.4 Sơ đồ của quá trình CVD

Một phần của tài liệu (LUẬN văn THẠC sĩ) nghiên cứu chế tạo màng mỏng ZnSMn bọc phủ PVP và khảo sát phổ phát quang của chúng (Trang 38 - 39)

Phương pháp CVD có thể được xem là một trong những phương pháp tạo màng có độ tinh khiết cao. Bên cạnh đó, phương pháp này cịn có một số ưu điểm như: tốc độ lắng dọng nhanh, có thể lắng đọng màng trên những cấu trúc hình dạng phức tạp, cho phép thay đổi hợp chất phản ứng ngay cả trong quá trình lắng đọng…Tuy nhiên ta vẫn phải kể đến những hạn chế khi lắng đọng màng bằng phương pháp CVD. Hạn chế đầu tiên là phương pháp này khó thực hiện với một số

tiếp theo cũng là vấn đề cần quan tâm khi thực hiện phương pháp này, đó là các sản phẩm phụ sau phản ứng có thể độc hại. Vì vậy, hệ thống xử lý chất thải của hệ CVD cần được thiết kế an tồn để bảo vệ cho mơi trường.

2.1.5 Phương pháp Spin-coating

Cơ sở của phương pháp là dựa vào hiện tượng dính ướt giữa dung dịch vật liệu với đế và lắng đọng tạo thành màng mỏng

Quy trình chế tạo:

+ Pha hỗn hợp dung dịch chứa hai muối của chất nền và chất kích hoạt sao cho sản phẩm kết tủa thu được, ứng với tỉ lệ chất nền chất kích hoạt như trong sản phẩm mong muốn.

+ Tạo kết tủa

+ Lọc và rửa kết tủa

+Vật liệu được hòa tan vào nước, khuấy từ để đảm bảo đồng đều, dung pipet nhỏ

từng giọt dung dịch theo phương thẳng đứng xuống đế đang quay tròn trong mặt

phẳng ngang, lực li tâm sẽ làm dung dịch lan trên mặt đế tạo thành màng.

Một phần của tài liệu (LUẬN văn THẠC sĩ) nghiên cứu chế tạo màng mỏng ZnSMn bọc phủ PVP và khảo sát phổ phát quang của chúng (Trang 38 - 39)