1. Trang chủ
  2. » Luận Văn - Báo Cáo

nâng cao chất lượng pin mặt trời

55 502 0
Tài liệu đã được kiểm tra trùng lặp

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Thông tin cơ bản

Định dạng
Số trang 55
Dung lượng 1,14 MB

Nội dung

nâng cao, chất lượng, pin, mặt trời

MỤC LỤC 1 CHƯƠNG 1 KHÁI QUÁT VỀ PMT MÀNG MỎNG THẾ HỆ MỚI DỰA TRÊN LỚP HẤP THỤ CuIn1-xGaxSe2 (CIGS) 5 1.1 Lịch sử phát triển 5 1.2 Những thách thức đặt ra 7 1.3 Cấu trúc cơ bản và các tham số đặc trưng .9 1.3.1 Cấu trúc cơ bản của PMT 9 1.3.2 Các đặc trưng về hiệu năng hoạt động của PMT màng mỏng CIGS 10 1.4 Một số phương pháp chế tạo lớp hấp thụ CIGS .12 1.3.3 Đồng bốc bay từ các nguồn nguyên tố .12 1.3.4 Selen hóa của các lớp bán vật liệu dạng kim loại 13 1.3.5 Lắng đọng hơi hóa học 13 1.3.6 Các phương pháp pha lỏng nhiệt độ thấp 14 2 CHƯƠNG 2 CHƯƠNG TRÌNH MÔ PHỎNG MỘTCHIỀU AMPS – 1D (Analysis of Microelectronic and Photonic Structures) 15 2.1 Phương trình Poisson .15 2.1.1 Nồng độ điện tử tự do và nồng độ lỗ trống tự do 16 2.1.2 Nồng độ trạng thái định xứ (ND+, NA-, pt, nt) 18 2.1.3 Nồng độ các mức sai hỏng (nt và pt) .22 2.2 Phương trình liên tục .22 2.2.1 Mật độ dòng điện tử và mật độ dòng lỗ trống (Jn và Jp) .23 2.2.2 Quá trình tái hợp của hạt dẫn .24 3 CHƯƠNG 3 CÁC THÔNG SỐ ĐẦU VÀO CỦA CHƯƠNG TRÌNH MÔ PHỎNG MỘT CHIỀU AMPS – 1D .26 1 3.1 Các tham số cơ bản 26 3.1.1 Điều kiện môi trường .26 3.1.2 Cấu trúc mô hình .28 3.2 Tính chất chung 29 3.2.1 Điều kiện ban đầu, hệ số phản xạ mặt trước và sau .29 3.2.2 Hệ số phản xạ 30 3.2.3 Sự tái hợp bề mặt .30 3.3 Tính chất của các lớp 31 3.3.1 Tốc độ hạt tải và mối liên hệ với mật độ trạng thái 32 3.3.2 Nồng độ hạt tải 33 3.3.3 Sự dịch chuyển năng lượng giữa các lớp (chuyển tiếp dị chất) 33 3.3.4 Hệ số hấp thụ 34 3.4 Các trạng thái sai hỏng 35 3.4.1 Mật độ trạng thái sai hỏng trung hoà và ion hoá 36 3.4.2 Sự phân bố sai hỏng 37 4 CHƯƠNG 4 KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN 39 4.1 Ảnh hưởng của hệ số phản xạ mặt trước 39 4.2 Ảnh hưởng của độ chênh lệch năng lượng đáy vùng dẫn (∆ EC) tại mặt tiếp xúc giữa các lớp 43 4.3 Ảnh hưởng của độ dầy của lớp hấp thụ CIGS 46 4.4 Ảnh hưởng của độ rộng vùng cấm Eg của lớp hấp thụ CIGS .49 KẾT LUẬN .53 TÀI LIỆU THAM KHẢO .54 2 MỞ ĐẦU Mặc dù hiệu ứng quang điện được phát hiện vào giữa thế kỷ 19 nhưng cho đến 100 năm sau các nhà khoa học vẫn chưa chế tạo được một pin mặt trời (PMT) nào có tính khả thi. Thử nghiệm đầu tiên về PMT dựa trên Silic do Chapin, Fuller và Pearson thực hiện tại phòng thí nghiệm Bell vào năm 1954 với hiệu suất chuyển đổi là 6 %. Cùng với thời gian, các nhà khoa học đã không ngừng sáng tạo và phát triển để nâng cao hiệu suất chuyển đổi của PMT. Tính cho đến nay, PMT dựa trên hiệu ứng quang điện đã trải qua ba thế hệ. Thế hệ đầu tiên là các pin mặt trời dựa trên Si mà sản phẩm của nó đang là loại phổ biến nhất. Thế hệ thứ hai là PMT loại màng mỏng CIGS. Hầu hết, các nghiên cứu của loại pin này đang tiếp cận với sản xuất quy mô lớn và giá thành thấp. Thế hệ thứ ba là một nhóm các công nghệ mới chưa được triển khai trên quy mô lớn nhưng hứa hẹn tiềm năng về hiệu suất chuyển đổi và giá thành. Cho đến nay, các nhà khoa học đã không ngừng nghiên cứu, sáng tạo và phát triển công nghệ tiên tiến nhằm tạo ra các linh kiện đa chức năng với tốc độ xử lí ngày càng cao. Bên cạnh đó, các kỹ thuật tổng hợp vật liệu cũng phát triển nhanh chóng, trong đó công nghệ chế tạo màng mỏng đang ngày càng được quan tâm chú ý bởi các tính chất quý báu và khả năng thu nhỏ kích thước các linh kiện điện tử. Vì vậy, PMT thế hệ mới dựa trên lớp hấp thụ là màng mỏng chất bán dẫn CuIn 1-x Ga x Se 2 (CIGS) đang là một hướng nghiên cứu được các nhà khoa học trên thế giới rất quan tâm. Với đặc tính là màng mỏng, loại pin mặt trời này có rất nhiều ưu điểm nổi bật so với loại cổ điển dựa trên silic như: giá thành thấp, nhẹ, bền vững, có thể làm trên loại đế có thể uốn cong, đặc biệt các lớp có thể được chế tạo liên tục thành một panel hoàn chỉnh với kích thước lớn. Trong phòng thí nghiệm, hiệu suất chuyển đổi năng lượng kỷ lục của một pin mặt trời thế hệ mới loại màng mỏng CIGS là 19,9 % cho một mẫu nhỏ. Ở quy mô sản xuất thử, hiệu suất chuyển đổi năng lượng thu được khoảng 13 - 15% cho một panel kích thước 60 x 90 cm 2 [13]. 