Kết quả và thảo luận
3.1. Anốt trong suốt chất l−ợng cao ITO 1 Quá trình hình thành cấu trúc
3.1.1. Quá trình hình thành cấu trúc
Trạng thái bề mặt của các mẫu đ−ợc quan sát trên kính hiển vi điện tử quét (SEM) cho thấy kích th−ớc của hạt đã thay đổi trong quá trình ủ nhiệt. Trên hình 3.1 là ảnh SEM của các mẫu
ngay sau khi bốc bay hơi nh−ng ch−a ủ nhiệt (M0), đ−ợc ủ nhiệt tại 200 0C (M1) và tại 450 0C (M3) trong không khí với cùng thời gian ủ là 1 giờ.
ở mẫu ch−a ủ nhiệt M0, bề mặt của mẫu mịn, kích th−ớc của các hạt nhỏ. ảnh SEM của mẫu này không có các điểm sáng, tối rõ ràng. Đó là điểm đặc tr−ng
cho bề mặt của màng giàu kim loại. Quá trình ủ nhiệt đã làm cấu trúc bề mặt của màng thay đổi một cách rõ rệt. Quan sát ảnh SEM của mẫu M1, ta nhận
thấy có những vùng sáng với kích th−ớc khá đồng đều trên một nền tối. ảnh SEM của mẫu M2 và mẫu M3 có cùng đặc điểm nh− mẫu M1, tuy nhiên kích th−ớc các vùng sáng đã lớn dần, kích th−ớc trung bình của các hạt có giá trị lớn nhất là của mẫu M3 và vào khoảng 3àm. Việc nghiên cứu ảnh SEM theo nhiệt độ ủ cho phép chúng ta đoán nhận màng kim loại khi đ−ợc ôxi hoá tạo thành màng ôxit và các hạt ôxit liên kết với nhau tạo thành từng cụm. Khối l−ợng riêng của ôxit nói chung nhỏ hơn khối l−ợng riêng của kim loại nên bề mặt màng ôxit xốp hơn so với màng kim loại.
Màng ITO chế tạo đ−ợc tr−ớc khi sử dụng làm anode cho OLED th−ờng đ−ợc xử lý plasma trong oxy hoặc dung dịch axít H PO để nâng cao công
Hình 3.1: ảnh SEM của màng ITO sau khi bốc bay ch−a đ−ợc ủ nhiệt
thoát của ITO. Hình 3.5 là kết quả hình thái học bề mặt màng ITO đ−ợc xử lý trong dung dịch H3PO4 với thời gian là 10 phút. Kết quả cho thấy, độ mịn bề mặt của màng đ−ợc tăng lên rõ rệt so với tr−ớc khi không đ−ợc xử lý.
Hình 3.2: ảnh SEM của màng ITO ủ nhiệt trong môi tr−ờng oxy
Hình 3.3: ảnh SEM của màng
ITO ủ nhiệt trong chân không
Hình 3.4 : ảnh SEM mặt cắt màng ITO
Hình 3.5: ảnh SEM của màng ITO đ−ợc xử lý trong dung dịch H3PO4