Quá trình oxi hóa cục bộ bằng AFM đã được áp dụng cho rất nhiều loại kim loại khác nhau bao gồm Ti, Al, Cr, Nb, Ni, Ta, Mo, Zr và Cu. Một ví dụ là hai nhà khoa học Snow và Campell mô tả cách sử dụng đo điện tại chỗ để kiểm soát sự chế tạo thiết bị kim loại-oxit trên màng mỏng Ti. Trong các thí nghiệm của họ, một đầu dò được áp điện quét trên bề mặt đã định trước tạo thành dây mà có thể cản trở dòng của dòng điện . Đầu dò sau đó di chuyển đến khư vực không bị oxi hóa của dây (wire) và quét vế phía vùng đã bị oxi hóa.
Điện trở của cấu trúc vì vậy sẽ tăng khi dòng điện bị cản trở bởi quá trình oxi hóa. Độ rộng của dây và điện trở của mối nối được điều khiển thời gian thực, có thể đo được điện trở linh kiện trong suốt quá trình chế tạo. Cấu trúc với kích cỡ dưới 10 nm được chế tạo một cách chính xác với những tính chất điện.
Trong công việc nghiên cứu của Hsu và các cộng sự, cấu trúc oxit được hình thành trên đế Ni, sau đó phần không bị oxi hóa được ăn mòn bằng dung dịch axit HNO3. Nhà nghiên cứu Lin đã sử dụng đầu dò AFM làm oxi hóa bề mặt Ni như là khuôn mẫu cho quá trình phát triển CNTs có chọn lọc. CNTs mọc thành chùm hay riêng rẽ thẳng đứng với đường kính từ 30-80 nm hình thành trên cấu trúc oxit bằng phương pháp lắng đọng hơi màng hóa học. Điều đó cũng cho thấy rằng đường kính ống có thể điều khiển bởi kích cỡ của cấu trúc oxit. Nhà nghiên cứu Roland giới thiệu quá trình oxi hóa màng mỏng Mo để tạo thành khuôn mẫu MoO3 . Khuôn mẫu Mo sau đó đóng vai trò như chất cảm quang để tạo khuôn mẫu dưới đế thông
44
qua sự ăn mòn ướt hoặc chế tạo cấu trúc kim loại thông qua 2 lớp chất cảm quang Mo/Polyme và tiếp cận kỹ thuật lift-off.
Hình 3.12: Ảnh SEM của a) khuôn mẫu oxit hình vuông trƣớc khi phát triển CNTs và b) CNTs đa vách phát triển thẳng đứng thƣơng ứng với khuôn mẫu.