Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống
1
/ 66 trang
THÔNG TIN TÀI LIỆU
Thông tin cơ bản
Định dạng
Số trang
66
Dung lượng
4,56 MB
Nội dung
ĐẠI HỌC QUỐC GIA HÀ NỘI TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ BÙI VIẾT CHUNG TỪTRƯỜNGCỦAVICẤUTRÚCTỪVỚIBIẾNTHIÊNTỪTRƯỜNGLỚN LUẬN VĂN THẠC SĨ VẬT LIỆU VÀ LINH KIỆN NANO HÀ NỘI - 2016 ĐẠI HỌC QUỐC GIA HÀ NỘI TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ BÙI VIẾT CHUNG TỪTRƯỜNGCỦAVICẤUTRÚCTỪVỚIBIẾNTHIÊNTỪTRƯỜNGLỚN Chuyên ngành:Vật liệu linh kiện nano Mã số: Chuyên nghành đào tạo thí điểm LUẬN VĂN THẠC SĨ VẬT LIỆU VÀ LINH KIỆN NANO Cán hướng dẫn: PGS TS Phạm Đức Thắng HÀ NỘI - 2016 LỜI CẢM ƠN Trước hết, xin bày tỏ lòng kính trọng biết ơn sâu sắc hướng dẫn tận tình PGS TS Phạm Đức Thắng Thầy tạo điều kiện cho hoạt động nghiên cứu trình thực luận văn Tôi xin chân thành cảm ơn ThS Lê Việt Cường giúp đỡ có trao đổi nhiệt tình, xin cảm ơn CN Nguyễn Doãn Thành, TS Bùi Đình Tú đồng nghiệp công tác Khoa Vật lý kỹ thuật Công nghệ nano, trường Đại học Công nghệ (Đại học Quốc gia Hà Nội) động viên hỗ trợ thời gian qua Tôi xin gửi lời cảm ơn tới Ban lãnh đạo đồng nghiệp trường THCS Nhân Chính, phường Nhân Chính, quận Thanh Xuân, Hà Nội nơi công tác Luận văn hoàn thành với sự hỗ trợ mô ̣t phầ n từ đề tài 103.022015.80 Quỹ phát triển Khoa học Công nghệ Quốc gia Sau cùng, muốn gửi tình cảm yêu thương biết ơn tới bố, mẹ, tất người thân gia đình bạn bè cổ vũ, động viên để vượt qua khó khăn, hoàn thành tốt nội dung nghiên cứu luận văn Hà Nội, ngày 11 tháng 11 năm 2016 Bùi Viết Chung LỜI CAM ĐOAN Tôi xin cam đoan luận văn kết nghiên cứu thực Các kết nghiên cứu luận văn trung thực, tài liệu tham khảo trích dẫn đầy đủ Hà Nội, ngày 11 tháng 11 năm 2016 Học viên Bùi Viết Chung DANH MỤC HÌNH ẢNH Hình 1 Đường cong từ trễ M(H) vật liệu sắt từvới lực kháng từ HC, độ từ dư MR, từ độ bão hòa MS 10 Hình Đường cong từ trễ vật liệu từ mềm vật liệu từ cứng 11 Hình Từtrường dòng điện tròn bán kính R sinh điểm P 14 Hình 2 Từtrường cuộn dây sinh điểm P 17 Hình Nam châm hình trụ có độ từ dư 𝑀 với n mô-men từ lưỡng cực 𝜇 (a) dòng điện tương đương (b) 18 Hình Nam châm hình trụ với vô số phần tửtừ 𝑑𝑚 (a) sơ đồ tính toán từ phần tửtừ 𝑑𝑚 sinh điểm P (0; 0; z) (b) 21 Hình Giao diện mô-đun thiết kế (a) giao diện mô-đun tính toán (b) phần mềm MacMMems 23 Hình Giao diện phần mềm mô Ansys Maxwell 24 Hình Cấu hình 1×1 nam châm trụ vị trí tính toán từ trường, biếnthiêntừtrường 27 Hình Từtrường thành phần Bz mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 28 Hình 3 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo y (dBz/dy) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 31 Hình Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo z (dBz/dz) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 32 Hình Cấu hình 2×2 nam châm vị trí tính toán từ trường, biếnthiêntừtrường 33 Hình Từtrường thành phần Bz mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 