Các loại IC Các loại IC Bởi: Trương Văn Tám Dựa qui trình sản xuất, chia IC làm loại: IC màng (film IC): Trên đế chất cách điện, dùng lớp màng tạo nên thành phần khác Loại gồm thành phần thụ động điện trở, tụ điện, cuộn cảm mà • Dây nối phận: Dùng màng kim loại có điện trở súât nhỏ Au, Al,Cu • Điện trở: Dùng màng kim loại hợp kim có điện trở suất lớn Ni-Cr; Ni-Cr-Al; Cr-Si; Cr tạo nên điện trở có trị số lớn • Tụ điện: Dùng màng kim loại để đóng vai trò cực dùng màng điện môi SiO; SiO2, Al2O3; Ta2O5 Tuy nhiên khó tạo tụ có điện dung lớn 0,02μF/cm2 • Cuộn cảm: dùng màng kim loại hình xoắn Tuy nhiên khó tạo cuộn cảm lớn 5μH với kích thước hợplý Trong sơ đồ IC, người ta tránh dùng cuộn cảm để không chiếm thể tích • Cách điện phận: Dùng SiO; SiO2; Al2O3 Có thời, Transistor màng mỏng nghiên cứu nhiều để ứng dụng vào IC màng Nhưng tiếc transistor màng chưa đạt đến giai đoạn thực dụng, có triển vọng thực dụng IC đơn tính thể (Monolithic IC): Còn gọi IC bán dẫn (Semiconductor IC) – IC dùng đế (Subtrate) chất bán dẫn (thường Si) Trên (hay trong) đế đó, người ta chế tạo transistor, diode, điện trở, tụ điện Rồi dùng chất cách điện SiO2 để phủ lên che chở cho phận lớp SiO2, dùng màng kim loại để nối phận với • Transistor, diode phận bán dẫn • Điện trở: chế tạo cách lợi dụng điện trở lớp bán dẫn có khuếch tán tạp chất 1/2 Các loại IC • Tụ điện: Được chế tạo cách lợi dụng điện dung vùng nối P-N bị phân cực nghịch Đôi người ta thêm thành phần khác thành phần kể để dùng cho mục đích đặc thù Các thành phần chế tạo thành số nhiều chip Có nhiều mối nối chúng chúng cách ly nhờ nối P-N bị phân cực nghịch (điện trở có hàng trăm M?) IC lai (hibrid IC) Là loại IC lai hai loại Từ vi mạch màng mỏng (chỉ chứa thành phần thụ động), người ta gắn đế thành phần tích cực (transistor, diode) nơi dành sẵn Các transistor diode gắn mạch lai không cần có vỏ hay để riêng, mà cần bảo vệ lớp men tráng Ưu điểm mạch lai là: • Có thể tạo nhiều IC (Digital hay Analog) • Có khả tạo phần tử thụ động có giá trị khác với sai số nhỏ • Có khả đặt đế, phần tử màng mỏng, transistor, diode loại IC bán dẫn Thực chế tạo, người ta dùng qui trình phối hợp Các thành phần tác động chế tạo theo thành phần kỹ thuật planar, thành phần thụ động theo kỹ thuật màng Nhưng trình chế tạo thành phần tác động thụ động thực không đồng thời nên đặc tính thông số thành phần thụ động không phụ thuộc vào đặc tính thông số thành phần tác động mà phụ thuộc vào việc lựa chọn vật liệu, bề dầy hình dáng Ngoài ra, transistor IC loại nằm đế, nên kích thước IC thu nhỏ nhiều so với IC chứa transistor rời IC chế tạo qui trình phối hợp nhiều ưu điểm Với kỹ thuật màng, diện tích nhỏ tạo điện trở có giá trị lớn, hệ số nhiệt nhỏ Điều khiển tốc độ ngưng động màng, tạo màng điện trở với độ xác cao 2/2 ... số nhiều chip Có nhiều mối nối chúng chúng cách ly nhờ nối P-N bị phân cực nghịch (điện trở có hàng trăm M?) IC lai (hibrid IC) Là loại IC lai hai loại Từ vi mạch màng mỏng (chỉ chứa thành phần.. .Các loại IC • Tụ điện: Được chế tạo cách lợi dụng điện dung vùng nối P-N bị phân cực nghịch Đôi người ta thêm thành phần khác thành phần kể để dùng cho mục đích đặc thù Các thành phần... lựa chọn vật liệu, bề dầy hình dáng Ngoài ra, transistor IC loại nằm đế, nên kích thước IC thu nhỏ nhiều so với IC chứa transistor rời IC chế tạo qui trình phối hợp nhiều ưu điểm Với kỹ thuật