Xác định một số chỉ tiêu lượng vết trong bột vonfram dùng cho thuốc vi sai an toàn bằng phương pháp ICP MS

82 11 0
Xác định một số chỉ tiêu lượng vết trong bột vonfram dùng cho thuốc vi sai an toàn bằng phương pháp ICP MS

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

Thông tin tài liệu

Ngày đăng: 10/07/2021, 08:39

Mục lục

  • DANH MỤC CÁC KÝ HIỆU VIẾT TẮT SỬ DỤNG TRONG LUẬN VĂN

  • DANH MỤC CÁC BẢNG

  • DANH MỤC CÁC HÌNH

  • 1.1.1. Sơ lược về kim loại Vonfram (W)

  • 1.1.3. Ứng dụng của kim loại W và các hợp chất của nó [54]

  • 1.1.4. Công nghệ chế tạo Vonfram bột [54]

  • 1.2.1. Tính chất lý, hóa học

  • 1.2.2. Sự tồn tại của các nguyên tố vi lượng có trong bột W trong thiên nhiên

  • 1.3. Các phương pháp xác định các nguyên tố vi lượng trong bột W

  • 1.3.1. Phương pháp phân tích trọng lượng [4, 6]

  • 1.3.2. Phương pháp thể tích

  • 1.3.3. Các phương pháp phân tích điện hoá

  • 1.3.5. Các phương pháp phân tích quang

  • 2.1. Mục tiêu và nội dung nghiên cứu

  • 2.1.1. Mục tiêu nghiên cứu

  • 2.1.2. Nội dung nghiên cứu

  • 2.2. Phương pháp phân tích phổ Plasma cảm ứng cao tần (ICP-MS)

  • 2.2.1. Đặc điểm của phương pháp phân tích bằng ICP-MS

  • 2.2.2. Bản chất của phổ ICP-MS [8]

  • 2.2.3. Nguyên tắc và sự xuất hiện phổ khối ICP-MS

Tài liệu cùng người dùng

  • Đang cập nhật ...

Tài liệu liên quan