Nghiên cứu thấm nitơ plasma và mạ dlc liên tục trên vật liệu scm415 bằng thiết bị ubms

ĐẠI HỌC QUỐC GIA TP HCM TRƯỜNG ĐẠI HỌC BÁCH KHOA NGUYỄN ĐỨC DUY NGHIÊN CỨU THẤM NITƠ-PLASMA VÀ MẠ DLC LIÊN TỤC TRÊN VẬT LIỆU SCM415 BẰNG THIẾT BỊ UBMS Chuyên ngành :Vật liệu Kim Loại Hợp Kim Mã số: 605291 LUẬN VĂN THẠC SĨ TP HỒ CHÍ MINH, tháng năm 2014 CƠNG TRÌNH ĐƯỢC HỒN THÀNH TẠI TRƯỜNG ĐẠI HỌC BÁCH KHOA –ĐHQG -HCM Cán hướng dẫn khoa học : (Ghi rõ họ, tên, học hàm, học vị chữ ký) Cán chấm nhận xét : (Ghi rõ họ, tên, học hàm, học vị chữ ký) Cán chấm nhận xét : (Ghi rõ họ, tên, học hàm, học vị chữ ký) Luận văn thạc sĩ bảo vệ Trường Đại học Bách Khoa, ĐHQG Tp HCM ngày tháng năm Thành phần Hội đồng đánh giá luận văn thạc sĩ gồm: (Ghi rõ họ, tên, học hàm, học vị Hội đồng chấm bảo vệ luận văn thạc sĩ) Xác nhận Chủ tịch Hội đồng đánh giá LV Trưởng Khoa quản lý chuyên ngành sau luận văn sửa chữa (nếu có) CHỦ TỊCH HỘI ĐỒNG TRƯỞNG KHOA………… ĐẠI HỌC QUỐC GIA TP.HCM TRƯỜNG ĐẠI HỌC BÁCH KHOA CỘNG HÒA XÃ HỘI CHỦ NGHĨA VIỆT NAM Độc lập - Tự - Hạnh phúc NHIỆM VỤ LUẬN VĂN THẠC SĨ Họ tên học viên: NGUYỄN ĐỨC DUY Ngày, tháng, năm sinh: MSHV:12442019 Nơi sinh: Tiền Giang 03/05/1986 Chuyên ngành: Công nghệ Vật Liệu Kim Loại Hợp Kim Mã số : 605291 I TÊN ĐỀ TÀI: Nghiên cứu thấm Nitơ-Plasma mạ DLC liên tục vật liệu SCM415 thiết bị UBMS II NHIỆM VỤ VÀ NỘI DUNG: Đề tài thực nội dung sau : - Nghiên cứu quy trình thấm Nitơ Plasma vật liệu SCM415 thiết bị UBMS Khảo sát ảnh hưởng thông số thời gian đến cấu trúc tính chất lớp Nitride - Nghiên cứu ảnh hưởng thông số thời gian đến cấu trúc tính chất lớp phủ Cr/DLC, DLC - Nghiên cứu thực đồng thời thấm Nitơ Plasma phủ Cr-Cr/DLC-DLC công đoạn, khảo sát cấu trúc, tính chất, khả chống mài mịn lớp phủ III NGÀY GIAO NHIỆM VỤ : 19/8/2013 IV NGÀY HOÀN THÀNH NHIỆM VỤ: V CÁN BỘ HƯỚNG DẪN : 23/5/2014 PGS.TS Nguyễn Văn Dán Tp HCM, ngày tháng năm 20 CÁN BỘ HƯỚNG DẪN (Họ tên chữ ký) CHỦ NHIỆM BỘ MÔN ĐÀO TẠO (Họ tên chữ ký) TRƯỞNG KHOA….……… (Họ tên chữ ký) LỜI CẢM ƠN Trước hết, em xin chân thành cảm ơn Ban Giám Hiệu Trường Đại học Bách Khoa thành phố Hồ Chí Minh, Ban chủ nhiệm môn Công nghệ vật liệu tất quý thầy cô truyền đạt kiến thức cho em suốt trình học tập nghiên cứu trường, tạo điều kiện cho em hoàn thành luận văn Đặc biệt, em xin bày tỏ lòng biết ơn sâu sắc đến thầy PGS TS Nguyễn Văn Dán tận tình hướng dẫn giúp đỡ em hoàn thành luận văn theo cách tốt Cuối cùng, em xin gửi lời cảm ơn đến gia đình, bạn bè chia hết lịng giúp đỡ em thời gian học tập nghiên cứu vừa qua Em xin gửi lời chúc sức khỏe đến tất quý thầy cô, anh chị bạn Tp HCM, Tháng năm 2014 i TÓM TẮT Đề tài nghiên cứu thấm Nitơ phủ Cr-Cr/DLC-DLC