3 Ở Việt Nam, hướng nghiên cứu về PMT thế hệ mới loại màng mỏng CIGS đang được một nhóm các nhà khoa học tại Bộ môn Vật lý Nhiệt độ thấp, khoa Vật Lý, trường Đại học Khoa học Tự nhiên – Đại học Quốc Gia Hà Nội tiến hành. Mục tiêu của bài khoá luận này là xác định mối liên hệ tính chất của các lớp và hệ số phản xạ mặt trước lên hiệu năng hoạt động của một pin, nhằm hiểu rõ hơn cơ chế nâng cao phẩm chất của pin. Đây chính là những bước đầu tiên chuẩn bị về kiến thức và phương pháp chế tạo để đưa ra khả năng sản xuất các PMT hoàn chỉnh với quy mô sản xuất thử. Phương pháp nghiên cứu chính của đề tài là các tính toán mô phỏng hoạt động của một cấu trúc pin hoàn chỉnh với các thông số đầu vào được chọn một cách thích hợp, chủ yếu thu được từ các tính toán thực nghiệm. Các kết quả mô phỏng sẽ là cơ sở cho việc thiết kế cấu trúc, định hướng cho quy trình công nghệ chế tạo. 4 1 CHƯƠNG 1 KHÁI QUÁT VỀ PMT MÀNG MỎNG THẾ HỆ MỚI DỰA TRÊN LỚP HẤP THỤ CuIn 1-x Ga x Se 2 (CIGS) 1.1 Lịch sử phát triển Hiện nay, năng lượng đang là vấn đề thời sự của mọi quốc gia. Từ trước tới nay, con người vẫn sử dụng nguồn năng lượng sẵn có nguồn gốc từ các hóa thạch như: than đá, dầu mỏ, khí tự nhiên . Những nguồn năng lượng này đang có nguy cơ cạn kiệt và có khả năng không đủ đáp ứng nhu cầu năng lượng của con người. Bên cạnh đó, ở cuối thế kỉ 21, sự nóng lên toàn cầu làm tăng nhiệt độ trung bình của khí quyển trái đất lên 1,4 o C – 5,8 o C. Việc hướng tới một dạng năng lượng sạch, với một ít hoặc không có sự phát xạ sẽ là một trong những thử thách lớn của thế kỷ XXI. Một sự nỗ lực đầy hứa hẹn là sự ứng dụng hiệu ứng quang điện để tận dụng một lượng lớn năng lượng mà trái đất nhận được mỗi giây từ mặt trời[12]. Hội nghị năng lượng mới toàn cầu tại Born năm 2004 đã khẳng định quyết tâm của thế giới thay thế 20 % năng lượng điện truyền thống bằng nguồn năng lượng mới trong đó có điện mặt trời vào năm 2020. Trong khi một vài công nghệ đã được ứng dụng để thu được hiệu suất cao hơn thì thành công tốt nhất là màng mỏng từ tế bào năng lượng mặt trời. Thiết bị đó được chế tạo bởi công nghệ lắng đọng không tốn kém dựa trên những chất nền không đắt. Vì vậy, chúng có tiềm năng để trở thành nguồn năng lượng có sức cạnh tranh về mặt kinh tế trong thập kỷ sau. PMT thế hệ mới dựa trên lớp hấp thụ CuIn 1- x Ga x Se 2 (CIGS) đã đạt được hiệu quả cao nhất trong tất cả những màng mỏng tế bào năng lượng mặt trời. Hiệu suất chuyển đổi năng lượng pin mặt trời kỷ lục cho đến nay là 19,9 %. Pin mặt trời ngày nay Công nghiệp quang điện đã trở thành một sản phẩm thương mại trị giá hàng tỷ đô la, sản phẩm quang điện đã vượt qua 1GW trong thời gian đầu năm 2004 và người 5 ta hy vọng nó sẽ vượt qua 3GW vào năm 2010. Thị trường đã tăng với tốc độ kép trong vài năm gần đây (20% – 40% mỗi năm). Giá cả được đưa ra trong phạm vi đô la trên một Watt peak ($/Wp) và vẫn tiếp tục giảm, xấp xỉ với đường cong nghiên cứu là 80% [11]. Đường cong nghiên cứu là hình chỉ ra dưới đây. Khi sản lượng tăng lên đến 100 % thì giá thành chỉ tương đương giá nhiên liêu hóa thạch. Chúng ta hi vọng điều này sẽ xảy ra trong khoảng 15 năm nữa. Công nghệ Silicon tinh thể quang điện là cơ sở cho PMT nhưng giá cả nguyên vật liệu đắt hơn rất nhiều. Như vậy, các PMT màng mỏng sẽ trở thành ứng cử viên nhiều hứa hẹn hơn cho nền sản xuất PMT với số lượng lớn. Hình 1: Quá trình phát triển của pin mặt trời Các PMT loại màng mỏng CIGS có lợi thế đáng kể về giá cả bởi vì các đường cong nghiên cứu bắt đầu từ một mức thấp hơn so với công nghệ Silic. Các màng mỏng được chế tạo với chi phí sản phẩm về căn bản là thấp hơn. Sự thành công về thương mại của PMT rất quan trọng bởi vì nó thúc đẩy sự