Nghiên cứu tạo lớp phủ cứng crom nitrit (crn) để nâng cao tuổi thọ khuôn dập nguội (tt)

MỞ ĐẦU Lý chọn đề tài Trên giới, lớp phủ cứng sử dụng để bảo vệ bề mặt cho dụng cụ trình gia công khí dụng cụ cắt gọt, dụng cụ tạo hình, loại khuôn gia công áp lực … nhằm giảm mài mòn cào xước, tăng độ bền tuổi thọ dụng cụ Các nước hàng đầu khoa học công nghệ Mỹ, Nhật, Đức, hay Hàn Quốc đã, tiếp tục đầu tư nghiên cứu chế tạo lớp phủ cứng vật liệu với tính siêu việt dùng ứng dụng đặc biệt công nghiệp vũ trụ, quốc phòng Bên cạnh nước khu vực Đài loan, Trung quốc hay Thái lan đầu tư mạnh mẽ vào công nghệ bề mặt có chế tạo lớp phủ cứng bảo vệ bề mặt đạt thành tựu đáng khích lệ Những năm gần đây, lớp phủ cứng bắt đầu nhận nhiều quan tâm nhà khoa học kỹ sư nước Các đề tài cấp nhà nước đưa công nghệ tạo lớp phủ cứng vào chương trình nghiên cứu thử nghiệm dụng cụ cắt kim loại khuôn nhựa Các nghiên cứu tiến hành chủ yếu tập trung vào tạo lớp phủ cứng sở vật liệu Ti Các kết đạt từ đề tài cấp độ phòng thí nghiệm, chưa thấy ứng dụng cho sản phẩm thương mại Với lớp phủ cứng gốc Cr nghiên cứu, nhiên khả bám dính lớp phủ với lớp nền, đặc tính ma sát lớp phủ tính chất học quan trọng định chất lượng khả ứng dụng lớp phủ chưa nghiên cứu đánh giá đầy đủ Trên sở đề tài nghiên cứu luận án chọn là: “Nghiên cứu công nghệ tạo lớp phủ cứng crom nitrit (CrN) để nâng cao tuổi thọ khuôn dập nguội” có ý nghĩa khoa học công nghệ, kinh tế tốt Mục tiêu nghiên cứu - Lựa chọn thông số công nghệ trình phủ có ảnh hưởng lớn đến độ bám dính lớp phủ CrN với thép SKD11; - Xác định mối quan hệ lực bám dính lớp phủ CrN với thép SKD11 số thông số công nghệ trình phủ Trên sở đó, xác định thông số công nghệ hợp lý để phủ CrN thép SKD11; - Đánh giá đặc tính ma sát lớp phủ CrN; - Ứng dụng vào thực tế sản xuất Đối tượng và giới hạn nghiên cứu 3.1 Đối tượng nghiên cứu Đối tượng nghiên cứu đề tài trình tạo phủ CrN mẫu thép SKD11 phương pháp phún xạ xung DC Các thông số công nghệ đối tượng nghiên cứu cụ thể đề tài Độ bám dính lớp phủ CrN với thép SKD11; hệ số ma sát, tốc độ mòn lớp phủ CrN tuổi thọ khuôn dập nguội phủ CrN thông số để đánh giá kết đề tài 3.2 Giới hạn nghiên cứu - Chỉ nghiên cứu ảnh hưởng thông số công nghệ (tần số xung, lưu lượng khí nitơ nhiệt độ mẫu phủ) phương pháp phún xạ xung DC đến độ bám dính lớp phủ CrN với thép SKD11 điều kiện phòng thí nghiệm; - Thực nghiệm xác định hệ số ma sát tốc độ mòn lớp phủ CrN điều kiện phòng thí nghiệm; - Lắng đọng lớp phủ CrN bề mặt làm việc cối dập nguội với vật liệu làm khuôn thép SKD11, khảo sát tuổi thọ cối dập nguội điều kiện sản suất Ý nghĩa khoa học và thực tiễn đề tài 4.1 Ý nghĩa khoa học Kết nghiên cứu có ý nghĩa khoa học là: - Dùng phương pháp phún xạ xung DC để nâng cao chất lượng bề mặt dụng cụ; - Xác định ảnh hưởng thông số công nghệ (tần số xung, lưu lượng khí nitơ nhiệt độ mẫu phủ) phương pháp phún xạ xung DC đến độ bám dính