liên tục vật liệu SCM415 thiết bị UBMS Kết nghiên cứu đề tài giúp rút ngắn qui trình xử lý thực đồng thời cơng đoạn thiết bị Ngồi ra, kết nghiên cứu cịn sử dụng để thay cho qui trình thấm C-phủ C-Cr/DLC-DLC chi tiết xử lý nhiệt độ cao Trong trình nghiên cứu, đề tài tiến hành khảo sát ảnh hưởng thông số thời gian đến tổ chức, cấu trúc tính chất lớp Nitride, lớp Cr/DLC lớp DLC,từ lựa chọn thơng số thời gian xử lý phù hợp Riêng lớp Cr sử dụng theo thông số mặc định mà hãng sản xuất thiết bị đưa Tóm lại, đề tài xây dựng thành cơng quy trình thấm Nitơ phủ DLC thiết bị UBMS.Thời gian thấm Nitơ 300 phút, phủ Cr 16 phút, phủ Cr/DLC 70 phút, phủ DLC lựa chọn 300 phút Tổng thời gian 686 phút ii ABSTRACT This research is about Nitriding process and Cr-Cr/DL-DLC coating continously on SCM415 material by UBMS equipment Result of this research will help reducing of processing time Moreover, it will be able to make a replacement of Carburizing–Cr-Cr/DLC-DLC coating process to apply for parts which couldn’t be processed with hight temperature This study is focussed on effect of treatment time to microstructure, organization and property of nitriding layer and coating film As of that result, suitable treatment time will be choosen Cr layer coating used manufacture’s treatment time Finally, this study is successed in nitriding and coating DLC film on SCM415 by UBMS continously only in one process Nitriding treatment time is 300 min, Cr coating is 16min, Cr/DLC coating is 70min and DLC coating is also 300min Sumerized 686min iii LỜI CAM ĐOAN Tôi xin cam đoan cơng trình nghiên cứu thân Các số liệu có nguồn gốc rõ ràng tuân thủ nguyên tắc kết trình bày luận văn thu thập trình nghiên cứu trung thực chưa công bố trước Tp Hồ Chí Minh, 20/06/2014 Nguyễn Đức Duy iv MỤC LỤC CHƢƠNG MỞ ĐẦU CHƢƠNG NGHIÊN CỨU LÝ THUYẾT 1.1 Thấm Nitơ-Plasma 1.1.1 Quá trình thấm Nitơ-Plasma 1.1.2 Thép dùng để thấm Nitơ 1.1.3 Sự phân lớp 1.1.4 Đặc điểm thấm Nitơ-Plasma 1.1.5 Các thơng số q trình thấm Nitơ-Plasma 10 1.1.6 Qui trình xử lí thấm Nitơ-plasma 12 1.2 Phƣơng pháp phún xạ (Sputtering) 13 1.2.1 Phún xạ ? 13 1.2.2 Cơ chế phún xạ 13 1.2.3 Các loại phún xạ 15 1.2.4 Ƣu điểm hạn chế phƣơng pháp phún xạ 20 1.2.5 Hiệu suất phún xạ 21 1.2.6 Các yếu tốảnh hƣởng đến trình phún xạ 24 1.2.7 Các loại bia phún xạ 25 1.3 Lớp phủ Cacbon giống kim cƣơng - (DLC) qui trình phủ 27 1.3.1 Tổng quan DLC 27 1.3.2 Phƣơng pháp chế tạo 28 v 1.3.3 Tính chất lớp DLC 28 1.3.4 Qui trình phủ DLC 29 CHƢƠNG THIẾT BỊ PHỦ DLC 2.1 Thiết bị phún xạ từ không cân bằngUnBalanced Magnetron Sputtering (UBMS) 31 2.1.1 Tính thiết bị 32 2.1.2 Cấu tạo thiết bị 33 2.2 Thấm Nitơ thiết bị