phát triển trong tương lai. Sự thành công đó lại phụ thuộc chủ yếu vào sự khuyến khích của chính phủ như: giảm giá thuế, trợ cấp lắp đặt. Hiện nay, các PMT thế hệ mới loại màng mỏng CIGS chiếm dưới 10 % thị phần hàng hóa của pin quang điện. Toàn bộ sản phẩm điện từ mặt trời vẫn không đáng kể so với lượng năng lượng mà 6 thế giới yêu cầu. Vì vậy, hướng nghiên cứu mới về pin mặt trời thế hệ mới loại màng mỏng là rất cấp thiết và có tính khả thi. PMT đến năm 2050 Đối mặt với tình trạng công nghiệp hóa và sự tăng dân số thế giới liên tục, loài người phải đương đầu với những thách thức về yêu cầu năng lượng. Từ năm 2000 đến năm 2050, yêu cầu năng lượng trung bình sẽ tăng từ 13 TW (2000) đến khoảng 30 TW. Năng lượng của chúng ta tập trung chủ yếu vào năng lượng của nhiên liệu hóa thạch. Nhân tố thúc đẩy các năng lượng tái tạo sẽ làm tăng sự sản xuất khí gây hiệu ứng nhà kính, đặc biệt là khí CO 2 tích tụ trong khí quyển của chúng ta. Từ cuối thế kỉ XIX, nồng độ CO 2 tăng từ khoảng 280 phần triệu (ppm) đến 360 ppm [16]. Nồng độ CO 2 tăng từ 450 đến 550 ppm được dự đoán sẽ gây ra sự thay đổi thời tiết. Với tốc độ tiêu thụ năng lượng hóa thạch hiện nay và nhu cầu sử dụng năng lượng toàn cầu tăng, chúng ta sẽ phải đối mặt với nguồn nhiên liệu hóa thạch cạn kiệt và nồng độ CO 2 tăng đến 750 ppm vào năm 2050, gấp 3 lần nồng độ hiện nay [9]. Trong viễn cảnh này, Trái đất có thể trở thành một nơi ít có cơ hội sống. Vấn đề ở đây là con nguời phải làm gì để tận dụng được các nguồn năng lượng sạch đáp ứng được yêu cầu của xã hội và bảo vệ mội trường sống. Như vậy, năng lượng mặt trời là ứng cử viên tốt nhất có thể ngăn chặn các thảm hoạ khí hậu . 1.2 Những thách thức đặt ra Việc phát triển loại pin mặt trời màng mỏng CIGS đang có những vướng mắc cần các nhà khoa học tiếp tục nghiên cứu tháo gỡ. Vấn đề lớn nhất hiện nay là các đặc trưng về hiệu năng hoạt động (dòng cực đại, thế cực đại, hiệu suất biến đổi năng lượng, hệ số lấp đầy) của loại pin này chưa cao khi sản xuất ở qui mô lớn và còn chưa ổn định, tức là phụ thuộc rất nhiều yếu tố như thành phần, cấu trúc, công nghệ chế tạo. Để giải quyết bài toán này, trước hết các nhà khoa học phải chế tạo được các lớp riêng rẽ của cấu trúc pin với phẩm chất mong muốn, phải hiểu được mối liên quan giữa điều kiện chế tạo với tính chất vật liệu, giữa các tính chất của các lớp riêng rẽ với hiệu năng hoạt động của toàn bộ cấu trúc. Trong lĩnh vực này, ngoài các nghiên 7 cứu thực nghiệm như chế tạo mẫu bằng các phương pháp khác nhau, đo đạc các đặc tính vật liệu, phương pháp mô phỏng cũng là một công cụ hữu hiệu [11-12]. Ở bài toán mô phỏng, các nhà nghiên cứu chú ý khảo sát ảnh hưởng các tham số đặc trưng của vật liệu lên hiệu năng làm việc của pin thông qua các mô hình vi mô về cơ chế hoạt động. Một loạt các hướng nghiên cứu khác cũng được các nhà khoa học tiến hành như giảm chiều dầy các lớp [6-7], tăng cường độ bền cơ học của pin, nâng cao năng suất chế tạo, giảm giá thành và đảm bảo an toàn môi trường trong chế tạo [4-15]. Trên thế giới có một số trung tâm nghiên cứu mạnh về pin mặt trời màng mỏng CIGS, điển hình là NREL (Mỹ), Đại học Tổng hợp Colorado (Mỹ), Đại học Tổng hợp Uppsala (Thụy Điển) với kinh phí rất lớn, khoảng 10 đến 20 triệu đô la cho một dự án. Tại các trung tâm này, các nhà khoa học bắt đầu nghiên cứu xây dựng các dây chuyền sản xuất, bên cạnh đó vẫn đang tiếp tục các nghiên cứu cơ bản theo các hướng đã nêu ở trên. Vấn đề thứ hai đặt ra là độ bền lâu dài của thiết bị. Câu hỏi đặt ra là tại sao một số mô đun giữ được chất lượng bền vững trong khi một số khác thì không? Để trả lời câu hỏi này, chúng ta cần hiểu biết tốt hơn về cơ chế suy giảm ở từng linh kiện, từng bộ phận cũng như trong cả mô đun hoàn chỉnh. Ví dụ, việc thấm hơi nước qua vỏ bọc cũng làm suy giảm chất lượng. Vì vậy, việc cải tiến hàng rào màng mỏng với hơi nước sẽ nâng cao độ bền khi hoạt động. Nhiều nghiên cứu đã được tiến hành để điểu chỉnh và khảo sát chất lượng của các mô đun CIGS