Đăng ký
  1. Trang chủ
  2. » Luận Văn - Báo Cáo

Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời

129 8 0

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Ngày đăng: 11/07/2021, 16:41

Xem thêm:

HÌNH ẢNH LIÊN QUAN

- Kích thước và hình dạng hạt. - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
ch thước và hình dạng hạt (Trang 21)
Hình 1-8 Phương pháp top-down chế tạo SiNWs - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 1 8 Phương pháp top-down chế tạo SiNWs (Trang 29)
Hình 1- 10 Quy trình ăn mòn tạo lớp sợi nano silic theo quy trình 2 bước [114] - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 1 10 Quy trình ăn mòn tạo lớp sợi nano silic theo quy trình 2 bước [114] (Trang 30)
Hình 1- 12 Lỗi “cỏ” thường gặp trong quy trình khắc khô vật lý [154-156] Công suất ICP - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 1 12 Lỗi “cỏ” thường gặp trong quy trình khắc khô vật lý [154-156] Công suất ICP (Trang 34)
Hình 1-13 Sự gia tăng mật độ khuyết tật phụ thuộc vào thời gian phơi sáng - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 1 13 Sự gia tăng mật độ khuyết tật phụ thuộc vào thời gian phơi sáng (Trang 38)
Hình 1- 17 Hệ số hấp thụ theo năng lượng photon của c-Si, a-Si:H và µc-Si:H [178] - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 1 17 Hệ số hấp thụ theo năng lượng photon của c-Si, a-Si:H và µc-Si:H [178] (Trang 41)
 Hình thành gốc Silyl bằng cách tách hydro từ silic hydride - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình th ành gốc Silyl bằng cách tách hydro từ silic hydride (Trang 44)
Hình 2 -3 Đế được rửa bằng hóa chất - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 3 Đế được rửa bằng hóa chất (Trang 48)
Hình 2 -8 Thiết bị RTA 2.1.3.3 Kính hiển vi điện tử quét phát xạ trường (FE-SEM) - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 8 Thiết bị RTA 2.1.3.3 Kính hiển vi điện tử quét phát xạ trường (FE-SEM) (Trang 51)
Hình 2-11 Đế silic với mặt nạ vàng 3µm - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 11 Đế silic với mặt nạ vàng 3µm (Trang 53)
Hình 2- 16 Hệ thống PECVD 2.3.3.2 Hoạt động - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 16 Hệ thống PECVD 2.3.3.2 Hoạt động (Trang 57)
Hình 2- 17 Quy trình [B] làm sạch đế silic. - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 17 Quy trình [B] làm sạch đế silic (Trang 58)
Hình 2- 18 Thiết bị phổ kí Raman - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 18 Thiết bị phổ kí Raman (Trang 62)
Hình 2- 24 Mô hình màng mỏng đa lớp với nhiều mặt tiếp xúc giữa đế và vật liệu màng mỏng, giữa các lớp màng mỏng với nhau - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 24 Mô hình màng mỏng đa lớp với nhiều mặt tiếp xúc giữa đế và vật liệu màng mỏng, giữa các lớp màng mỏng với nhau (Trang 67)
Hình 2- 26 Quá trình tính toán của phần mềm Delta Psi2 - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 2 26 Quá trình tính toán của phần mềm Delta Psi2 (Trang 68)
Giao diện của chương trình như Hình 2- 27 - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
iao diện của chương trình như Hình 2- 27 (Trang 69)
Bảng 3-1 Kết quả khảo sát kích thước Au NPs phụ thuộc vào độ dày màng Au - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Bảng 3 1 Kết quả khảo sát kích thước Au NPs phụ thuộc vào độ dày màng Au (Trang 79)
Hình 3- 11 Hạt vàng được tạo thành trong môi trường khí trơ khác nhau - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 11 Hạt vàng được tạo thành trong môi trường khí trơ khác nhau (Trang 81)
Hình 3- 14 Hạt nano vàng hình thành trong môi trường khí nung nitơ - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 14 Hạt nano vàng hình thành trong môi trường khí nung nitơ (Trang 82)
Hình 3- 17 Phổ phản xạ của các mẫu thí nghiệm - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 17 Phổ phản xạ của các mẫu thí nghiệm (Trang 84)
Hình 3- 20 Phổ phản xạ của các mẫu thí nghiệ mở bước sóng từ 500nm đến 1000nm - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 20 Phổ phản xạ của các mẫu thí nghiệ mở bước sóng từ 500nm đến 1000nm (Trang 86)
Hình 3- 22 Bề mặt đế silic sau khi khắc DRIE với mặt nạ vàng 3µm, công suất thay đổi a) 500 W, b) 300 W, c) 100 W - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 22 Bề mặt đế silic sau khi khắc DRIE với mặt nạ vàng 3µm, công suất thay đổi a) 500 W, b) 300 W, c) 100 W (Trang 88)
Hình 3-23 SiNWs tạo thành sau quy trình a) 150 vòng lặ p- SF6 khắc 4 giây, b) 300 vòng lặp - SF 6 khắc 2 giây - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 23 SiNWs tạo thành sau quy trình a) 150 vòng lặ p- SF6 khắc 4 giây, b) 300 vòng lặp - SF 6 khắc 2 giây (Trang 89)
Hình 3- 24 Ảnh FE-SEM và mô phỏng bề mặt 3D của mẫu D1 - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 24 Ảnh FE-SEM và mô phỏng bề mặt 3D của mẫu D1 (Trang 90)
3.2.3.2 Ảnh hưởng của hình dạng hạt nano vàng đến chất lượng sợi silic - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
3.2.3.2 Ảnh hưởng của hình dạng hạt nano vàng đến chất lượng sợi silic (Trang 95)
Bảng 3-7 Điện thế phân cực thay đổi theo áp suất khí - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Bảng 3 7 Điện thế phân cực thay đổi theo áp suất khí (Trang 103)
Hình 3- 45 Phổ Raman của màng silic tinh thể micro - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 45 Phổ Raman của màng silic tinh thể micro (Trang 107)
Hình 3- 49 Vị trí 9 điểm khảo sát trên mẫu bằng phương pháp quang phổ ellipsometry - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 49 Vị trí 9 điểm khảo sát trên mẫu bằng phương pháp quang phổ ellipsometry (Trang 111)
Hình 3- 52 Giản đồ pha của các mẫu với điều kiện lắng đọng khác nhau - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Hình 3 52 Giản đồ pha của các mẫu với điều kiện lắng đọng khác nhau (Trang 113)
Bảng 3- 10 Kích thước hạt tinh thể nano tạo thành theo áp suất khí - Nghiên cứu chế tạo sợi nano silic hướng tới ứng dụng trong pin mặt trời
Bảng 3 10 Kích thước hạt tinh thể nano tạo thành theo áp suất khí (Trang 116)

TỪ KHÓA LIÊN QUAN

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

  • Đang cập nhật ...

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

w