Số hình hạng mục Mơ tả Vật liệu Hình 1 Trụ đỡ buồng khuấy Thủy tinh acrylic Vít ren có lỗ đặt chìa vặn sáu cạnh, M3 x12, theo ISO 4762 Thép không rỉ chịu axit - Trục khuấy Thép không rỉ chịu axit Ổ bi rãnh sâu xuyên tâm với vòng đệm theo ISO 15 - - (Kích thước: d=10, D=26, B=8) Ổ trục trục khuấy Thủy tinh acrylic 10 Giá đỡ ổ bi Polytetrafluoroethylen (PTPE) 11 Thép không rỉ chịu axit - Thép khơng rỉ chịu axit - Đường kính lỗ: 3,4 Khe hở theo ISO 273 Mũ chìm theo ISO 2009 Vít có mũ chìm chẻ, M3 x 5, theo ISO 2009 12 Vít có mũ chìm chẻ, M4 x 10, theo ISO 2009 Đĩa lục lăng Thủy tinh acrylic 12 10 Bộ phận kết nối Thép không rỉ chịu axit 13 Đường kính lỗ: 4,5 Khe hở theo ISO 273 Mũ chìm theo ISO 2009 11 Vít có mũ chìm dựng chẻ, M3 x 10, theo ISO 2010 Thép không rỉ chịu axit - 12 Cánh khuấy Thép không rỉ chịu axit 14 13 Đĩa lục lăng Thủy tinh acrylic 15 Chú thích - Có thể sử dụng số đo tương đương không thuộc hệ mét cho vít Hình - Trụ đỡ buồng khuấy kích thước tính milimet Hình 12 - Đĩa lục lăng kích thước tính milimet Kích thước tính milimet Hình 15 - Đĩa lục lăng Phụ lục C (quy định) Các công thức chuẩn bị dung dịch làm nhiễm xạ 137Cs 60Co Các công thức hướng dẫn tính lượng dung dịch gốc phóng xạ dung dịch chất mang tiêu chuẩn hóa cần để chuẩn bị dung dịch gây nhiễm xạ có nồng độ hoạt độ phóng xạ 0,2 MBq/ml 10-5 mol (không gồm hướng dẫn việc thêm axit nitric) Thể tích cuối dung dịch gây nhiễm xạ u cầu, tính ml : r Hoạt độ phóng xạ cuối dung dịch gây nhiễm xạ yêu cầu, tính MBq : (0,2 MBq/ml) r = 0,2 r Thể tích dung dịch gốc hạt nhân phóng xạ cần để tạo hoạt độ phóng xạ 0,2 MBq/ml thể tích cuối cùng, r Hoạt độ dung dịch gốc (theo số liệu nhà sản xuất), tính MBq/l : s Thể tích yêu cầu, tính ml dung dịch gốc: 0,2r s Nồng độ mol cuối chất mang yêu cầu, tính mol/l: 10 -5 Nồng độ mol cuối yêu cầu, tính mol: 10-5 x (r x 10-3) = r x 10-8 Chú thích - Hệ số 10-3 l/ml hệ số chuyển đổi Sự đóng góp dung dịch gốc phóng xạ Nồng độ chất mang (theo số liệu nhà sản xuất), tính mol/l: = t Tổng số mol đóng góp: t 0,2r s 10 2rt 10 s Sự đóng góp yêu cầu dung dịch chất mang tiêu chuẩn hóa Co(NO3)2 CsNO3, tính mol: r 10 2rt 10 s y Nồng độ chất mang, tính mol/l: u Thể tích cuối chất mang tiêu chuẩn hóa yêu cầu để sinh dung dịch làm nhiễm bẩn 10-5 mol/l, tính I dung dịch chất mang: r 10 2rt 10 s u y u Phụ lục D (qui định) Ví dụ báo cáo kết Báo cáo thử nghiệm tính dễ tẩy xạ bề mặt xác định theo ISO 8690 Phòng thử nghiệm: Báo cáo thử nghiệm số: Khách hàng: Họ tên: Địa chỉ: Số liệu người trình mẫu thử nghiệm 1.1 Phác họa vật liệu dự kiến sử dụng: (ví dụ: bao EP phủ đáy, bao PUR phủ công - te nơ) 1.2 Tên nhà sản xuất vật liệu: 1.3 Mô tả vật liệu thử nghiệm Mô tả nhà chế tạo: Màu, độ bóng, độ nhám bề mặt: Số liệu chi tiết (ví dụ: độ dầy phim): 1.4 Thành phần quan trọng vật liệu thử nghiệm (ví dụ: độ cứng, dây buộc, chất màu lọc) 1.5 Số liệu sản xuất ứng dụng (ví dụ: phương pháp ứng dụng, thời gian nhiệt độ làm khô): 1.6 Vật liệu mang và kích thước mẫu thử: 1.7 Xử lý trước mẫu thử, cần (xử lý học, nhiệt, hóa học vv ): 1.8 Ngày chuẩn bị mẫu thử: Số liệu người thử nghiệm cung cấp 2.1 Bề mẫu thử trước thử nghiệm (màu, điều kiện bề mặt, độ bóng, độ nhám bề mặt) 2.2 Số liệu thử nghiệm tính dễ tẩy xạ: 2.2.1 Ngày thử nghiệm: 2.2.2 Dụng cụ đo: 2.2.3 Đầu dò: 2.2.4 Tác nhân gây nhiễm xạ (hạt nhân phóng xạ): 2.3 Kết đo 2.3.1 Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa: 2.3.2 Tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng: 2.4 Đánh giá tính dễ tẩy xạ: ………… Đóng dấu Ngày tháng năm Ký tên ... cần thiết Tiêu chuẩn viện dẫn ISO 15, Rolling bearings - Radial bearings - Boudary dimensions - General plan ISO 273, Fasteners - Clearance holes for bolts and screws ISO 68 3-1 3, Heat-treated... rỉ chịu axit - Thép khơng rỉ chịu axit - Đường kính lỗ: 3,4 Khe hở theo ISO 273 Mũ chìm theo ISO 2009 Vít có mũ chìm chẻ, M3 x 5, theo ISO 2009 12 Vít có mũ chìm chẻ, M4 x 10, theo ISO 2009 Đĩa... Nồng độ mol cuối chất mang yêu cầu, tính mol/l: 10 -5 Nồng độ mol cuối yêu cầu, tính mol: 1 0-5 x (r x 1 0-3 ) = r x 1 0-8 Chú thích - Hệ số 1 0-3 l/ml hệ số chuyển đổi Sự đóng góp dung dịch gốc phóng