UBMS 38 CHƢƠNG III PHƢƠNG PHÁP PHÂN TÍCH 3.1 Kính hiển vi điện tử qt (SEM) 42 3.1.1 Nguyên lý hoạt động tạo ảnh SEM 42 3.1.2 Ứng dụng 46 3.2 Phổ Raman 46 3.2.1 Sự tạo thành tín hiệu Raman 46 3.2.2 Ứng dụng phổ Raman nghiên cứu DLC 48 3.3 Nhiễu xạ tia X 50 3.3.1Tổng quan tia X 50 3.3.2 Cách tạo tia X 52 3.3.3 Hiện tƣợng nhiễu xạ tia X 53 3.3.4 Định luật Vulf – Bragg 55 3.3.5 Các phƣơng pháp phân tích tinh thể tia X 57 3.4 Thử nghiệm độ mài mòn Pin on Disk 61 vi 3.5 Thử nghiệm đo độ bám lớp phủ ( Scratch adhensive test) 64 CHƢƠNG IV THỰC NGHIỆM 4.1 Ngun vật liệu, hố chất dùng q trình thực nghiệm 67 4.1.1 Nguyên vật liệu dùng trình tẩy rửa 67 4.1.2 Nguyên vật liệu dùng trình thấm Nitơ phủ DLC 67 4.2 Chế tạo mẫu 68 4.2.1 Sơ đồ chế tạo mẫu 68 4.2.2 Qui trình tẩy rửa trƣớc xử lý 69 4.2.3 Qui trình thấm Nitơ plasma 71 4.2.4 Phủ Cr-Cr/DLC-DLC 74 4.2.5.Tổng quát 76 CHƢƠNG V KẾT QUẢ VÀ BÀN LUẬN 5.1 Nghiên cứu trình thấm Nitơ 80 5.1.1 Ảnh hƣởng thời gian thấm đến tổ chức lớp thấm 80 5.1.2 Ảnh hƣởng thời gian thấm đến độ cứng lớp thấm 84 5.2 Lớp phủ Cr 85 5.3 Nghiên cứu trình phủ Cr/C 86 5.3.1 Ảnh hƣởng thời gian đến tổ chức lớp phủ 87 5.3.2 Ảnh hƣởng thời gian đến độ cứng lớp phủ 89 5.3.3 Ảnh hƣởng thời gian đến độ bám lớp phủ 90 5.4 Nghiên cứu trình phủ DLC 91 vii Độ cứng (Hμ) 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 MAX MIN Trung bình P01 2210 1958 1752 1496 2123 1850 1499 1789 2418 1129 1890 1946 980 1439 1913 1767 1870 1943 1890 2019 2418 980 1794 P02 1999 1869 2022 1979 1125 1765 1748 1895 1648 1658 1857 1746 1842 1345 1754 1198 1801 1790 1710 1878 2022 1125 1731 P03 1773 2022 1948 1765 1989 876 2027 1988 1779 1395 1248 2046 1792 1846 2000 1126 1996 1690 1456 1720 2046 876 1724 P04 1720 1921 1842 1519 1812 1655 1512 1665 1820 2082 1994 1870 1561 1235 998 1556 1757 2045 1979 1780 2082 998 1716 P05 1560 1360 1567 1795 1624 2013 2256 1956 1345 1120 1754 1846 950 1776 1984 1764 2003 1987 1786 1720 2256 950 1708 Biểu diễn đồ thị, ta hình bên dưới: Độ cứng 3000 2500 Hμ 2000 1500 1000 500 P01 P02 P03 P04 P05 Hình 5.9 Kết đo độ cứng lớp phủ DLC 96 Nhận xét: Khi tăng thời gian phủ, độ cứng lớp phủ có giảm đơi chút tỷ lệ pha Sp2 tăng lên Tuy nhiên, theo kết đo độ cứng mẫu thoả yêu cầu độ cứng 5.4.4 Ảnh hƣởng thời gian đến độ bám lớp phủ Độ bám lớp phủ đo thiết bị Scratch, tải trọng đâm - 10N, chiều dài vạch 10 mm Hình ảnh vết cắt tải trọng vị trí bong tróc cho bảng sau: 97 Mẫu Hình ảnh Lực (N) P01 36.63 P02 36.86 P03 34.82 P04 34.66 P05 30.47 Hình 5.10 Kết quảđo độ bám mẫu DLC Nhận xét: Theo kết nghiên cứu Takahiro, lớp phủ DLC phủ thép có khả chịu lực cắt 32.5N [5] Theo đó, mẫu thử P05 khơng đạt u cầu