ở ngoài môi trường. Cho tới ngày nay, mức độ hiểu biết về các nguyên nhân làm suy giảm chất lượng là không phù hợp và thiếu đồng bộ giữa các nghiên cứu thiết bị và mô đun. Tình hình nghiên cứu và sử dụng PMT tại Viêt Nam đã được thể hiện khá đầy đủ tại Hội thảo quốc tế về “Điện mặt trời công nghiệp từ sản xuất chế tạo đến khai thác hiệu quả” tổ chức tại thành phố Hồ Chí Minh vào tháng 9 năm 2008 [1]. Tại Việt Nam, nghiên cứu PMT đã từng được bắt đầu từ khá sớm trên đối tượng PMT silic. Việc sử dụng PMT còn ở mức độ hạn chế. Thời gian gần đây, qui mô sử dụng PMT 8 đang được phát triển nhanh chóng nhưng vẫn trên cơ sở loại pin silic thường được nhập từ nước ngoài dưới dạng bán thành phẩm hoặc thành phẩm. Trước nhu cầu lớn về PMT, đặc biệt nhu cầu phục vụ các vùng sâu, vùng xa, hải đảo, tầu đánh cá, gần đây nhất, một số nhà máy sản xuất mô đun PMT loại silic đã được khởi công xây dựng tại Việt Nam với dây chuyền công nghệ hoàn toàn được nhập khẩu. Một số công ty trong nước cũng đã cho ra mắt các sản phẩm phục vụ ngành điện mặt trời như các thiết bị lưu điện, thiết bị chuyển đổi điện ăcqui thành điện lưới. Như vậy điện mặt trời có nhu cầu và tiềm năng rất lớn ở nước ta. Các thông tin trên cũng cho thấy PMT thế hệ mới trên cơ sở màng mỏng CIGS là lĩnh vực mới ở Việt Nam. 1.3 Cấu trúc cơ bản và các tham số đặc trưng 1.3.1 Cấu trúc cơ bản của PMT PMT thế hệ mới dựa trên lớp hấp thụ CIGS chế tạo dựa trên thuỷ tinh hoặc chất nền không chỉ sử dụng công nghệ lắng đọng. Cấu trúc của pin được mô tả bằng hình vẽ dưới đây: Hình 2: Cấu trúc cơ bản của pin mặt trời với lớp hấp thụ CIGS Lớp đầu tiên là lớp dẫn điện trong suốt ZnO, lớp này hệ số phản xạ càng thấp thì hiệu năng của pin càng cao. Do vậy, việc tạo lớp chống phản xạ bề mặt là rất cần thiết. Trên thực tế, chúng ta thường sử dụng MgF 2 . 9 Lớp thứ hai là lớp đệm CdS với độ dày khoảng (50 nm). Phần lớn các photon có bước sóng ngắn bị hấp thụ trong lớp này. Lớp thứ ba là lớp hấp thụ CIGS với độ dày khoảng 1000 nm – 3000 nm, hệ số hấp thụ lớn khoảng 10 5 cm -1 . Phần lớn ánh sáng chiếu tới bị hấp thụ trong lớp này. Lớp dẫn điện đế là Al. Cuối cùng, lớp đế là Mo [14]. Trong các lớp tạo nên cấu trúc hoàn chỉnh của PMT, có ba lớp đóng vai trò quan trọng hơn cả đó là lớp hấp thụ CIGS, lớp đệm CdS và lớp dẫn điện truyền qua trong suốt ZnO. Trong đó, lớp hấp thụ CIGS là bán dẫn loại p, còn các lớp CdS và lớp ZnO là các bán dẫn loại n. Cả ba lớp này đều là chất bán dẫn nên các thông số đầu vào là các tham số về các tính chất cơ bản của chất bán dẫn như hằng số điện môi, hệ số hấp thụ, độ rộng vùng cấm, nồng độ hạt tải, độ linh động hạt tải. Ảnh hưởng của sai hỏng cũng được tính đến qua các tham số mật độ, sự phân bố của sai hỏng, tiết diện bắt điện tử và lỗ trống của các trạng thái sai hỏng. Phân bố vùng năng lượng tại các mặt phân cách phụ thuộc vào độ rộng vùng cấm và ái lực hóa học của từng lớp. Ngoài ra, các hiệu ứng bề mặt của lớp ZnO và mặt đáy CIGS cũng được tính đến thông qua các tham số hệ số phản xạ, tốc độ của các điện tử và lỗ trống tái hợp. Ngoại trừ các tham số được chọn để khảo sát, các tham số khác được chọn từ số liệu thực nghiệm hoặc các giả thiết thích hợp. Hoạt động của pin được mô phỏng trong điều kiện chiếu sáng tiêu chuẩn AM-1.5G tại 300 K. 1.3.2 Các đặc trưng về hiệu năng hoạt động của PMT màng mỏng CIGS Luận văn nghiên cứu tập trung bốn thông số đặc trưng đầu ra về hiệu năng hoạt động của một PMT: Thế hở mạch, mật độ dòng đoản mạch, hệ số lấp đầy và hiệu suất chuyển đổi năng lượng. 10 [...]... phổ mặt trời Hầu hết, mặt trời tạo ra năng lượng ở bước sóng từ 2x10-7m tới 4x10-6 m Hầu hết năng lượng này nằm ở khu vực ánh sáng hữu hình Mỗi bước sóng tương ứng với tần suất và năng lương: bước sóng càng ngắn, tần suất càng caonăng lượng càng lớn (thể hiện bằng eV) Ánh sáng đỏ nằm cuối giới hạn nguồn năng lượng thấp của dải quang phổ hữu hình và ánh sáng tím nằm cuối giới hạn nguồn năng lượng cao. .. 