lớp phủ với lớp nền; - Đánh giá đặc tính ma sát mài mòn lớp phủ 4.2 Ý nghĩa thực tiễn đề tài luận án Kết nghiên cứu có ý nghĩa thực tiễn là: - Xác lập thông số công nghệ: tần số xung, lưu lượng khí nitơ, nhiệt độ mẫu phủ để ứng dụng cho khuôn dập nguội; - Có thể tiếp tục nghiên cứu ứng dụng tạo lớp phủ phương pháp phún xạ xung DC vào thực tế cho bề mặt số chi tiết dụng cụ Phương pháp nghiên cứu: Nghiên cứu lý thuyết kết hợp với thực nghiệm 5.1 Nghiên cứu lý thuyết - Nghiên cứu công nghệ tạo lớp phủ cứng bề mặt dụng cụ chi tiết Các đặc tính lớp phủ cứng chế tạo công nghệ CVD PVD Giải pháp để nâng cao tuổi thọ khuôn dập nguội; - Nghiên cứu sở lý thuyết trình phún xạ, phương pháp phún xạ xung DC phương pháp đánh giá đặc tính lớp phủ Phương pháp nghiên cứu ảnh hưởng số thông số công nghệ trình phún xạ xung DC đến độ bám dính lớp phủ CrN với thép SKD11 5.2 Thực nghiệm: Phủ CrN mẫu thép SKD11 phương pháp phún xạ xung DC, sau tiến hành đo độ bám dính lớp phủ CrN với thép SKD11 điều kiện phòng thí nghiệm, xử lý số liệu đo phương pháp qui hoạch thực nghiệm để xác định thông số công nghệ phủ hợp lý, xác định đặc tính ma sát lớp phủ Sau phủ lên khuôn dập nguội (vật liệu làm khuôn thép SKD11) khảo nghiệm tuổi thọ khuôn điều kiện sản xuất Cấu trúc luận án Luận án trình bày gồm chương phần mở đầu phần kết luận Chương 1: Tổng quan vấn đề nghiên cứu Chương 2: Phương pháp phún xạ xung DC Chương 3: Vật liệu, thiết bị phương pháp nghiên cứu Chương 4: Xác định ảnh hưởng số thông số công nghệ đến độ bám dính lớp phủ với thép SKD11, đánh giá đặc tính ma sát lớp phủ ứng dụng khuôn dập nguội CHƯƠNG 1: TỔNG QUAN CÁC VẤN ĐỀ NGHIÊN CỨU 1.1 Công nghệ tạo lớp phủ cứng bề mặt chi tiết và dụng cụ 1.1.1 Công nghệ thấm nitơ Thấm Nitơ phương pháp khuếch tán nitơ vào bề mặt chi tiết với mục đích tăng độ cứng tăng tính chịu mài mòn Thấm nitơ thường thực nhiệt độ thấp (480÷650 0C) để không làm hỏng tổ chức sau Quá trình thấm nitơ gồm giai đoạn sau: Giai đoạn phân tích trình tách nguyên tử nitơ; giai đoạn hấp thụ trình nguyên tử nitơ hoạt tính hấp thụ vào bề mặt chi tiết nhờ lực hấp dẫn; giai đoạn khuếch tán trình nguyên tử nitơ hoạt tính hấp thụ bề mặt chi tiết khuếch tán vào sâu từ bề mặt điều kiện nhiệt độ tương đối cao (500 ÷ 6500C) 1.1.1.1 Thấm nitơ thể khí Để thấm nitơ thể khí phải có chất khí cung cấp nitơ nguyên tử, chất khí cung cấp nitơ nguyên tử NH3 Như nitơ nguyên tử tách từ NH3, khuếch tán vào bề mặt chi tiết tạo nên lớp thấm nitơ 1.1.1.2 Thấm nitơ muối nóng chảy Phương pháp thấm nitơ muối nóng chảy khuếch tán đồng thời nitơ, lưu huỳnh bon bể hỗn hợp gồm xianat, cacbonat sunphua; thành phần chủ yếu muối CNO (32-38%) CO (17-21%) Khi thấm, muối nóng chảy nhờ phản ứng hóa học cung cấp (N, S, C, V) đồng thời hạn chế không cho hàm lượng xyanua tăng 1.1.1.3 Thấm Các bon nitơ (C-N) thể khí nhiệt độ cao Thấm C-N thể khí đưa vào lò hỗn hợp khí thấm dầu hỏa (C2H4OH)3N NH3 nhiệt độ thấm 800÷ 9000C, trình phản ứng sinh cácbon nitơ nguyên tử 1.1.1.4 Thấm nito ion hóa Đặt chế độ điện áp 300 đến 800 V, áp suất 133,3 đến 1333 Pa, công suất riêng 0,7 đến W/cm2 Bề mặt chi tiết bị bắn phá ion dương khí thấm bị nung nóng đến khoảng nhiệt độ (450÷550 0C) Ion nitơ bị hút vào bề mặt chi tiết khuếch tán sâu vào bên chi tiết 1.1.2 Công nghệ phun phủ nhiệt khí Công nghệ phun phủ nhiệt khí thực chất đưa hạt rắn vào dòng vật chất có lượng cao dòng khí cháy dòng plasma nhằm tăng tốc độ hạt rắn, nung hạt nóng chảy, đẩy hạt nóng chảy đến bề mặt chi tiết cần phủ 1.1.2.1 Phương pháp phun phủ ngọn lửa ôxy – axêtylen Vật liệu phủ (có thể dạng dây dạng bột) nung nóng chảy lửa ga Kim loại lỏng bị dòng khí nén phân tán thành bụi đẩy với vận tốc cao hướng vào bề mặt kim loại sở chuẩn bị Tại bề mặt chi tiết diễn trình liên kết phần tử hai pha kim loại để tạo thành lớp phủ 1.1.2.2 Phương pháp phun phủ kích nổ khí Phương pháp dùng nguồn nhiệt tạo kích nổ khí với công suất đạt hàng triệu oát, vận tốc phần tử phủ đạt tới 800÷1500 m/s, nhiệt độ đạt 3000÷4000°K làm nóng chảy vật liệu phủ, khí thoát khỏi buồng nổ theo bột, dẫn qua nòng phun tới bề mặt chi tiết 1.1.2.3 Phương pháp phun phủ hồ quang điện Bản chất phương pháp hồ quang điện lợi dụng lửa hồ quang để nung nóng chảy vật liệu phủ, dùng dòng khí có áp suất thổi giọt kim loại lỏng thành dòng bụi với vận tốc cao hướng vào bề mặt kim loại sở 1.1.2.4 Phương pháp phun phủ plasma Đầu phun plasma bao gồm catốt anốt dạng hình ống Hồ quang hình thành đóng mạch điện catốt anốt Dòng khí nitơ argon đồng thời cấp vào đầu phun Ngọn lửa plasma hình thành dòng khí gặp hồ quang Vật liệu cấp vào vùng nhiệt độ cao nung nóng chảy, sau thổi thành bụi bay với vận tốc cao hướng vào bề mặt sở 1.1.3 Công nghệ CVD Công nghệ CVD tạo lớp phủ lắng đọng hóa học từ pha Quá trình CVD thực cách đưa đơn chất (hoặc hợp chất) hóa học pha vào buồng phản ứng có chứa chi tiết cần phủ Trong buồng phủ, phản ứng hóa học xẩy lân cận bề mặt chi tiết cần phủ sản phẩm phản ứng lắng đọng (lớp vật liệu phủ cứng) lên bề mặt chi tiết Phản ứng hóa học xẩy nhiệt độ cần thiết để xẩy phản ứng (thông thường 700÷1000 0C) Các phương pháp CVD thường hay sử dụng TACVD, PECVD, PACVD 1.1.4 Công nghệ PVD Công nghệ PVD tạo lớp phủ lắng đọng vật lý từ pha Quá trình thực theo giai đoạn sau: - Chuyển đổi vật liệu cần lắng đọng từ pha rắn sang pha hơi; - Vận chuyển vật liệu từ nguồn bay qua môi trường áp suất khí thấp buồng phủ đến bề mặt cần phủ; - Lắng đọng vật liệu cần phủ để tạo thành lớp phủ 1.1.4 Phương pháp bốc bay chân không Nguồn cung cấp nhiệt để bốc bay điện trở, dòng điện cảm ứng chùm điện tử 1.1.4.2 Phương pháp phún xạ Khi bề mặt vật rắn bị ion có lượng cao bắn phá, nguyên tử dời khỏi bề mặt Trong trình vật rắn đóng vai trò bia phún xạ, chùm hạt mang lượng (ion phân tử) ion dương sinh plasma, gia tốc đến bia đặt