35 Hình Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo y (dBz/dy) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 36 Hình Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo z (dBz/dz) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 37 Hình Cấu hình 3×3 nam châm vị trí tính toán từ trường, biếnthiêntừtrường 38 Hình 10 Từtrường thành phần Bz mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 39 Hình 11 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo y (dBz/dy) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 40 Hình 12 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo z (dBz/dz) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 41 Hình 13 Cấu hình 4×4 (a) 5×5 (b) nam châm vị trí tính toán từ trường, biếnthiêntừtrường 42 Hình 14 Từtrường thành phần Bz mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 43 Hình 15 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo y (dBz/dy) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 44 Hình 16 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo z (dBz/dz) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 45 Hình 17 Từtrường thành phần Bz mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 46 Hình 18 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo y (dBz/dy) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 47 Hình 19 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo z (dBz/dz) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 48 Hình 20 Cấu hình 1×1 nam châm vị trí khảo sát từtrường phần mềm Ansys Maxwell 49 Hình 21 Thành phần từtrường Bz mô điểm nằm trục nam châm cách mặt nam châm khoảng d (a), điểm nằm đường thẳng qua mép nam châm song song vớitrục nam châm cách mặt nam châm khoảng d (b), điểm nằm đường thẳng song song vớitrục nam châm cách trục nam châm khoảng 2R (c) 50 Hình 22 Không gian từtrường sát bề mặt nam châm (a), mặt cắt không gian từtrường dọc theo khoảng cách d từ bề mặt nam châm (b) 54 MỤC LỤC MỞ ĐẦU CHƯƠNG TỔNG QUAN 1.1 Từtrường đại lượng 1.2 Các phương trình từtrường tĩnh 1.3 Phân loại số vật liệu từ 1.3.1 Vật liệu nghịch từ 1.3.2 Vật liệu thuận từ 1.4 Đường cong từ trễ 1.5 Mục tiêu luận văn 12 CHƯƠNG MÔ HÌNH LÝ THUYẾT VÀ PHẦN MỀM MÔ PHỎNG 14 2.1 Mô hình lý thuyết 14 2.1.1 Mô hình dòng tương đương 14 2.1.2 Mô hình từ tích 19 2.2 Phần mềm mô 22 2.2.1 Phần mềm MacMMems 23 2.2.2 Phần mềm Ansys Maxwell 24 CHƯƠNG KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN 26 3.1 Kết khảo sát từtrường phần mềm MacMMems 26 3.1.1 Cấu hình 11 nam châm 26 3.1.2 Cấu hình 22 nam châm 33 3.1.3 Cấu hình 33 nam châm 38 3.1.4 Cấu hình 44 5×5 nam châm 42 a) Cấu hình 4×4 nam châm 42 b) Cấu hình 5×5 nam châm 46 3.2 So sánh từtrườngbiếnthiêntừtrường bề mặt số cấu hình nam châm mô phần mềm mô tính toán lý thuyết 49 3.2.1 Cấu hình 11 nam châm 49 3.2.2 Cấu hình 22 nam châm 53 KẾT LUẬN 56 TÀI LIỆU THAM KHẢO 57 MỞ ĐẦU Nam châm từtrường thành phần quan