Ngoài ra, ta thấy thời gian xử lý dài độ bám lớp 98 phủ có xu hướng giảm Điều phù hợp với giả thiết rằng, lớp phủ dày độ bám 5.4.5Ảnh hƣởng thời gian đến khả chống mài mòn lớp phủ Khả chống mài mòn lớp phủ đánh giá theo tiêu chuẩn ASTM G99 thí nghiệm Pin-on-Disk , cho đĩa xoay trụ, sau đo chiều sâu vết mòn Kết cho bảng 5.5 Bảng 5.7: kết đo độ mài mòn P01 P02 P03 P04 P05 1.11 0.98 0.76 0.75 0.79 Độ mài mòn (μm) Theo nghiên cứu cơng bố trước đó, áp dụng ASTM G99 cho lớp phủ DLC thép SCM, tốc độ 2000rpm tải trọng 50N sau mài mịn, lớp phủ DLC bị mòn rãnh 0.8μm Như vậy, với kết mẫu mẫu khơng đạt u cầu Ngoài ra, ta quan sát thấy rằng, tăng thời gian phủ, lượng mài mịn có khuynh hướng giảm pha graphite sinh nhiều hơn, làm cho khả tự bôi trơn lớp phủ tốt Tuy nhiên đến mức đó, lượng graphite nhiều làm cho độ cứng lớp phủ mềm xuống, dẫn đến lượng mài mòn lớn Như vậy, mẫu P01 P02 khơng đạt khả chống mài mịn, mẫu P05 không đạt độ bám Đề tài lựa chọn mẫu P03 để tiến hành phủ DLC 5.5 Lớp phủ tổng quát 5.5.1 Chế độ phủ Để đánh giá tính chất, điều kiện làm việc lớp phủ, thí 99 nghiệm sau đánh giá lớp phủ tổng quát, bao gồm lớp thấm Nitơ – lớp phủ Cr – lớp phủ Cr/C – lớp phủ DLC.Tổng kết lại, dựa tất vấn đề nghiêncứu bên trên, đề tài chọn thông số bên để tiến hành thấm Nitơ phủ DLC thép SCM415 sau: Bảng 5.8:thông số phủ tổng quát Thông số o Nhiệt độ C t.gian Ar ml/min N2 ml/min Bias V Cr Sputter Đ.Áp Kw t.gian Ar ml/min CH4 ml/min Bias V Nitride Lớp Cr Cr/C Sputter Đ.ÁpKw Lớp Cr/DLC Lớp DLC t.gian Ar ml/min CH4 ml/min Bias V C target Kw t.gian Ar ml/min CH4 ml/min Bias V 550 300 60 120 500 16 120 100 Cr：3→0 C：0→4 70 120 100 300 120 100 5.5.2Độ dày lớp phủ: Độ dày lớp phủ trình bày bảng bên dưới: Bảng 5.9: kết đo độ dày lớp phủ tổng quát Lớp Nitride Lớp Cr 0.3 Lớp Cr/DLC DLC 1.6 Tổng μm 6.9 100 5.5.3 Cấu trúc lớp phủ Cấu trúc lớp phủ phân tích thiết bịSEM JEOL –JSM5600 Cr N C Fe Hình 5.11: Ảnh SEM lớp phủ tổng quát Qua quan sát ảnh SEM, ta thấy lớp phủ tổng quát có lớp: lớp DLC (nguyên tố C), lớp Cr/C, lớp mỏng Cr lớp Nitride 5.5.4 Độ cứng lớp phủ: Độ cứng lớp phủ tổng quát đo thiết bị đo độ cứng tế vi độ cứng lớp DLC bề mặt Kết đo 1726 Hμ Bảng 5.10:Kết đo độ cứng lớp phủ tổng quát 101 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 MAX MIN Trung bình Độ cứng (Hμ) 1897 1894 2024 1779 1721 1667 1212 1010 1564 1666 1720 1846 1744 1869 1989 2001 1812 1720 1710 1684 2024 1010 1726 5.5.5 Độ bám lớp phủ Độ bám lớp phủ tổng quát đo thiết bị Scratch hãng CSM Instrument.Kết đo 35.2 N Hình ảnh Lực (N) 35.2 5.5.6Lƣợng mài mịn lớp phủ Kết thử nghiệm theo Pin-on-Disk 0.75μm 102 5.6 Thảo luận Về độ cứng lớp phủ, kết đo lớp