thiên áp âm 1.1.4.3 Phương pháp hồ quang chân không Dựa nguyên tắc tạo plasma với nhiệt độ cao, phân cực catốt > 1kV, mật độ plasma lớn, sử dụng để tạo lớp phủ kim loại, hợp kim, hợp chất nhờ phản ứng hóa học với plasma với vật liệu chi tiết Thường phối hợp với súng điện tử để tạo lớp phủ chi tiết có kích thước lớn Lớp phủ có chiều dày lớn độ xếp chặt cao, độ bám dính lớp phủ với lớp tốt 1.1.4.4 Phương pháp cấy ion Phương pháp cấy ion sử dụng điện áp cao (> 100 KV) xung điện áp cực cao Phương pháp cấy ion tạo lớp phủ cứng cách hoàn hảo cấu trúc lẫn chất lượng tốc độ tạo phủ Tuy nhiên giá thành cao công nghệ chủ yếu dùng cho ngành máy bay công nghệ vũ trụ 1.2 Đặc tính lớp phủ cứng 1.2.1 Độ cứng lớp phủ Độ cứng lớp phủ đặc tính quan định khả chịu mài mòn lớp phủ Độ cứng lớp phủ phụ thuộc vào cấu trúc tề vi lớp phủ pha, kích thước hạt 1.2.2 Khả bám dính lớp phủ với lớp nền Khả bám dính lớp phủ với lớp đặc tính quan trọng định tuổi thọ hiệu suất chi tiết phủ Độ bám dính lớp phủ với lớp phụ thuộc chủ yếu vào phương pháp tạo phủ trạng thái bề mặt trước tạo phủ 1.2.3 Đặc tính ma sát lớp phủ Hệ số ma sát lớp phủ đặc tính quan trọng góp phần định khả chịu mài mòn, khả chống dính lớp phủ Hệ số ma sát lớp phủ phụ thuộc vào phương pháp tạo phủ vật liệu lớp phủ 1.2.4 Đặc tính mòn lớp phủ Khả chịu mòn lớp phủ đặc tính quan trọng định khả ứng dụng lớp phủ Độ mòn lớp phủ phụ thuộc vào hệ số ma sát lớp phủ, khả bám dính lớp màng với lớp nền, cấu trúc tế vi lớp phủ 1.3 Ứng dụng lớp phủ cứng CrN khuôn dập nguội 1.3.1 Lớp phủ cứng CrN Lớp phủ cứng CrN có khả chịu ăn mòn mài mòn cao, hệ số ma sát tương đối nhỏ độ cứng, độ bám dính lớp phủ với lớp cao Phương pháp sử dụng để tạo lớp phủ cứng CrN phương pháp phún xạ hồ quang chân không 1.3.2 Ứng dụng lớp phủ cứng CrN khuôn dập nguội Trong trình tạo hình dập nguội phôi chuyển động trượt tương đối bề mặt khuôn dập nguôi áp suất tiếp xúc cao, khuôn dập nguội xuất hiện tượng sau: Mòn dính, mài mòn, mòn mỏi, nứt vỡ tượng biến dạng dẻo Với vật liệu làm khuôn thép SKD11 chủ yếu cải thiện tượng mỏi, nứt vỡ biến dạng dẻo trình làm việc khuôn Để giảm mòn dính, mài mòn bề mặt làm việc khuôn dập nguội phải giảm ma sát, tăng độ cứng bề mặt làm việc khuôn dập nguội Do giải pháp để giải vấn đề tạo lớp phủ cứng lên bề mặt làm việc khuôn dập nguôi Trong lớp phủ giảm ma sát, tăng khả chịu mài mòn CrN vật liệu dự đoán có tính chất bền hóa học khả chống mòn cào xước tốt, hệ số ma sát thấp phù hợp để phủ lên bề mặt khuôn dập nguội Trong phương pháp phún xạ phương pháp phún xạ xung DC thuộc phương pháp tạo lớp phủ hợp chất phủ vật lý môi trường plasma (PVD) không đòi hỏi cao độ chân không, điều khiển trình làm việc, không xuất hiện tượng phóng điện hồ quang, khắc phục tượng nhiễm độc bia, nhiệt độ trình phủ thấp, lượng ion plasma cao, hiệu suất lắng đọng cao phù hợp để tạo lớp phủ cứng CrN bề mặt làm việc khuôn dập nguội với