Giữ nguyên góc tới của tia X đến tinh thể và thay đổi bước sóng của chùm tia XChùm tia X hẹp và không đơn sắc được dọi lên mẫu đơn tinh thể cố định Ảnh nhiễu xạ gồm một loạt các vết đặc
Trang 1PHƯƠNG PHÁP PHÂN TÍCH TIA X
GV: TS Lê Vũ Tuấn Hùng
Nhóm: Trương Hoàng Lộc 0413189
Từ Khánh Long 0413187 Nguyễn Mai Bảo Thy 0413236 Đoàn Thị Thanh Thúy 0413206 Trần Thị Khánh Chi 0413263 Nguyễn Thị Thu Hương 0413299
Trang 4I Nhiễu xạ tia X
II Huỳnh quang tia X
III Phổ kế quang điện tử tia X
Nội dung
Trang 5Hãm đột ngột điện tử năng lượng cao hay dịch chuyển điện
tử từ quỹ đạo cao xuống quỹ đạo thấp trong nguyên tử.
Tia X
Năm 1895, Wilhelm Roentgen khám phá ra tia X
Ứng dụng nhiều trong y học và phân tích cấu trúc
tinh thể
Trang 6Nhiễu xạ tia X Huỳnh quang tia X
Phân tích cấu trúc
nguyên tố có trong mẫuPhân tích tia X
Trang 7Chùm tia X nhiễu xạ trên các mặt tinh thể của chất rắn do tính tuần hoàn của cấu trúc tinh thể tạo nên các cực đại
và cực tiểu nhiễu xạ
Tia X với nguyên tử tương tác với nhau
Hiệu quang lộ giữa các tia tán
xạ trên các mặt
ΔL = 2.d.sinθ
Nhiễu xạ tia X
Trang 8Để có cực đại nhiễu xạ thì góc tới phải thỏa mãn điều kiện:
ΔL = 2.d.sinθ = n.λ
Ở đây, n là số nguyên nhận các giá trị 1, 2,
Đây là định luật Vulf-Bragg mô tả hiện tượng nhiễu xạ tia X trên các mặt tinh thể.
3 phương pháp
chụp tinh thể tia X
Phương pháp Laue
Phương pháp nhiễu xạ bột Phương pháp đơn tinh thể quay
Trang 9Giữ nguyên góc tới của tia X đến tinh thể và thay đổi bước sóng của chùm tia X
Chùm tia X hẹp và không đơn sắc được dọi lên mẫu đơn tinh thể cố định
Ảnh nhiễu xạ gồm một loạt các vết đặc trưng cho tính đối xứng của tinh thể
Phương pháp Laue
Trang 10nhau ở các bậc khác nhau
1 vết trong ảnh nhiễu xạ Laue có thể là sự chồng chập của các tia nhiễu xạ ở các bậc khác nhau gây trở ngại cho việc phân tích
dựa trên độ đen của vết.
Phương pháp Laue
Trang 11Phương pháp đơn tinh thể quay
Giữ nguyên bước sóng và thay đổi góc tới.
- Phim được đặt vào
mặt trong của buồng
hình trụ cố định
- Mẫu đơn tinh thể
được gắn trên thanh
quay đồng trục với
buồng
Trang 12- Chùm tia X đơn sắc tới sẽ bị nhiễu xạ trên 1 họ mặt nguyên tử của tinh thể với khoảng cách giữa các mặt
là d khi trong quá trình quay xuất hiện những giá trị thỏa mãn điều kiện Bragg
Thường thì không quay tinh thể 3600 mà chỉ dao động trong 1 giới hạn góc nào đó, nhờ vậy mà số vết nhiễu xạ có thể chập vào nhau
sẽ giảm đi nhiều
- Tất cả các mặt nguyên tử song song với trục quay sẽ tạo nên các vết nhiễu xạ trong mặt phẳng nằm ngang
Kết quả
Phương pháp đơn tinh thể quay
Kết luận:
Trang 13chiếu vào mẫu
- Quay mẫu và quay đầu thu chùm
nhiễu xạ trên đường tròn đồng tâm
Phổ nhiễu xạ sẽ là sự phụ thuộc của cường
độ nhiễu xạ vào 2 lần góc nhiễu xạ (2θ)
Trang 14- Đối với các mẫu màng mỏng, cách thức thực hiện có một chút khác, người ta chiếu tia X tới dưới góc rất hẹp (để tăng chiều dài tia X tương tác với
màng mỏng, giữ cố định mẫu và chỉ quay đầu thu
Phương pháp nhiễu xạ bột cho phép xác định thành phần pha, tỷ phần pha, cấu trúc tinh thể (các tham số mạng tinh thể) và rất dễ thực hiện
Trang 15Phân tích huỳng quang tia X
1913 Moseley đã thiết lập mối liên hệ giữa
cấu trúc nguyên tử và sự bức xạ tia X.
