3.1.1 Khảo sát đế silic xốp phủ Pt
Sau khi tạo ra đế Si xốp, chúng tôi đã tạo ra các đế SERS Si xốp phủ Pt. Để khảo sát bề mặt đế SERS phủ Pt, chúng tôi thực hiện đo SEM bề mặt đế khi phủ các hạt nano Pt với dòng điện 30mAvà thời gian lần lượt là 1 phút (8nm), 2 phút (15nm), 5 phút (40nm) và 8 phút (60nm).
(a) Đế Si xốp (b) Đế Si xốp phủ Pt 8nm
(e) Đế Si xốp phủ Pt 60nm
Hình 3.1 Ảnh SEM đế Si xốp và đế Si xốp phủ các hạt nano Pt lần lƣợt độ dày 8nm, 15nm, 40nm và 60nm
Từ hình ảnh SEM ta thấy độ nhám của đế phủ Pt giảm dần khi ta tăng thời gian phún xạ lên tức độ dày của Pt tang lên.
3.1.2 Khảo sát đế silic xốp phủ Au
Tương tự như đế Silic xốp phủ Pt, đối với đế Silic xốp phủ Au chúng tôi đã thực hiện khảo sát ảnh SEM của đế Si xốp ban đầu và các đế Si xốp sau khi phủ Au trong các khoảng thời gian 10 phút (15nm), 12 phút (18nm), 15 phút (23nm) với cường độ dòng phún xạ là 4mA
(a) (b)
(c) (d)
Hình 3.2: Ảnh SEM đế Si xốp ban đầu (a) và đế Si xốp phủ Au lần lƣợt vời bề dày 15nm, 18nm, 23nm.
Từ ảnh SEM ta quan sát được đế Si xốp sau khi phủ Au với thời gian tăng dần thì bề mặt có xu hướng phẳng dần và giảm độ xốp. Bề mặt đế Si xốp phủ Au
với bề dày 18nm bắt đầu có tình trạng phẳng. Tương tự như phủ Pt ta cần đế Si xốp được phủ Au trên bề mặt nhưng vẫn đảm bảo độ gồ ghề trên bề mặt để đạt được độ nhạy tốt nhất.
3.1.3 Khảo sát đế silic xốp phủ Ag
Đế Si sau khi được làm xốp chúng tôi đem đi phủ Ag bằng phương pháp phún xạ với độ dày từ 5nm, 10nm, 15nm, 20nm, 35nm, 50nm sau đó đem đi khảo sát SEM.
(a) : Si xốp (b) Si xốp phủ 5nm Ag
(e):
Si xốp phủ 20nm Ag (f): Si xốp phủ 35nm Ag
Hình 3.3: Ảnh SEM của các mẫu Si xốp (a) và Si xốp phủ Ag với độ dày 5nm (b), 10nm (c), 15nm (d), 20nm (e), 35nm (f).
Các đế Silic xốp phủ Ag được thực hiện trên thiết bị phún xạcủa Viện Khoa
học vật liệu, Viện Hàn lâm KH-CN Việt nam
Từ các ảnh SEM thấy rằng đế Si xốp sau khi phủ Ag với độ dày tăng dần thì độ xốp của màng Silic giảm dần và có xu hướng phẳng dần . Để có một đế SERS có độ nhạy tốt ta cần đế Si xốp có phủ kim loại nhưng vẫn phải đảm bảo bề mặt nhận được có độ xốp cao. Có nhận xét là đế Silic xốp phủ Ag bắt đầu từ 15nm có xu hướng phẳng. Như vậy để tạo ra được đế SERS phủ Ag có độ nhạy tốt cần phủ lên đế Silic xốp lớp Ag có bề dày nhỏ hơn 15nm.