Kết quả phân tích EDS

Một phần của tài liệu (LUẬN văn THẠC sĩ) chế tạo đế SERS (tán xạ raman tăng cường bề mặt) để phát hiện chất bảo vệ thực vật nồng độ thấp (Trang 44 - 47)

3.2.1 Khảo sát trên đế silic xốp phủ Pt

Để khảo sát độ sạch của đế Si xốp chúng tôi thực hiện đo EDS trên đế Si xốp trước khi phủ các hạt nano kim loại lên.

Hình 3.4 Phổ EDS của đế Si xốp

Từ kết quả EDS trên mẫu Si xốp ta thấy trên đế thành phần chủ yếu là Si và có 1 lượng nhỏ Oxy xuất hiện trong q trình làm thí nghiệm. Oxy cũng có thể xuất hiện khi các cấu trúc sợi Silic hình thành sẽ bị Oxy hóa một phần trong quá trình sấy, ủ mẫu trong mơi trường khơng khí.

Các hình 3.5-3.6 là phổ EDS của các mẫu Silic xốp phún xạ Pt tại dòng 30mA với bề dày 8nm và 15nm.

Hình 3.6: Phổ EDS của mấu Si xốp phủ Pt 15nm

Trên phổ EDS của các mẫu Silic xốp phủ Pt ta có thể thấy, ngồi các ngun tố có trên đế Silic xốp đã thấy trước đây cịn có thêm các đỉnh đặc trưng rất rõ ràng của Pt. Khi thời gian phủ càng lâu thì cường độ các đỉnh của Pt càng cao.

3.2.2 Khảo sát đế silic xốp phủ Au

Đế silic xốp sau khi phủ các hạt nano Au bằng phương pháp phún xạvới cường độ dòng 4mA trong khoảng thời gian khác nhau đã được khảo sát thành phần các ngun tố hóa học bằng phổ EDS. Các hình 3.7, 3.8 và 3.9 là phổ EDS của các mẫu Silic xốp phún xạ Au với bề 10nm, 15nm và 18nm.

Hình 3.8: Phổ EDS của mẫu Si xốp phủ Au 10nm và 15nm

Tương tự như Pt. Từ kết quả EDS trên mẫu Si xốp phủ Au ta thấy được thành phần trên mẫu chủ yếu là Au và Si không lẫn tạp chất khác, và một lượng nhỏ Oxy xuất hiện trên đế Silic xốp có cường độ giống với phổ EDS của đế Silic xốp (hình 3.4). Cường độ các đỉnh đặc trưng của Au tăng dần khi tăng độ dày lên.Từ đó ta có thể kết luận rằng màng đế Si xốp đã được phủ chỉ có các hạt Au.

Một phần của tài liệu (LUẬN văn THẠC sĩ) chế tạo đế SERS (tán xạ raman tăng cường bề mặt) để phát hiện chất bảo vệ thực vật nồng độ thấp (Trang 44 - 47)