Cơ sở cho phân tích huỳnh quang
1948 Friedman và Birks là người đầu tiên chế tạo hệ phổ kế huỳnh quang
tia X
Cuối thập kỉ 20 Detecter bán dẫn ra đời, hệ phổ kế huỳnh quang tia X
ngày càng phát triển
Đáp ứng nhu cầu phân tích định lượng hàm lượng các
nguyên tố trong nhiều mẫu khác nhau ở nhiều lãnh vực
nghiên cứu như công nghiệp, môi trường, địa chất, dầu khí…
Lược sử phát triển
Trang 16Phân tích huỳng quang tia X
Để nguyên tố phát ra bức xạ huỳnh quang tia X đặc trưng
Dùng 1 nguồn kích
phát gamma, tia X
Trang 17Phân tích huỳng quang tia X
Mẫu phân tích
e Cathode
Trang 18Phân tích huỳng quang tia X
Nguồn đồng vị phóng xạ sử dụng trong phân tích huỳnh quang tia X
Tên
nguồn Chu kì bán rã
(năm)
Năng lượng (keV) Nguyên tố nhạy cao Cường độ
Trang 19Phân tích huỳng quang tia X
Mẫu phải được làm nhẵn trước khi đo
Trang 20Phân tích huỳng quang tia X
Trang 21Phân tích huỳng quang tia X
2 Chuẩn bị mẫu
Chuẩn bị mẫu rắn
Mẫu rắn là vật liệu dạng khối được làm bằng máy để tạo hình dạng kích thước thích hợp, bề mặt phải được làm nhẵn bóng
Chuẩn bị mẫu dung dich
Mẫu dung dịch là dễ chuẩn bị nhất bởi vì nó luôn đồng nhất Nếu có lý do nào đó gây nên sự phân tán trong chất
lỏng thì dễ dàng khử nó bằng cách khuấy đảo
Trang 22Phân tích huỳng quang tia X
3 Detector: (đầu dò ghi bức xạ)
- Có năng lượng từ 1keV – 100keV
- Có thể là loại chứ khí, nhấp nháy, bán dẫn
- Có độ phân giải từ 120eV – 200eV
Trang 23Phân tích huỳng quang tia X
Máy tínhNguồn cao thế
Trang 24Phân tích huỳng quang tia X
- Phân tích nguyên liệu gốm
sứ, xi măng, thuỷ tinh
- Xác định tuổi kim loại quý như Au, Ag, Pt…
- Xác định bề dày lớp mạ
…
Trang 25(X-ray Photoelectron Spectroscopy)
Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
1 Giới thiệu
Là kĩ thuật phân tích tính chất trên
bề mặt vật liệu thông qua phổ Nó thường được dùng để xác định thành phần cơ bản, trạng thái hóa học, trang thái điện tử của các nguyên tố trên bề mặt của vật liệu
Trang 26Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
Phát xạ điện tử trong XPS
Trang 27Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
Tiếp tục nghiên cứu và phát triển
Trang 28- 1969, Hewlett- Packard
Ghi nhận được phổ phân giải ảnh năng lượng cao đầu tiên của NaCl
-1954, nhóm nghiên cứu
của Siegbahn
Chế tạo ra thiết bị XPS đơn sắc thương mại đầu tiên
Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
2 Lược sử phát triển XPS:
Trang 29Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
2 Cơ sở lý thuyết của XPS:
- Năng lượng liên kết của mỗi điện tử phát xạ:
- Phổ XPS biểu diễn sự phụ thuộc của số điện tử phát
ra vào năng lương liên kết (Hình)
Trang 30Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
- Detector đếm số điện tử phát ra thì XPS phải được đặt trong chân không
Trang 31Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
4 Thành phần của 1 hệ XPS:
Trang 32Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
XPS được dùng để xác định:
- Những nguyên tố nào và hàm lượng của những nguyên
tố đó trong bề mặt mẫu có kích thước ~10nm
- Tạp chất gì có trên bề mặt hoặc bên trong khối mẫu
- Mật độ trang thái điện tử
- Độ dày của 1 hay nhiều lớp mỏng của những
vật liệu khác nhau
- Trạng thái hóa học của nguyên tố trong mẫu
- Năng lượng kiên kết của trạng thái điện tử
Trang 33Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
Những vật liệu được phân tích với XPS:
- Các hợp chất vô cơ, hợp kim, chất bán dẫn, polime, chất xúc tác, thủy tinh, ceramic, sơn, giấy, mực, gỗ, răng, xương, dầu nhớt, chất keo
- Vật liệu hữu cơ không được phân tích với XPS
- Những phân tích gần đây về amino axit cho
thấy XPS phải được dùng để đo nhiều axit
trước khi giảm 1 cách đáng kể
Trang 34Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
Giới hạn của XPS:
XPS ghi nhận được tất cả các nguyên tố với Z từ 3 ->
103 Giới hạn này có nghĩa là XPS không thực hiện được với H và He vì 2 nguyên tố này không có các
obitan lõi mà chỉ có các obitan hóa trị
Độ chính xác của phép định lượng:
Phụ thuộc vào 1 vài tham số chẳng hạn như: cường độ đỉnh, độ chính xác của các hệ số nhạy cảm, tính đồng nhất trong thể tích bề mặt…
Trang 35Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
Phổ có
độ phân giải cao cho tín hiệu Si(2p)
Trang 36Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
- 1-10 phút cho 1 lần quét tổng quát để xác định tất cả các nguyên tố
- 1-10 phút cho việc quét phân giải năng lượng cao
để phát hiện những trạng thái hóa học khác nhau
- 1-4 giờ cho chụp mặt nghiêng theo chiều sâu để đo 4-5 nguyên tố như 1 hàm của chiều sâu ăn mòn
Thời gian phân tích
Giới hạn thiết diện phân tích:
Thiết diện phân tích phụ thuộc vào thiết kế dụng cụ Phân tích nhỏ nhất là trong khoảng 10-200µm Kích thước rộng nhất cho chùm tia X đơn sắc là 1-5mm Chùm không đơn sắc là 10-50mm
Trang 37Phổ kế quang điện tử tia X - XPS
Giới hạn kích thước mẫu:
Các dụng cụ cũ chấp nhận những mẫu :1x1 đến 3x3 cm Các hệ thống gần đây có thể chấp nhận những wafer
300mm và những mẫu có kích thước 30x30