phủ tổng quát 1726 Hμ Độ - cứng độ cứng lớp DLC bề mặt Trong trường hợp ta đo độ dày lớp bên dưới, theo kết bước nghiên cứu bên trên, ta quan sát thấy phân bố độ cứng từ thép đến lớp phủ DLC sau: Bảng 5.11:Sự phân bố độ cứng Nền thép Hv Lớp Nitride Hv Lớp Cr Hv Lớp Cr/DLC Hμ Lớp DLC Hμ 250 702 900 1153 1726 Độ cứng phân bố tăng dần qua lớp, tránh thay đổi độ cứng lớn lớp phủ liên tiếp, làm giảm độ bám lớp phủ - Tính chống mài mòn lớp phủ phụ thuộc vào khả chống mài mòn lớp bề mặt, lớp DLC Còn độ bám lớp phủ tổ hợp lớp Lớp bên phải chắn lớp phủ tổng qt đạt độ bám tốt - Độ dày lớp Nitride 5μm , lớp Cr-Cr/DLC-DLC 1.9μm ,thoả mãn yêu cầu đặt đề tài Như vậy, với kết độ dày, độ cứng, độ bám, độ chống mài mịn trình bày bên trên, lớp thấm Nitơ lớp phủ Cr-Cr/DLC-DLC thoã mãn yêu cầu đặt ban đầu cho lớp này.Điều cho thấy rằng, thép SCM415, ta dùng quy trình để thay cho quy trình thấm C – phủ Cr-Cr/DLC-DLC thép SCM415 mà không làm giảm khả làm việc chi tiết 103 CHƯƠNG VI KẾT LUẬN VÀ KIẾN NGHỊ 104 Kết luận : Đã nghiên cứu qui trình thấm Nitơ phủ Cr-Cr/DLC-DLC lên thép SCM415 cách liên tục thiết bị UBMS Kết nghiên cứu nhằm thay cho qui trình cũ, bao gồm thấm C lò thấm C điện trở, mang làm sạch, sau phủ Cr-Cr/DLC-DLC thiết bị UBMS Điều mang lại lợi ích sau: - Q trình xử lý khơng bị gián đoạn thực thiết bị nhất, mang chi tiết ngồi, khơng cần làm chi tiết để chuẩn bị cho phủ Cr-Cr/DLC-DLC thiết bị UBMS - Nâng cao suất sản xuất nhà máy rút ngắn thời gian, tiết kiệm nhân cơng, hao mịn thiết bị Cụ thể: Vệ sinh chi tiết, chuẩn bị mẫu thấm C Thấm Vệ sinh mẫu Chuẩn bị mẫu C-Tôi-Ram sau thấm C phủ DLC Phủ DLC Tổng cộng (phút) 60 220 30 45 686 1,041 0 45 686 731 Tiết kiệm: - 310 Qui trình thay qui trình cũ, rút ngắn thời gian, giảm chi phí mà đảm bảo tiêu độ cứng, độ bám, khả chống mài mòn Khả làm việc chi tiết tương đương với thấm C phủ Cr-Cr/DLC-DLC Nghiên cứu thấm Nitơ phủ Cr-Cr/DLC-DLC lên thép SCM415 cách liên tục thiết bị UBMS gồm kết luận sau: Về trình thấm Nitơ Plasma thép SCM 415 thiết bị UBMS, kết nghiên cứu cho thấy, với thời gian phủ dài, lớp Nitride dày, độ cứng bề 105 mặt đạt >600Hv,tổ chức lớp Nitride gồm pha γ’ γ’ + ε Cuối cùng, đề tài lựa chọn thơng số cho q trình thấm: lưu lượng khí Ar 60 ml/phút, khí nitơ 120 ml/phút, nhiệt độ 550 ˚C,điện 500 V thời gian 300 phút Kết cho lớp thấm có độ cứng 702 HV độ dày lớp Nitride là5±2 μm Lớp Cr phủ với thông số điện áp 100V, điện cực Cr 3Kw, khí Ar 120ml/phút, thời gian phủ 16 phút Kết lớp Cr có độ dày vào khoảng 0.3μm, độ cứng theo lý thuyết 900-1000HV 3.Lớp khuếch tán Cr/DLCđược phủ với thông số thời gian tăng dần để khảo sát ảnh hưởng thông số Kết cho thấy, thời