vật liệu thép SKD11 Kết luận chương - Các lớp phủ cứng với chiều dày từ vài nm tới vài chục m chế tạo công nghệ PVD không làm thay đổi cấu trúc vật liệu hình dạng hình học bề mặt phủ, có khả chống mài mòn ăn mòn hóa học cao, có hệ số ma sát thấp độ cứng cao, thích hợp sử dụng để bảo vệ bề mặt mềm mà không cần phải chế tạo khối vật liệu, cho hiệu kinh tế cao, đặc biệt với vật liệu đắt tiền - Để giảm ma sát, mài mòn, đặc biệt mòn dính bề mặt làm việc khuôn dập nguội với mục đích nâng cao tuổi thọ khuôn dập nguội phải tạo lớp phủ cứng lên bề mặt làm việc khuôn dập nguôi Lớp phủ cứng CrN dự đoán vật liệu có tính chất phù hợp để phủ lên bề mặt làm việc khuôn dập nguội - Phương pháp phún xạ xung DC thuộc công nghệ phủ PVD phương pháp phún xạ sử dụng nguồn điện áp xung DC điều khiển trình làm việc, không xuất hiện tượng phóng điện hồ quang, nhiệt độ trình phủ thấp, lượng ion plasma cao hiệu suất phún xạ cao phương pháp hiệu qủa để tạo lớp phủ cứng CrN bề mặt làm việc khuôn dập nguội (vật liệu làm khuôn thép SKD11) để tăng tuổi thọ khuôn dập nguội CHƯƠNG 2: PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ XUNG DC 2.1 Cơ sở lý thuyết tạo lớp phủ phương pháp phún xạ 2.1.1 Cơ chế phún xạ Bia làm từ vật liệu kim loại M bị ion có lượng cao bắn phá, bị phún xạ kết tụ lên chi tiết Trong trình tương tác ion – chất rắn, lượng truyền cho nguyên tử M nguyên tử phún xạ khỏi bề mặt bia 2.1.2 Hiệu suất phún xạ Hiệu suất phún xạ Y tỷ số số nguyên tử vật liệu bia bắn khỏi bia số ion tới bề mặt bia 2.1.3 Các yếu tố ảnh hưởng đến hiệu suất phún xạ Hiệu suất phún xạ Y phụ thuộc vào khối lượng ion, lượng ion Các yếu tố chủ yếu định quan hệ điện áp điện cực áp suất phún xạ 2.2 Cơ sở lý thuyết phún xạ từ trường 2.2.1 Chuyển động điện tử điện trường và từ trường song song Khi có từ trường, thời gian điện tử có mặt plasma kéo dài tăng khả va chạm ion, dòng phóng điện lớn lên tăng tốc độ phún xạ So với cấu hình phún xạ dòng chiều đơn giản, cấu hình hoạt động dòng áp suất khí lớn Do đó, có từ trường khả điện tử bắn phá bề mặt chi tiết tăng khả làm việc độ chân không tăng 2.2.2 Chuyển động điện tử điện trường và từ trường vuông góc Khi sử dụng từ trường có hướng song song với mặt bia vuông góc với điện trường Ban đầu điện tử phát xạ từ catốt kéo phía anốt thực chuyển động xoắn ốc trình di chuyển điện tử gặp vùng từ trường song song, quỹ đạo chúng bị uốn cong trở bia Bằng cách định hướng nam châm bia cách thích hợp, “đường chạy” định rõ nơi điện tử nhảy vòng tròn với tốc độ cao gây tượng bia bị mòn, làm việc ion hóa xẩy mạnh bên đường 2.3 Phương pháp phún xạ xung DC 2.3.1 Nguyên lý hoạt động hệ phún xạ xung DC Nguồn điện áp xung DC Anốt Hạt vật liệu Đường sức từ I Mẫu phủ on (Nền) Lớp phủ Đường sức từ Ion Bia (Catốt) Hạt vật liệu phủ Các nam châm Hình 2.1 Nguyên lý hoạt động hệ phún xạ xung DC Theo sơ đồ hình 2.1, đầu phún xạ bao gồm hệ thống nam châm để tạo