trọng nhiều thiết bị kỹ thuật Ngày nay, nam châm sử dụng nhiều động ô tô, đầu đọc ghi thông tin lĩnh vực máy tính Với phát triển công nghệ nano, nhu cầu nam châm mạnh tạo từtrường không đồng (biến thiên) lớn không gian nhỏ ngày nhiều Cho đến việc phân tách đối tượng từ tính phi từ tính truyền động sử dụng lực từ thông thường sử dụng từtrường tạo cuộn solenoid, nam châm điện nam châm siêu dẫn Gần đây, số nhóm nghiên cứu thành công việc sử dụng nam châm vĩnh cửu để tạo từtrườnglớn thay nam châm truyền thống Từtrườnglớn tạo phù hợp với đặc điểm dị hướng từ mạnh vật liệu sử dụng để làm nam châm vĩnh cửu, thường hợp chất vật liệu đất kim loại chuyển tiếp Tuy nhiên, từtrường đồng thuận lợi phân tách sử dụng từ tính đòi hỏi nguồn từtrường có cường độ lớnbiếnthiên mạnh Bởi lực từ tác dụng lên đối tượng tỉ lệ thuận với độ cảm từ đối tượng, cảm ứng từ độ biếnthiên cảm ứng từ Cụ thể, phần tử (đối tượng) từ tính đặt môi trườngtừ không đồng chịu tác dụng lực từ cho công thức sau: 𝐹⃗𝑚 = 𝑉∆ ⃗⃗ ∇𝐵 ⃗⃗ 𝐵 𝜇0 với V thể tích phần tử từ, ∆χ chênh lệch độ thẩm từ phần tửtừ (χp) môi trường (χm), B độ lớntừtrường Tùy thuộc vào giá trị ∆χ mà phần tửtừ chịu tác dụng lực hút hay lực đẩy từtrường tác động Nếu ∆χ > phần tử chịu tác động lực hút bị hút vị trí có lực hút mạnh (thường cạnh nam châm), phần tử bị đẩy xa khỏi nguồn từtrường tới vị trí có lực đẩy nhỏ ∆χ < Ngoài ra, dung dịch nhỏ lên cấutrúc từ, phần tử chịu tác động lực khác như: trọng lực (Fg), lực đẩy Archimedes (FA), lực kéo dòng chất lỏng… phần tử thường có xu hướng di chuyển (magnetophoresis) tới vị trí ổn định nơi mà tổng lực tác động lên phần tử có xu hướng cân Việc tính toán lực tác dụng lên phần tửtừ cho phép xác định tiên đoán cách mà phần tửtừ di chuyển (a) (b) (c) Hình 16 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo z (dBz/dz) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 45 b) Cấu hình 5×5 nam châm (a) (b) (c) Hình 17 Từtrường thành phần Bz mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 46 (a) (b) (c) Hình 18 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo y (dBz/dy) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 47 (a) (b) (c) Hình 19 Sự biếnthiên thành phần từtrường Bz theo z (dBz/dz) mô dọc theo đường quét x1 (a), x2 (b) x3 (c) độ cao d khác 48 Các kết mô thu cho thấy, việc tăng số lượng nam châm mà không thay đổi thông số hình dạng, kích thước thuộc tính từ nam châm góp phần giúp cho không gian từtrường xung quanh nam châm có thêm nhiều vùng từtrườngbiếnthiên qua làm tăng thêm vị trí làm vị trí ổn định cho đối tượng từ tính không gian xung quanh nam châm 3.2 So sánh từtrườngbiếnthiêntừtrường bề mặt số cấu hình nam châm mô phần mềm mô tính toán lý thuyết 3.2.1 Cấu hình 11 nam châm Hình 20 Cấu hình 1×1 nam châm vị trí khảo sát từtrường phần mềm Ansys Maxwell Trước hết, thực mô lại từtrường xung quanh cấu hình 11 nam châm hình trụ phần 3.1.1 phần mềm mô Ansys Maxwell sử dụng mô hình từ tích Trong