0 (mặt trước) Tại RB = RB = hệ số phản xạ ở x = L (mặt sau) 3.2.2 Hệ số phản xạ Đầu tiên, ta xét hệ số phản xạ mặt trước Như chúng ta thấy, cùng với một phổ chiếu sáng nếu năng lượng ánh sáng mà pin mặt trời hấp thụ được nhiều nhất thì mật độ dòng sinh ra sẽ lớn và hiệu năng hoạt động của pin sẽ cao Như vậy, hệ số phản xạ mặt trước trực tiếp quyết định đến mật độ dòng và hiệu năng hoạt động của pin. .. thiết bị Nguồn năng lượng từ mặt trời là nguồn năng lượng thiết yếu cho sự sống trên Trái đất Nó quyết định nhiệt độ bề mặt trái đất và cung cấp nguồn năng lượng thiết yếu điều khiển hệ thống và chu trình sống tự nhiên toàn cầu Một số những hành tinh khác cũng có nguồn năng lượng khổng lồ dưới dạng tia X hoặc sóng radio, tuy nhiên mặt trời có thể tạo ra phần lớn các nguồn năng lượng như là ánh sáng... phổ hồng ngoại Tuy nhiên, năng lượng của phần quang phổ hồng ngoại cũng như phóng xạ bước sóng dài, thấp để có thể tạo ra dòng điện Phóng xạ năng lượng cao mới có thể tạo ra dòng điện, tuy nhiên hầu hết năng lượng này là không thể sử dụng Tóm lại, ánh sáng quá cao hoặc quá thấp PMT đều không thể sử dụng để tạo năng lượng điện được Dải quang phổ ánh sáng tiêu chuẩn tới bề mặt trái đất là AM1.5G ( trong... bề mặt Tái hợp bề mặt là dạng tái hợp xảy ra trên bề mặt, do tính chất quan trọng và tính định xứ của nó nên chúng ta xét riêng Do sự gián đoạn tính tuần hoàn của tinh thể, do các khuyết tật mạng, do các nguyên tử lạ, do sự không bão hoà hoá trị của các nguyên tử, trên bề mặt thường có các tâm định xứ mà năng lượng nằm trên vùng cấm Các tâm định xứ này có nồng độ khá cao trên bề mặt và có khả năng... năng đóng vai trò tâm tái hợp 30 Vì vậy, tái hợp bề mặt thường xảy ra mạnh hơn trong lòng chất bán dẫn và làm cho nồng độ hạt dẫn dư trên bề mặt thường thấp hơn trong lòng chất bán dẫn Những thông số sử dụng để mô tả cho dòng tái hợp mặt này thường là tốc độ tái hợp mặt Trong chương trình mô phỏng một chiều AMPS -1D, chúng ta sử dụng tốc độ tái hợp mặt là 107 cm/s, tương ứng gần bằng chuyển động nhiệt... tiếp dị chất Chuyển tiếp dị chất là chuyển tiếp được cấu tạo từ hai hay nhiều bán dẫn khác nhau[2] Chuyển tiếp dị chất thường chế tạo bằng phương pháp epitaxy Trong mục này, chúng ta chỉ khảo sát những nét cơ bản nhất của chuyển tiếp dị chất Trên hình (7) và hình (8) là sơ đồ năng lượng của các mẫu bán dẫn cấu tạo nên PMT trước khi tiếp xúc và sau khi tiếp xúc: Hình 7: Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất. .. giá thành thấp vì nhiệt độ chế tạo nói chung là thấp và các thiết bị đơn giản Các chất hấp thụ được chế tạo bằng các phương pháp này thường cần xử lý trước khi chế tạo tại các nhiệt độ cao trong các môi trường chứa Se để thu được các thiết bị có hiệu suất cao Nhóm Bhattacharya đã tập trung nghiên cứu việc chế tạo pin mặt trời CIGS từ các tiền hạt được làm bằng điện hóa, mạ không điện cực và lắng đọng... hơn 1.5 lần chiều dài ánh sáng khi mặt trời trên đỉnh đầu Bước sóng tiêu chuẩn ngoài khí quyển trái đất được gọi là AMO, mà ánh sáng không truyền qua khí quyển AMO đặc biệt được sử dụng để dự đoán hoạt động của pin mặt trời trong khí quyển Cường độ phóng xạ 1.5D tương đương với việc giảm 28% dải quang phổ, ở đó 18% được hấp thụ và 10% được tán xạ Dải quang phổ toàn câu cao hơn 10% dải quang phổ trực tiếp... với các trường hợp đặc biệt: a SNO= SND = các điện tử ở bề mặt x = 0 (cm/s) b SPO = SPD = các lỗ trống ở bề mặt x = 0 (cm/s) c SPL = SNL= các điện tử ở bề mặt x = L (cm/s) d SPL = SPL = các lỗ trống bề mặt x =L (cm/s) 3.3 Tính chất của các lớp Độ dày của các lớp tương ứng được lấy từ các thiết bị thực nghiệm Hệ số không điện và độ rộng của năng lượng cấm được lấy từ các tài liệu dựa trên cơ sở của các . quả cao nhất trong tất cả những màng mỏng tế bào năng lượng mặt trời. Hiệu suất chuyển đổi năng lượng pin mặt trời kỷ lục cho đến nay là 19,9 %. Pin mặt. liên hệ tính chất của các lớp và hệ số phản xạ mặt trước lên hiệu năng hoạt động của một pin, nhằm hiểu rõ hơn cơ chế nâng cao phẩm chất của pin. Đây chính

