- Glycerin (C3H5(OH)3, 99,0%) làm dung môi cho quá trình phân hủy nhiệt tạo nano đồng.
2.3.3 Nhiễu xạ ti aX (XRD)
- Phương pháp nhiễu xạ tia X dùng để nghiên cứu tính chất cấu trúc, xác định pha và kích thước hạt của vật liệu. Trong chất rắn khoảng cách giữa các phân tử, nguyên tử vào cở Ăngtrom (Å) nê khi phân tích cấu trúc cần phải dùng sóng điện từ có năng lượng cỡ 12,3.103
eV, năng lượng này ứng với năng lượng của tia X đặc trưng. Tia x là một dạng của sóng điện từ có bước sóng trải dài trong khoảng rộng từ 0,1 Å ÷ 100 Å. Đặc điểm của tia X là truyền thẳng, mắt thường không nhìn thấy được và không thể làm lệch tia X bằng thấu kính hoặc lăng kính như đối với ánh sáng.
- Đối với kim loại, phương pháp XRD cho phép xác định chính xác sự tồn tại của kim loại trong mẫu dựa trên các đỉnh thu được so sánh với các đỉnh chuẩn của nguyên tố đó.
Hình 2.5: Nguyên lý của phƣơng pháp nhiễu xạ tia X
- Chùm tia X có bước sóng chiếu vào hai bề mặt cách nhau một khoảng cách d với góc tới . Khi đến chạm vào hai bề mặt trên, chùm tia tới sẽ bị chặn lại và sẽ xuất hiện chùm tia nhiễu xạ. Đây chính là hiện tượng nhiễu xạ. Góc giữa chùm tia tới & chùm tia nhiễu xạ là 2. Khi xảy ra cộng hưởng thì khoảng cách (A+B) phải bằng một số nguyên lần bước sóng nλ.
- Mặt khác, xét khoảng cách (A+B), với hai pháp tuyến vuông góc với chùm tia tới và chùm nhiễu xạ, ta có:
- Từ đó ta có phương trình:
- Nguyên tắc hoạt động của máy chụp nhiễu xạ tia X.
Hình 2.6: Nguyên tắc hoạt động của máy chụp nhiễu xạ tia X
Tia X được phát ra từ nguồn (1) ( thường là đồng với bước sóng 1.541Å) đi qua liên tiếp những ống chuẩn trực ssong song còn được gọi là Sollers slit (2) để giảm sự phân kỳ quanh trục chùm tia và đi qua khe phân kỳ (3) để giảm sự phân kỳ biên của chùm tia.
2 sinsin A B A B d