phần khảo sát thành phần từtrường Bz số điểm đặc trưng nằm trục nam châm (x = µm), nằm đường thẳng song song vớitrục nam châm mép nam châm (x = 25 µm) nằm đường thẳng song song vớitrục nam châm, cách nam châm khoảng 2R (x = 50 µm) theo khoảng cách d khác (hình 3.20) Kết thu được biểu diễn đồ thị hình 3.21 Đồ thị hình 3.21a cho thấy giá trị từtrường Bz điểm nằm trục nam châm giảm khoảng cách với bề mặt nam châm tăng Giá trị từtrường Bz điểm đường tiếp tuyến với nam châm song song vớitrục nam châm có điểm cực đại (Bz max ~ 75 mT) độ cao ~ 2.5 µm so với bề mặt nam châm (hình 3.21b) Giá trị từtrường Bz điểm đường 49 (a) (b) (c) Hình 21 Thành phần từtrường Bz mô điểm nằm trục nam châm cách mặt nam châm khoảng d (a), điểm nằm đường thẳng qua mép nam châm song song vớitrục nam châm cách mặt nam châm khoảng d (b), điểm nằm đường thẳng song song vớitrục nam châm cách trục nam châm khoảng 2R (c) 50 x = 50 µm tăng dần dải khoảng cách d xét Có thể thấy rằng, kết mô thu phần hoàn toàn tương đồng với kết mô vị trí tương đương cấu hình 11 nam châm phần 3.1.1 Bảng So sánh giá trị từtrường Bz tính toán mô hình dòng mô hình từ tích với giá trị Bz mô phần mềm số điểm nằm trục nam châm hình trụ dầy µm, đường kính 50 µm độ từ dư 1.2 T dọc theo trục nam châm d (µm) Bz tính toán lý thuyết (mT) Bz mô phần mềm (mT) Mô hình từ tích MacMMems Mô hình dòng Ansys Maxwell 117.66 117.66 117.53 111.85 10 85.43 85.43 85.45 81.00 20 49.15 49.15 49.15 46.42 Để so sánh kết mô thu với kết tính toán lý thuyết mô hình từ tích sử dụng công thức 2.31 để tính giá trị từtrường thành phần Bz số điểm nằm trục nam châm cách mặt nam châm khoảng d 𝐵𝑧 = 𝜇0 𝑀 𝑧+𝐿 𝑧 ( − ) √(𝑧 + 𝐿)2 + 𝑅2 √𝑧 + 𝑅2 Áp dụng công thức vào cấu hình nam châm chúng tôi, với µ0M cảm ứng từ dư BR theo trục z nam châm, L chiều cao nam châm (z + 5) khoảng cách d tính từ mặt nam châm (vì mô hình 3.20 gốc tọa độ O nằm tâm mặt nam châm) Như vậy, từtrường thành phần Bz tính số điểm nằm trục nam châm là: + d = µm, tức z = µm: 𝐵𝑧=5 = 1.2 0+5 − ( ) ≈ 0.11766 T √(0 + 5)2 + 252 √02 + 252 + d = 10 µm, tức z = 15 µm: 51 1.2 10 + 10 − ( ) ≈ 0.085434 T √(10 + 5)2 + 252 √102 + 252 𝐵𝑧=15 = + d = 20 µm, tức z = 25 µm: 𝐵𝑧=25 = 1.2 20 + 20 − ( ) ≈ 0.04915 T √(20 + 5)2 + 252 √202 + 252 Bảng 3 So sánh giá trị Bz số điểm bề mặt nam châm thu phần mềm mô Tọa độ x (µm) 25 50 Độ cao d (µm) Từtrường Bz (mT) Ansys Maxwell MacMMems Sai số (%) 111.85 117.53 4.8 10 81.00 85.45 5.2 20 46.42 49.15 5.5 40 14.60 15.61 6.5 100 1.13 1.59 29 -99.69 68.43 245 10 30.71 32.60 5.8 20 19.76 20.49 3.5 40 8.03 9.00 10.7 100 0.94 1.36 30.8 -10.24 -10.06 1.7 10 -6.75 -6.31 6.9 20 -2.50 -1.99 25.6 40 0.87 1.47 40.8 100 0.43 0.87 50.5 52 Như vậy, thấy kết tính toán hoàn toàn phù hợp với kết tính toán mô hình dòng tương đương kết mô phần mềm MacMMems (bảng 3.2) Từ bảng 3.2 thấy kết mô phần mềm Ansys Maxwell sai số trung bình khoảng 5.9% trừ số vị trí đặc biệt so với kết mô phần mềm MacMMems kết tính từ mô