thành cụm từ trường cho véc tơ cảm từ B song song với bề mặt catốt Nguồn điện áp xung DC nối vào catốt anốt tạo điện trường có véc tơ cường độ điện trường E vuông góc với bề mặt catốt Như véc tơ E B vuông góc với Khi chuyển động điện từ trường hạt điện tích chịu tác động lực Lorentz, có điện trường cường độ lớn tạo hai điện cực với áp suất thích hợp khoảng không gian hai điện cực xuất plasma hay gọi tượng phóng điện khí Các ion dương tạo trình phóng điện gia tốc điện trường bắn phá vào catốt Nếu lượng ion đủ lớn động truyền cho nguyên tử vật liệu bia lớn giới hạn hay gọi công thoát (đặc trưng cho vật liệu) có nguyên tử hay phân tử vật liệu bia thoát khỏi bề mặt catốt nguyên tử bia lắng đọng bề mặt mẫu 2.3.2 Ảnh hưởng số thông số công nghệ trình phủ phương pháp phún xạ xung DC 2.3.2.1 Ảnh hưởng hàm lượng (lưu lượng) khí nitơ Khi thay đổi hàm lượng (lưu lượng) khí nitơ thay đổi cấu trúc, thành phần hóa học, tổ chức tốc độ lắng đọng lớp phủ 2.3.2.2 Ảnh hưởng tần số xung Khi thay đổi tần số xung thay đổi độ nhám, độ cứng, lực bám dính lớp phủ với lớp tốc độ lắng đọng lớp phủ 2.3.2.3 Ảnh hưởng nhiệt độ mẫu phủ Khi thay đổi nhiệt độ mẫu trình phủ làm thay đổi độ nhám, độ cứng, lực bám dính lớp phủ với lớp nền, tốc độ lắng đọng lớp phủ đặc biệt trình khuếch tán lớp phủ 2.4 Nghiên cứu làm bề mặt bề mặt mẫu trước phủ Xử lý bề mặt trước khí phủ khâu quan trọng quy trình phủ, định nhiều đến chất lượng lớp phủ đặc biệt độ bám dính lớp phủ với lớp Vì xử lý bề mặt khâu then chốt 2.4.1 Làm bề mặt phương pháp hóa học Làm phương pháp hóa học mục đích loại bỏ dầu mỡ chất bẩn dạng rắn thực chủ yếu bề mặt chi tiết, bao gồm vùng ký nước không ký nước 2.4.2 Làm buồng phủ Làm buồng phủ nhằm mục đích làm lớp bẩn bám bề mặt chi tiết phủ mà phương pháp làm hóa học không tẩy rửa Kết luận chương - Lớp phủ hình thành nhờ dòng ion lượng cao bắn phá vào bề mặt bia làm bật nguyên tử bề mặt bia, nguyên tử chuyển động môi trường plasma lắng đọng bề mặt chi tiết tạo thành lớp phủ - Hiệu suất phún xạ phụ thuộc vào dòng ion bắn phá bề mặt bia Năng lượng dòng ion phụ thuộc vào quan hệ điện áp (dòng điện) điện cực áp suất buồng phún xạ - Trong phún xạ từ trường bố trí điện trường (E) từ trường vuông góc với bề mặt bia, hiệu ứng làm tăng hiệu suất phún xạ - Trong trình tạo phủ phương pháp phún xạ xung DC thông số công nghệ: lưu lượng (hàm lượng) khí nitơ, tần số xung, nhiệt độ mẫu phủ thông số công nghệ ảnh hưởng có tính định tới chất lượng lớp phủ - Qui trình làm cho bề mặt trước phủ bao gồm bước: bước làm bề mặt phương pháp hóa học, bước làm bề mặt ion lượng cao CHƯƠNG 3: VẬT LIỆU, THIẾT BỊ VÀ PHƯƠNG PHÁP NGHIÊN CỨU 3.1 Vật liệu và thiết bị sử dụng trình nghiên cứu 3.1.1 Vật liệu phủ, mẫu phủ và thiết bị phủ - Vật liệu phủ gồm bia Crôm (99,99%) khí N2 (99,99%) - Mẫu phủ thép SKD11 có thành phần hóa học: C 1.4%; Si 0.275%; Mn 0.39%; Cr 11,24%; Mo 0,83%; V< 0,205%; P