1. Trang chủ
  2. » Luận Văn - Báo Cáo

Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao

143 522 5

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Thông tin cơ bản

Định dạng
Số trang 143
Dung lượng 4,32 MB

Nội dung

Ngày đăng: 10/03/2015, 02:51

Nguồn tham khảo

Tài liệu tham khảo Loại Chi tiết
1. NJ D. Carter et al, 46th International Symposium of the American Vacuum Society Seattle, Washington, USA October 25-29, 1999R Sách, tạp chí
Tiêu đề: 46th International Symposium of the American Vacuum Society
2. Scholl, in 36th Annual Technical Conference Proceedings, Dallas (Society of Vacuum Coaters), p 405 (1993) Sách, tạp chí
Tiêu đề: 36th Annual Technical Conference Proceedings
4. R. Scholl, in 37th Annual Technical Conference Proceedings, Boston (Society of Vacuum Coaters) p. 312 (1994) Sách, tạp chí
Tiêu đề: 37th Annual Technical Conference Proceedings
6. F. Fietzke, K. Goedicke, and W. Hempel, Surf.Coat.Technol., 86-87, 657 (1996) Sách, tạp chí
Tiêu đề: Surf.Coat.Technol
7. P. J. Kelly, O. A. Abu-Zeid, R. D. Arnell, and J. Tong, Surf.Coat.Technol., 86-87, 28 (1996) Sách, tạp chí
Tiêu đề: Surf.Coat.Technol
8. V. Kirchoff and T. Kopte, in 39th Annual Technical Conference Proceedings, Philadelphia, PA (Society of Vacuum Coaters), p. 117 (1996) Sách, tạp chí
Tiêu đề: 39th Annual Technical Conference Proceedings
9. J. C. Sellers, in 39th Annual Technical Conference Proceedings, Philadelphia, PA (Society of Vacuum Coaters), p. 123(1996) Sách, tạp chí
Tiêu đề: 39th Annual Technical Conference Proceedings
10. S. Schiller, V. Kirchoff, K. Goedicke, and P. Frach, in 40th Annual Technical Conference Proceedings, New Orlean, LA (Society of Vacuum Coaters), 129(1997) Sách, tạp chí
Tiêu đề: 40th Annual Technical Conference Proceedings
11. O. Zywitzki and G. Hoetzsch, Surf.Coat.Technol., 94-95, 303 (1997) Sách, tạp chí
Tiêu đề: Surf.Coat.Technol
12. A. Belkind, A. Freilich, and R. Scholl, in 41th Annual Technical Conference Proceedings, Boston, 1998 (Society of Vacuum Coaters), p.321 (1998) Sách, tạp chí
Tiêu đề: 41th Annual Technical Conference Proceedings
3. S. Schiller, K. Goedicke, J. Reschke, V. Kirchke, S. Schneider, and F Khác
5. W. D. Sproul, M.E. Graham, M.S. Wong, S. Lopez, D. Li, and R.A Khác

HÌNH ẢNH LIÊN QUAN

Hình 1.1 Ứng dụng của màng mỏng điện môi cho linh kiện quang học - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1.1 Ứng dụng của màng mỏng điện môi cho linh kiện quang học (Trang 18)
Hình 1. 2 Thiết bị bốc bay chân không Dreva opt 400 của hãng VTD –  CHLB Đức - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 2 Thiết bị bốc bay chân không Dreva opt 400 của hãng VTD – CHLB Đức (Trang 19)
Hình 1. 3 Thiết bị chế tạo panel pin mặt trời màng mỏng sử dụng công nghệ - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 3 Thiết bị chế tạo panel pin mặt trời màng mỏng sử dụng công nghệ (Trang 21)
Hình 1. 8 Sơ đồ nguyên lý hoạt động của công nghệ phún xạ xung - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 8 Sơ đồ nguyên lý hoạt động của công nghệ phún xạ xung (Trang 25)
Hình 1. 9 Phân bố đường sức của từ trường - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 9 Phân bố đường sức của từ trường (Trang 26)
Hình 1. 10 Nguồn gốc của phóng điện hồ quang trong quá trình phún - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 10 Nguồn gốc của phóng điện hồ quang trong quá trình phún (Trang 28)
Hình 1. 11 Các hạt marco xuất hiện trên bề mặt màng khi phóng điện hồ - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 11 Các hạt marco xuất hiện trên bề mặt màng khi phóng điện hồ (Trang 29)
Hình 1. 12 Mô đun phần điện áp xung dương cho quá trình xóa bỏ điện tích - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 12 Mô đun phần điện áp xung dương cho quá trình xóa bỏ điện tích (Trang 30)
Hình 1. 13 Hiện tượng phóng điện hồ quang giảm khi sử dụng nguồn xung - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 1. 13 Hiện tượng phóng điện hồ quang giảm khi sử dụng nguồn xung (Trang 31)
Hình 2. 8 Đầu phún xạ lắp bia titan và silic lắp đặt trong buồng chân không - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 2. 8 Đầu phún xạ lắp bia titan và silic lắp đặt trong buồng chân không (Trang 40)
Hình 2. 9 Dạng của điện áp xung đặt vào cathode (xung âm và xung dương - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 2. 9 Dạng của điện áp xung đặt vào cathode (xung âm và xung dương (Trang 41)
Hình 2. 12 Sơ đồ nguyên lý khối điều khiển trung tâm - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 2. 12 Sơ đồ nguyên lý khối điều khiển trung tâm (Trang 44)
Sơ đồ nguyên lý khối hiển thị LCD và chuyển đổi mức điện áp - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Sơ đồ nguy ên lý khối hiển thị LCD và chuyển đổi mức điện áp (Trang 45)
Hình 2. 14 Sơ đồ nguyên lý khối giao tiếp eeprom ngoài - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Hình 2. 14 Sơ đồ nguyên lý khối giao tiếp eeprom ngoài (Trang 46)
Sơ đồ nguyên lý khối bàn phím - Nghiên cứu công nghệ phún xạ xung chế tạo màng mỏng quang học chất lượng cao
Sơ đồ nguy ên lý khối bàn phím (Trang 46)

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

TÀI LIỆU LIÊN QUAN