hình lý thuyết Sự sai khác không việc quy định thuộc tính vật lý cho nam châm phần mềm chưa thực xác, khoảng chia lưới phần mềm chưa phù hợp tốt Bảng 3.3 cho thấy hầu hết giá trị Bz thu phần mềm mô sai khác trung bình 5.9% Điều cho thấy phần mềm có sai khác định phù hợp với thực tế phần mềm mô xây dựng mô hình lý thuyết khác Tuy nhiên sai khác hoàn toàn thu hẹp lại cách điều chỉnh thông số tính toán phù hợp cho trình mô Như nhờ có phần mềm mô giá trị tính toán lý thuyết hoàn thể xác định từ trường, biếnthiêntừtrường nam châm sinh điểm xác định với độ xác cao 3.2.2 Cấu hình 22 nam châm Tiếp theo sử dụng phần mềm mô Ansys Maxwell để mô từtrường không gian xung quanh cấu hình 2×2 nam châm phần 3.1.2 Các kết thu được thể dạng hình ảnh 3D hình 3.22 Hình 3.22a mô không gian từtrường sát bề mặt nam châm (khoảng cách d = µm) Hình 3.22b mô mắt cắt không gian từtrường theo mặt phẳng Oyz Từ hình ảnh thu được, thấy từtrường chủ yếu tập trung mép nam châm nhanh chóng suy giảm xa nam châm theo hướng Trong không gian xung quanh nam châm (d = µm) tồn vùng từtrường ổn định (Bz ~ T) khu vực bốn nam châm, phù hợp với thực tế đường sức từ đường cong khép kín sát bề mặt nam châm nên đường sức xa mép nam châm Từ kết mô thu được, rút giá trị từtrường Bz số điểm cấu hình để so sánh với kết tương ứng phần 3.1.2 Kết so sánh trình bày bảng 3.3 cho thấy phù hợp kết mô hai phần mềm 53 (a) (b) Hình 22 Không gian từtrường sát bề mặt nam châm (a), mặt cắt không gian từtrường dọc theo khoảng cách d từ bề mặt nam châm (b) 54 Bảng So sánh giá trị Bz số điểm bề mặt nam châm cấu hình 2×2 nam châm thu phần mềm mô Từtrường Bz (mT) Tọa độ x (µm) 25 Độ cao d (µm) Sai số (%) MacMMems 108.27 115.18 10 78.97 83.27 5.2 20 45.04 47.30 4.8 40 13.75 14.63 6.1 100 1.38 1.97 30 -109.07 64.51 170 10 29.08 29.11 0.1 20 17.22 17.84 3.5 40 7.31 8.08 9.5 100 1.41 2.02 30.1 -21.34 -21.54 0.93 -13.92 -13.96 -5.27 -5.14 1.57 2.27 1.29 1.97 10 50 Ansys Maxwell 20 40 100 55 0.3 2.5 30.9 4.6 KẾT LUẬN Trong luận văn thu số kết nghiên cứu sau: - Nghiên cứu mô hình lý thuyết dòng tương đương mô hình từ tích để tính toán từtrường bề mặt vật liệu từ nghiên cứu phần mềm mô từtrường tương ứng - Mô phân bố từtrường bề mặt nam châm từ cứng dạng trụ NdFeB có cấutrúc micro-nano, khảo sát ảnh hưởng số lượng vi nam châm, so sánh kết mô sử dụng mô kiểm tra việc tính toán lý thuyết - Khi tăng số lượng nam châm có thêm vùng từtrườngbiếnthiênvới giá trị cực tiểu giảm giá trị cực đại thay đổi, giúp cho ⃗⃗∇𝐵 ⃗⃗ (trong công thức tính lực từ) tăng biếnthiêntừ trường, cụ thể số hạng 𝐵 ⃗⃗∇𝐵 ⃗⃗ đạt giá trị ~ 6×105 T2/m lên Kết nghiên cứu cho thấy 𝐵 vị trí sát mép vi nam châm Thành phần Bz từtrườngbiếnthiên thành phần theo phương song song với bề mặt nam châm (dBz/dy) giảm mạnh độ cao cách bề mặt nam châm (d) lớn, biếnthiên Bz theo phương vuông góc với bề mặt nam châm (dBz/dz) thay đổi độ cao d khác Như việc tăng số lượng nam châm cho phép thành phần lực từ tạo