Ngày đăng: 18/03/2013, 11:49

Nguồn tham khảo

Tài liệu tham khảo Loại Chi tiết
1. Trịnh Quang Dũng, (9/2008), Tổng quan tình hình phát triển điện mặt trời ở Việt Nam, Báo cáo tại Hội thảo quốc tế về: “Điện mặt trời công nghiệp từsản xuất chế tạo đến khai thác hiệu quả”, thành phố Hồ Chí Minh Sách, tạp chí
Tiêu đề: Tổng quan tình hình phát triển điện mặt trời ở Việt Nam", Báo cáo tại Hội thảo quốc tế về: “Điện mặt trời công nghiệp từ sản xuất chế tạo đến khai thác hiệu quả
2. Phùng Hồ, Phan Quốc Phô, (2008) Giáo trình Vật liệu bán dẫn, Nhà Xuất Bản Khoa Học Kỹ Thuật Sách, tạp chí
Tiêu đề: ) Giáo trình Vật liệu bán dẫn
Nhà XB: Nhà Xuất Bản Khoa Học Kỹ Thuật
4. C. Eberspacher, K. Pauls, and J. Serra, (05/2002), “Non-Vacuum Processing of CIGS Solar Cells,” Proc. 29thIEEE PV Spec, New Orleans, Conf . 684 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Non-Vacuum Processing of CIGS Solar Cells
5. D. S. Albin, J. Carapella, J. R. Tuttle, and R. Noufi, (1992). Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol. 228, 267 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Symp. Proc
Tác giả: D. S. Albin, J. Carapella, J. R. Tuttle, and R. Noufi
Năm: 1992
6. Gupta and A.D. Compaan, (2005), 31 st IEEE PV Specialists Conference, IEEE, Piscataway, NY, p. 235 Sách, tạp chí
Tiêu đề: 31"st" IEEE PV Specialists Conference
Tác giả: Gupta and A.D. Compaan
Năm: 2005
7. K. Ramanathan, R. Noufi, B. To, D. L. Young, R. J. Dhere, R. Bhattacharya, In these Proceedings M.A. Contreras, and G. Teeter Sách, tạp chí
Tiêu đề: In these Proceedings
8. K. Zweibel, (2004), H. Ullal, and B. von Roedern, Finally: Thin ungpp.48-54 . 9. N. S. Lewis, Global Energy Perspective Sách, tạp chí
Tiêu đề: Finally: Thin ungpp".48-54 .9. N. S. Lewis
Tác giả: K. Zweibel
Năm: 2004
11. M. A. Green, (2003), in Proc. 3rd World Conf. Photovoltaic Energy Conversion p.OPL–02 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Photovoltaic Energy Conversion
Tác giả: M. A. Green
Năm: 2003
12. M. Gloeckler and J. R. Sites, , (2005), Appl Phys. 98, 103703 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Appl Phys. 98
Tác giả: M. Gloeckler and J. R. Sites
Năm: 2005
13. M. Gloeckler and J.R. Sites, (6- 2006), Private Communications, CIGS National Team Meeting Sách, tạp chí
Tiêu đề: Private Communications
14. Markus Gloeckler, (2003), Numerical Modeling of CIGS Solar Cells, Department of Physics of Master of Science Colorado State University Fort Collins, Colorado Spring Sách, tạp chí
Tiêu đề: Numerical Modeling of CIGS Solar Cells
Tác giả: Markus Gloeckler
Năm: 2003
15. V.K. Kapur, A. Bansal, P. Le, and O.I. Asensio, ( 05/2002), Non-Vacuum Processing for CIGS Solar Cells on Rigid and Flexible Substrates, Proc.29th IEEE PV Spec, New Orleans, Conf. 688 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Non-Vacuum Processing for CIGS Solar Cells on Rigid and Flexible Substrates
16. United Nations Development Programme, United Nations Department of Economic and Social Affairs and World Energy Council, Tech. Rep. URL 17. The center for Nanotechnology and Utilization, A Manual for AMPS – 1D,The Pennsylvania State University Park, PA 16802 Sách, tạp chí
Tiêu đề: United Nations Department of Economic and Social Affairs and World Energy Council", Tech. Rep. URL 17. The center for Nanotechnology and Utilization, "A Manual for AMPS – 1D
18. W. N. Shafamann and L. Stolt, (2003), Hanbook of Photovoltalic Science and Engineering, pp. 564-616 Sách, tạp chí
Tiêu đề: Hanbook of Photovoltalic Science and Engineering
Tác giả: W. N. Shafamann and L. Stolt
Năm: 2003
10. M. A. Contreras, W. N. Shafamann, J. Abushama, F. Hasoon, D. L. Young, B. Egaas and R. Noufi,( 2005) Prog. Photovoltaics Khác

