Tạo mầm ZnO trên đế AlN/S

Một phần của tài liệu Nghiên cứu chế tạo zno dạng thanh nano ứng dụng cho cảm biến nhạy khí kiểu sóng âm bề mặt (LV0750) (Trang 47 - 51)

CHƯƠNG 2 THỰC NGHIỆM 2.1 Phương pháp tổng hợp vật liệu thanh nano ZnO

2.1.2. Tạo mầm ZnO trên đế AlN/S

Chuẩn bị dung dịch : Do ta sử dụng phương pháp quay phủ dung dịch lên bề mặt đế AlN/ Si, nên ở đây ta dùng dung dịch n-Butanol có độ nhớt cao, thuận tiện cho việc quay phủ.

Pha 0,0878 g Zn(CH3COO)2.2H2O vào 25 ml dung dịch n-Butanol, dùng máy khuấy từ khuấy đều trong 15 phút để Zn(CH3COO)2 tan hết trong dung môi Butanol, ta được dung dịch có nồng độ 0,016 M Zn(CH3COO)2.

Hình 2.1 quá trình cân và khuấy dung dịch

hình 2.1a thể hiện quá trình cân hóa chất bằng cân điện tử có độ chính xác 10-4 gams. Hình 2.1b khuấy dung dịch trong máy khấy từ có ra nhiệt ở 70

o

C

Làm sạch đế Si/ AlN: Đế Si/ AlN được ngâm trong acetone trong 5 phút, rồi được rung siêu âm trong 10 phút, để rửa sạch những bụi bẩn bám trên bề mặt.( hình 2.3)

Quay phủ: Ta cho đế Si/ AlN đã làm sạch vào quay phủ bằng dung dịch đã pha ở trên. Quay phủ 10 lần với điều kiện quay phủ như sau :

- Thời gian gia tốc : 5 giây.

- Tốc độ quay : 2000 vòng / phút. - Thời gian quay : 30 giây.

Hình 2.3. Quá trình quay phủ

Cứ sau mỗi lần quay phủ, ta lại đặt đế lên hotplate ở nhiệt độ 200 o

C sấy qua cho khô, rồi mới tiếp tục quay phủ lần tiếp theo.

Hình 2.4. Sấy khô đế Si trên hoplate

Ủ nhiệt: Sau khi đã quay phủ xong, sấy đế Silic đã quay phủ này ở các nhiệt độ khác nhau: 350 o

C, 600 oC trong 1h để Butanol bay hơi hết, Zn(CH3COO)2 phân hủy tạo thành ZnO :

Cuối cùng, ta thu được đế AlN/ Si có mầm ZnO trên bề mặt.

Một phần của tài liệu Nghiên cứu chế tạo zno dạng thanh nano ứng dụng cho cảm biến nhạy khí kiểu sóng âm bề mặt (LV0750) (Trang 47 - 51)