theo phương vuông góc với bề mặt nam châm trì độ cao cách bề mặt nam châm lớn, điều kiện cần để hút đẩy đối tượng từ tính đối tượng xa bề mặt nam châm 56 TÀI LIỆU THAM KHẢO Tiếng Việt [1] Nguyễn Phú Thùy, Vật lý tượng từ, NXB Đại học Quốc gia Hà Nội, 2003 [2] Thân Đức Hiền, Lưu Tuấn Tài, Từ học vật liệu từ, NXB Đại học Bách khoa Hà Nội, 2006 Tiếng Anh [3] O Akdogan , W Li and G Hadjipanayis, “High coercivity of Alnico thin films: effect of Si substrate and the emergence of a novel magnetic phase”, Journal of Nanoparticle Research, Vol 14, 2012, pp 891 [4] G Allaedinil, S M Tasirinl, P Aminayi, “Magnetic properties of cobalt ferrite synthesized by hydrothermal method”, Int Nano Lett, Vol 5, 2015, pp 183–186 [5] H Allag, J Yonnet, M E H Latreche, H Bouchekara, “Coulombian model for 3D analytical calculation of the torque exerted on cuboidal permanent magnets with arbitrarly oriented polarizations”, International Conference on Linear Drives for Industry Applications, Vol 8, 2011, pp 102-108 [6] L Castaldi, H A Davies, M R J Gibbs, “Growth and characterization of NdFeB thin films”, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, Vol 242-245, 2002, pp 1284-1286 [7] O Chadebec, J L Coulomb, F Janet, “A review of magnetostatic moment method”, IEEE Transactions on magnetics, Vol 42, 2006, pp 515-520 [8] S Chigirinsky, M Kustov, N Dempsey, C Ndao and R Grechishkin, “Calculations and measurements of the magnetic field of patterned permanent magnetic films for lab on chip applications”, Rev Adv Mater Sci., Vol 20, 2009, pp 85-91 [9] J A Christodoulides, Y Zhang, G C Hadjipanayis, I Panagiotopoulos and D Niarchos, “CoPt and FePt Thin Films For High Density Record Media”, NATO Advanced Research Workshop on Nanostructured Films and Coatings, Series 3, Vol 78, 2004, pp 1326-1348 57 [10] A Itabashi, M Ohtake, S Ouchi, F Kirino and M Futamoto, “FePd, FePt, and CoPt alloy epitaxial thin films with flat surface grown on MgO(111) substrate”, EPJ Web of Conferences, Vol 75, 2014, pp 6008 [11] S Jeong, Y Hsu, D E Laughlin, and M E McHenry, “Magnetic Properties of Nanostructured CoPt and FePt Thin Films”, IEEE Transactions On Magnetic, Vol 36, 2000, pp 2336-2338 [12] A L Gassner, M Abonnenc, H X Chen, J Morandini, J Josserand, J S Rossier, J M Busnel and H H Girault, “Magnetic forces produced by rectangular permanent magnets in static microsystem”, Lab Chip, Vol 9, 2009, pp 2356-2363 [13] T Mikolanda, M Kosek, A Richter, “3D magnetic field measurement, visulisation and modeling”, Proceeding of the 7th International Conference, Slovakia, 2009, pp 306-309 [14] F Mohseni, M J Pereira, N M Fortunato, J S Amaral, “Magnetic and morphologic properties of Alnico-based rare-earth free permanent magnets”, Journal of Physics D: Applied Physics, Vol 46, 2013, pp 23 [15] V Neu, S Melcher, U Hannemann, S Fähler and L Schultz, “Growth, microstructure and magnetic properties of highly textured and highly coercive