HÌNH ẢNH LIÊN QUAN

Hình 1: Quá trình phát triển của pin mặt trời - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 1 Quá trình phát triển của pin mặt trời (Trang 6)
Hình 1: Quá trình phát triển của pin mặt trời - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 1 Quá trình phát triển của pin mặt trời (Trang 6)
Bảng 1: Các thông số đặc trưng đầu ra của chương trình mô phỏng một chiều AMPS – 1D - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 1 Các thông số đặc trưng đầu ra của chương trình mô phỏng một chiều AMPS – 1D (Trang 11)
Hình 3: Đường đặc trưng I - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 3 Đường đặc trưng I (Trang 11)
Hình 3: Đường đặc trưng V – I - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 3 Đường đặc trưng V – I (Trang 11)
Bảng 1: Các thông số đặc trưng đầu ra của chương trình mô phỏng một - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 1 Các thông số đặc trưng đầu ra của chương trình mô phỏng một (Trang 11)
Hình 4: Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng  pha tạp rời rạc vào mật độ trạng thái - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 4 Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng pha tạp rời rạc vào mật độ trạng thái (Trang 19)
Hình 4: Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 4 Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng (Trang 19)
Hình 5: Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng donor và acceptor liên tục vào mật độ trạng thái - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 5 Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng donor và acceptor liên tục vào mật độ trạng thái (Trang 20)
Hình 5: Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng donor - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 5 Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của các mức năng lượng donor (Trang 20)
Hình 6: Phổ chiếu sáng chuẩn AM1.5G - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 6 Phổ chiếu sáng chuẩn AM1.5G (Trang 28)
Hình 6: Phổ chiếu sáng chuẩn AM 1.5G - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 6 Phổ chiếu sáng chuẩn AM 1.5G (Trang 28)
Bảng 2: Tính chất của các lớp trong pin mặt trời với lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 2 Tính chất của các lớp trong pin mặt trời với lớp hấp thụ CIGS (Trang 31)
Bảng 2:  Tính chất của các lớp trong pin mặt trời với lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 2 Tính chất của các lớp trong pin mặt trời với lớp hấp thụ CIGS (Trang 31)
Hình 7: Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất trước khi chúng tiếp xúc với nhau - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 7 Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất trước khi chúng tiếp xúc với nhau (Trang 33)
Hình 7: Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất trước khi chúng tiếp xúc với nhau - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 7 Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất trước khi chúng tiếp xúc với nhau (Trang 33)
Hình 8: Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất sau khi chúng tiếp xúc với nhau - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 8 Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất sau khi chúng tiếp xúc với nhau (Trang 34)
Hình 8: Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất sau khi chúng tiếp xúc với nhau - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 8 Sơ đồ phân bố năng lượng dị chất sau khi chúng tiếp xúc với nhau (Trang 34)
Hình 9: Phổ hấp thụ đối với các lớp trong pin mặt trời thế hệ mới - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 9 Phổ hấp thụ đối với các lớp trong pin mặt trời thế hệ mới (Trang 35)
Hình 9: Phổ hấp thụ đối với các lớp trong pin mặt trời thế hệ mới 3.4 Các trạng thái sai hỏng - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 9 Phổ hấp thụ đối với các lớp trong pin mặt trời thế hệ mới 3.4 Các trạng thái sai hỏng (Trang 35)
Hình 10: Các trạng thái chuyển tiếp của cặp điện tử và lỗ trống - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 10 Các trạng thái chuyển tiếp của cặp điện tử và lỗ trống (Trang 35)
Bảng 3: Nồng độ trạng thái sai hỏng trong các lớp. - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 3 Nồng độ trạng thái sai hỏng trong các lớp (Trang 37)
Bảng 3: Nồng độ trạng thái sai hỏng trong các lớp. - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 3 Nồng độ trạng thái sai hỏng trong các lớp (Trang 37)
Hình 11: Phân bố các mức Gauss - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 11 Phân bố các mức Gauss (Trang 38)
Hình 11: Phân bố các mức Gauss - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 11 Phân bố các mức Gauss (Trang 38)
Bảng 4. Bảng các giá trị đặc trưng đầu ra về hiệu năng hoạt động của pin mặt trời thế hệ mới khi thay đổi hệ số phản xạ mặt trước. - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 4. Bảng các giá trị đặc trưng đầu ra về hiệu năng hoạt động của pin mặt trời thế hệ mới khi thay đổi hệ số phản xạ mặt trước (Trang 40)
Bảng 4. Bảng các giá trị đặc trưng đầu ra về hiệu năng hoạt động của pin mặt trời - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 4. Bảng các giá trị đặc trưng đầu ra về hiệu năng hoạt động của pin mặt trời (Trang 40)
Hình 13: Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào hệ số phản xạ mặt trước. - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 13 Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào hệ số phản xạ mặt trước (Trang 41)
Hình 12: Sự phụ thuộc của hiệu suất vào hệ số phản xạ mặt trước - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 12 Sự phụ thuộc của hiệu suất vào hệ số phản xạ mặt trước (Trang 41)
Hình 13: Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào hệ số phản xạ mặt trước. - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 13 Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào hệ số phản xạ mặt trước (Trang 41)