gian phủ dài lớp phủ dày Trong lớp phủ xuất pha graphite kim cương, pha kim cương ln chiếm hàm lượng cao Tuy nhiên tăng thời gian phủ, hàm lượng pha graphite có xu hướng tăng lên, làm cho độ cứng lớp phủ có xu hướng giảm xuống Kết q trình nghiên cứu, đề tài lựa chọn thơng số phủ 70 phút, điện áp 100V, khí Ar 120ml/phút, khí CH4 6ml/phút Lớp Cr/C xác định có độ cứng vào khoảng 1153Hμ, độ bám dính đo 49.8N Tỷ lệ Sp2/Sp3 lớp phủ 0.45 Phía ngồi cùnglà lớp phủ DLC với thơng số thời gian lựa chọn 300 phút, điện cực C 3Kw, khí Ar 120ml/phút,điện áp 100V, khí CH4 6ml/phút Lớp DLC xác định có tỷ lệ Sp2/Sp3 0.47, độ cứng 1724 Hμ Khi tăng thời gian phủ lên, giống lớp phủ Cr/DLC, hàm lượng pha graphite lớp phủ có xu hướng tăng dần Sau đó, qua nghiên cứu phủ liên tục thiết bị phủ UBMS lớp phủ với chế độ chọn bên trên, đề tài thu lớp phủ với tính chất sau: - Lớp phủ tổng quát lớp có độ dày 6.9μm 106 - Lớp phủ có độ bám 35.2N theo thử nghiệm Scratch - Lượng mài mòn lớp phủ 0.75 μm thử nghiệm Pin-On-Disk theo tiêu chuẩn ASTM G99 - Độ cứng lớp phủ 1726 Hμ Các kết thoả mãn yêu cầu đặt đề tài phần mở đầu Kiến nghị: Trong phạm vi cho phép, luận văn tập trung nghiên cứu vào thơng số thời gian, ngồi cịn có số thơng số khác thay đổi cũngảnh hưởng nhiều đến chất lượng lớp phủ thành phần hỗn hợp khí, điệnáp q trình phủ việc thay đổi thơng số hình thành lớp phủ có tính tốt xấu so với thơng số Thay đổi đồng thời thông số mở rộng phạm vi đề tài lớn Do đó, đề tài kiến nghị cho nghiên cứu sau thay đổi thông số nhưđã nêu tiến hành đánh giá lớp phủ DLC 107 TÀI LIỆU THAM KHẢO Nguyễn Văn Dán – Cơng nghệ nhiệt luyện xử lí bề mặt, NXB ĐHQG Tp.HCM, 2002 Nguyễn Năng Định – Vật lí kỹ thuật màng mỏng, NXB ĐHQG Hà Nội, 2008 Hiroshi H et.al – Dissolved Nitrogen Concentration in Iron Chromium Alloys by Plasma Nitriding, J Japan Inst Metals 69(8) (2005), pp.775–779 Hiroshi H et.al –Thermodynamic Study on Nitriding of Fe–Cr Alloys by H2–N2 Mixed Gas, J Japan Inst Metals 69(7) (2005)517–522 Takahiro F., Shoichi K., Jun K., Kengo F., Yoshitaka M and Kazuhiro K – Increasing Surface Hardness of S45C Steel by AIH–FPP/Gaseous Nitriding Treatment, J Japan Inst Metals 76(7) (2012)422–428 Satoshi H., Hirokuni A – Things to Know about Material and Heat Treatment “Carburizing and Nitriding”, NACHI–BUSINESS news 9D1 (2005) Hisashi H., Yoshiyuki F – Effect of M n Contents on Fatigue Prooerties of Plasma–Nitrided Fe–C–Mn Steels,Tetsu–to–Hagane, 98(2) (2012)69–70 Fernandes F., Casteletti L., Gallego J – Microstructure of nitrided and nitrocarburized layers produced on a superaustenitic stainless steel, Journal of Materials Research and Technology 30 (2013) Jack