Nd-Fe-B films”, Phys Rev, Vol 70, 2009, pp 144418 [16] D Pătroi, M M Codescu, E A Pătroi, V Marinescu, “Structural and magnetic behaviour of DC sputtered Alnico type thin films”, Optoelectronics and Advanced Materials – Rapid Communications, Vol 5, 2011, p 1130-1133 [17] H L Rakotoarison, J P Yonnet, “Using Coulombian Approach for Modeling Scalar Potential and Magnetic Field of a Permanent Magnet With Radial Polarization’’, IEEE Transactions On Magnetics, Vol 43, 2007, pp 1261-1264 [18] R Ravaud and G Lemarquand, “Synthesis about Analytical Approaches for Calculating the Magnetic Field Produced by Permanent Magnets of Various Topologies”, PIERS Proceedings, Cambridge, Vol 11, 2010, pp.281-297 [19] R Ravaud and G Lemarquand, “Magnetic field produced by a parallelepipedic magnet of various and uniform polarization”, Progress In Electromagnetics Research, Vol 98, 2009, pp 207-219 58 [20] I B Roth, “Characterization and use of permanent magnets with extremely strong field gradients”, Master thesis, Department of Physics University of Oslo, 2009, pp 125 [21] K E B Serrona, A Sugimura, R Fujisaki, T Okuda, N Adachi, H Ohsato, I Sakamoto, A Nakanishi, M Motokawa, “Magnetic and structural properties of NdFeB thin film prepared by step annealing”, Materials Science and Engineering Vol 97, 2003, pp 59-63 [22] K E B Serrona, A Sugimura, N Adachi, T Okuda, H Ohsato, and I Sakamoto, “Structure and magnetic properties of high coercive NdFeB films with a perpendicular anisotropy”, Appl Phys Lett Vol 82, 2003, pp.1751 [23] A B Shinde, “Structural and Electrical Properties of Cobalt Ferrite Nanoparticles”, (IJITEE) ISSN, Vol 3, 2013, pp 2278-3075 [24] P D Thang, G Rijnders, D H A Blank, “Stress-induced magnetic anisotropy of CoFe2O4 thin films using pulsed laser deposition”, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, Vol 310, 2007, pp 2621-2623 [25] P Vaishnava, U Senaratne, E Buc, P Boolchand, “Magnetic properties of cobalt-ferrite nanoparticles embeddedin polystyrene resin”, Journal Of Applied Physics Vol 99, 2006, pp.702-708 [26] A Walther, C Marcoux, B Desloges, R Grechishkin, D Givord, N M Dempsey, “Micro-patterning of NdFeB and SmCo magnet films for integration into micro-electro-mechanical-systems”, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, Vol 321, 2009, pp 590-594 59 ...ĐẠI HỌC QUỐC GIA HÀ NỘI TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ BÙI VI T CHUNG TỪ TRƯỜNG CỦA VI CẤU TRÚC TỪ VỚI BIẾN THIÊN TỪ TRƯỜNG LỚN Chuyên ngành:Vật liệu linh kiện nano Mã số: Chuyên... mô-men từ 1.3.3 Vật liệu sắt từ Nghịch từ thuận từ vật liệu từ yếu Sắt từ loại vật liệu từ mạnh Độ cảm từ vật liệu sắt từ lớn độ cảm từ cùa vật liệu nghịch từ thuận từ hàng trăm triệu lần Độ cảm từ. .. chất sắt từ như: - Từ độ bão hòa (MS): từ độ đạt trạng thái bão hòa từ, có nghĩa tất mômen từ chất sắt từ song song với - Từ dư (MR): giá trị từ độ từ trường khử - Lực kháng từ (HC): từ trường