Hình 12: Sự phụ thuộc của hiệu suất vào hệ số phản xạ mặt trước - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 12 Sự phụ thuộc của hiệu suất vào hệ số phản xạ mặt trước (Trang 41)
Hình 15: Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầy vào hệ số phản xạ mặt trước - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 15 Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầy vào hệ số phản xạ mặt trước (Trang 42)
Hình 14: Sự phụ thuộc của thế hở mạch vào hệ số phản xạ mặt trước - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 14 Sự phụ thuộc của thế hở mạch vào hệ số phản xạ mặt trước (Trang 42)
Hình 15: Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầy vào hệ số phản xạ mặt trước - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 15 Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầy vào hệ số phản xạ mặt trước (Trang 42)
Sự phụ thuộc của các đặc trưng đầu ra vào sự thay đổi ∆EC thể hiện qua bảng giá trị và các hình biểu diễn dưới đây. - nâng cao chất lượng pin mặt trời
ph ụ thuộc của các đặc trưng đầu ra vào sự thay đổi ∆EC thể hiện qua bảng giá trị và các hình biểu diễn dưới đây (Trang 43)
Hình 16: Sự phụ thuộc của hiệu suất vào ∆ΕC - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 16 Sự phụ thuộc của hiệu suất vào ∆ΕC (Trang 44)
Hình 16: Sự phụ thuộc của hiệu suất vào ∆Ε C - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 16 Sự phụ thuộc của hiệu suất vào ∆Ε C (Trang 44)
Hình 18: Sự phụ thuôc của hệ số lấp đầy ff vào ∆ΕC - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 18 Sự phụ thuôc của hệ số lấp đầy ff vào ∆ΕC (Trang 45)
Hình 17: Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch JSC vào ∆ΕC - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 17 Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch JSC vào ∆ΕC (Trang 45)
Hình 19: Sự phụ thuộc của thế hở mạch V OC  vào ∆Ε C - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 19 Sự phụ thuộc của thế hở mạch V OC vào ∆Ε C (Trang 45)
Hình 18: Sự phụ thuôc của hệ số lấp đầy ff vào ∆Ε C - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 18 Sự phụ thuôc của hệ số lấp đầy ff vào ∆Ε C (Trang 45)
Bảng 6: Kết quả mô phỏng các đặc trưng về hiệu năng hoạt động của pin theo độ dầy lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Bảng 6 Kết quả mô phỏng các đặc trưng về hiệu năng hoạt động của pin theo độ dầy lớp hấp thụ CIGS (Trang 46)
Hình 20: Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 20 Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ CIGS (Trang 47)
Hình 20: Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 20 Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ (Trang 47)
Hình 22: Sự phụ thuộc của hiệu suất chuyển đổi năng lượng với độ dầy của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 22 Sự phụ thuộc của hiệu suất chuyển đổi năng lượng với độ dầy của lớp hấp thụ CIGS (Trang 48)
Hình 21: Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 21 Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ CIGS (Trang 48)
Hình 21: Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 21 Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ dầy của lớp hấp thụ CIGS (Trang 48)
Hình 22: Sự phụ thuộc của hiệu suất chuyển đổi năng lượng với độ dầy của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 22 Sự phụ thuộc của hiệu suất chuyển đổi năng lượng với độ dầy của lớp hấp thụ CIGS (Trang 48)
Hình 23: Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầyvới độ dầy của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 23 Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầyvới độ dầy của lớp hấp thụ CIGS (Trang 49)
Hình 23: Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầyvới độ dầy của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 23 Sự phụ thuộc của hệ số lấp đầyvới độ dầy của lớp hấp thụ CIGS (Trang 49)
Hình 25: Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ rộng vùng cấm của lớp hấp thụ CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 25 Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ rộng vùng cấm của lớp hấp thụ CIGS (Trang 51)
Hình 24: Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào độ rộng vùng cấm - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 24 Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào độ rộng vùng cấm (Trang 51)
Hình 24: Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào độ rộng vùng cấm - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 24 Sự phụ thuộc của mật độ dòng đoản mạch vào độ rộng vùng cấm (Trang 51)
Hình 25:  Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ rộng vùng cấm của lớp hấp thụ   CIGS - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 25 Sự phụ thuộc của thế hở mạch theo độ rộng vùng cấm của lớp hấp thụ CIGS (Trang 51)
Hình 26: Sự phụ thuộc của hiệu suất vào độ rộng vùng cấm - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 26 Sự phụ thuộc của hiệu suất vào độ rộng vùng cấm (Trang 52)
Hình 26 thấy rằng: khi thay đổi độ rộng vùng cấm từ 1,0 eV đến 1,35 eV thì hiệu suất tăng dần và đạt cực đại về hiệu suất chuyển đổi năng lượng khi độ rộng  vùng cấm là 1,35 eV - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 26 thấy rằng: khi thay đổi độ rộng vùng cấm từ 1,0 eV đến 1,35 eV thì hiệu suất tăng dần và đạt cực đại về hiệu suất chuyển đổi năng lượng khi độ rộng vùng cấm là 1,35 eV (Trang 52)
Hình 26: Sự phụ thuộc của hiệu suất vào độ rộng vùng cấm - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 26 Sự phụ thuộc của hiệu suất vào độ rộng vùng cấm (Trang 52)
Hình 26 thấy rằng: khi thay đổi độ rộng vùng cấm từ 1,0 eV đến 1,35 eV thì  hiệu suất tăng dần và đạt cực đại về hiệu suất chuyển đổi năng lượng khi độ rộng  vùng cấm là 1,35 eV - nâng cao chất lượng pin mặt trời
Hình 26 thấy rằng: khi thay đổi độ rộng vùng cấm từ 1,0 eV đến 1,35 eV thì hiệu suất tăng dần và đạt cực đại về hiệu suất chuyển đổi năng lượng khi độ rộng vùng cấm là 1,35 eV (Trang 52)

TRÍCH ĐOẠN

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

w