H.K -The iron–nitrogen system: the structure of Fe4N and Fe2N, Royal Society of London, Ser.A 195 (1984), pp 34 10 Swanson et al – Standard X-ray Dffraction Powder Patterns, Natl Bur Stand (U.S.), Circ 539(4), 1955, pp 11 Kouya OOHIRA - Characteristics and Applications of DLC films, NTN TECHNICAL REVIEW No.77（2009） 12 K.Takahara, K.Akari, H.Kawaguchi, H.Tamagaki - Current and Future PVD Systems and Coating Technologies,KOBE STEEL ENGINEERING REPORTS,Vol 55 No 2（Sep 2005） 13 K.Akari - Application of Tribological Films Automobile Parts based on the AIP/UBMS Process, KOBE STEEL ENGINEERING REPORTS,Vol 54 No （Sep 2004） 14 Yoshinori Kurokawa, Toshiki Segawa, Takashi Miyamoto - Unbalanced Magnetron Sputtering for Functional Thin Films, KOBE STEEL ENGINEERING REPORTS,Vol 52 No 2（Sep 2002） 15 Koichiro Akari, Eiji Iwamura - DLC Coating Film Properties in Unbalanced Magnetron Sputtering,KOBE STEEL ENGINEERING REPORTS,Vol 50 No 2（Sep 2000） 16 Akio MOTOI, Seiji KATAOKA and Kazuo MORIKAWA - An evaluation method for the adhesion of DLC coated tools intended for plastic forming, Journal of Materials Research and Technology (2003) 17 Takahiro Horiuchi at al - Effect of examination condition on adhesion and wear resistance method ofDLC films, Kanagawa Industrial Center Technical Report No.15 (2009) 18 Andrea Carlo Ferrari and John Robertson - Raman spectroscopy of amorphous, nanostructured, diamond −like carbon, and nanodiamond, Mathematical Physical & Enginerring Sciences, 362(2004), pp2477-2512 19 A Voevodinet al., Thin Solid Films, 298（1997, p.107 LÝ LỊCH TRÍCH NGANG Họ tên: NGUYỄN ĐỨC DUY Sinh ngày: 03/05/1986 Phái: Nam Nơi sinh:Tiền Giang Địa liên lạc: C1/32/1 Chánh Hưng, Bình Hưng, Bình Chánh, Tp HCM Điện thoại: 0984-323-984 QUÁ TRÌNH ĐÀO TẠO  Năm 2004 – 2009: học Đại học Bách Khoa Tp Hồ Chí Minh, ngành Công nghệ Vật liệu  Năm 2012 – 2013: học cao học khóa 2012 – 2014, ngành Cơng Nghệ Vật Liệu, Đại học Bách Khoa TP Hồ Chí Minh Q TRÌNH CƠNG TÁC  Năm 2009 – 2014: làm việc Công Ty TNHH JUKI Việt Nam, Khu Chế Xuất Tân Thuận, Phường Tân Thuận, Quận 7, Tp HCM ... Vật Liệu Kim Loại Hợp Kim Mã số : 605291 I TÊN ĐỀ TÀI: Nghiên cứu thấm Nitơ-Plasma mạ DLC liên tục vật liệu SCM415 thiết bị UBMS II NHIỆM VỤ VÀ NỘI DUNG: Đề tài thực nội dung sau : - Nghiên cứu. .. tập nghiên cứu vừa qua Em xin gửi lời chúc sức khỏe đến tất quý thầy cô, anh chị bạn Tp HCM, Tháng năm 2014 i TÓM TẮT Đề tài nghiên cứu thấm Nitơ phủ Cr-Cr /DLC- DLC liên tục vật liệu SCM415 thiết. .. PHỦ DLC 2.1 Thiết bị phún xạ từ không cân bằngUnBalanced Magnetron Sputtering (UBMS) 31 2.1.1 Tính thiết bị 32 2.1.2 Cấu tạo thiết bị 33 2.2 Thấm Nitơ thiết bị