CHƯƠNG 2 : THỰC NGHIỆM
2.2. Thí nghiệm
2.2.2. Khảo sát đặc trưng của vật liệu
Đặc trưng của vật liệu được phân tích bằng các phương pháp: XRD, FTIR, Raman, SEM–EDS, diện tích bề mặt riêng BET, và TGA.
XRD: Mẫu được đo tại Trung tâm Công nghệ Việt Đức, Đại học Công nghiệp
Thực phẩm Thành phố Hồ Chí Minh với máy XRD D8 Advance của hãng Bruker – Đức. Nguồn bức xạ Cu–Kα với bước sóng λ = 1,5406 nm; góc quét 2θ = 5 – 80 o. Mẫu dạng bột được nghiền mịn.
FTIR: Mẫu được đo tại Phịng thí nghiệm PTN Trọng điểm ĐHQG – HCM
Cơng nghệ Hóa học và Dầu khí (Key CEPP Lab), Trường Đại Học Bách Khoa – Đại học Quốc gia Thành phố Hồ Chí Minh. Mẫu vật liệu được trộn với bột KBr rồi được nén thành dạng miếng trước khi đo. Các thông số của máy: Độ phân giải tốt 0,2 cm–1; độ chính xác dải phổ là 0,1% T; dãy phổ từ 4000 – 400 cm–1.
Raman: Mẫu dạng bột được đo bằng máy LabRam HR Evolution, hãng sản xuất
HORIBA, xuất xứ Nhật Bản, ở viện công nghệ Nano Đại học Quốc gia Thành phố Hồ Chí Minh. Bước sóng kích thích của máy là 632 nm, môi trường đo là mơi trường hỗn hợp khí trơ He và Ne.
SEM – EDS: Mẫu được đo tại Trung tâm Công nghệ Việt Đức, Đại học
Công nghiệp thực phẩm TP.HCM, sử dụng máy JMS – IT 200, Jeol, Nhật Bản. Điều kiện đo: Điện áp gia tốc 10 kV, độ phóng đại 10000, độ phân giải 512 384, thời gian dừng 0,20 ms.
BET: Mẫu được đo ở Viện Khoa học Vật liệu Ứng dụng − Viện Hàn lâm Khoa học
và Công nghệ Việt Nam, quận 12, TP.HCM. Diện tích bề mặt riêng được xác định dựa trên đường hấp phụ/giải hấp N2 ở 77,35 K và Po = 756 mmHg.
32
TGA: Mẫu được đo tại PTN Trung tâm Khoa Hóa Trường Đại học Sư phạm
TP.HCM. Mẫu được đo bằng máy SETARAM TGA DSC 1600 LabSys EVO. Điều kiện đo: Nhiệt độ 0 – 820 oC.