, mm Chi tiết
Fphèn kim loại nờng chảy
Fnc c
• Các phơng pháp nêu trên thớng dùng cho các chi tiết lớn; đỉi với các chi tiết nhõ ngới ta sử dụng phơng pháp hàn rung : + Tèn sỉ 20 - 60 Hz, + Biên đĩ 0,5 - 3 mm + Đớng kính dây hàn khoảng 0,8 - 1,2 mm, + Dòng điện I = 50 - 100 A + Đớng kính vỊt hàn D = 20 - 80 mm
Hình 5-36 Chế đĩ hàn đắp dới lớp thuỉc mĩt sỉ chi tiết (D - đớng kính chi tiết, mm)
Hình 5-37 Điện áp khi hàn đắp dới lớp thuỉc mĩt sỉ chi tiết
Hàn trong môi trớng khí bảo vệ CO2: ứng dụng để hàn các chi tiết phức tạp, khi cèn tạo mĩt lớp võ trên bề mƯt lớp đắp,... Dây hàn cèn cho thêm các chÍt khử ôxy nh Si, Ti, ... vì CO2 là khí hoạt tính. Nhợc điểm của phơng pháp này là sự bắn toé lớn. Để giảm sự bắn toé cèn hàn với chiều dài hơ quang nhõ, kim loại dịch chuyển theo dòng tạo nên sự ngắn mạch .
5.8. HÀN Đ Ă ế P BẰNG HỒ QUANG PLASMA
5.8.1. Hồ quang plasma và ư ù n g du ỷ n g của nú
Plasma la ch t đ ỹc nung núng t ùi m ùc h i cu a nú ỡ ấ ươ ơ ư ơ ớ ở
trạng thỏi ion húa mạnh. Ch t đú bao g m cỏc ph n t ,ấ ồ õ ử
200 400 600 800 D, (mm) 200 400 600 800 D, (mm) U, (V) 40 30 20 0 200 400 600 800 I, A I, (A) 600 400 200 V, (m/h) 60 40 20 10
nguy n t , ion, đi ỷn t va f ton phỏt sỏng. M ựi cmờ ử ờ ử ỡ ụ ụ 3 plasma ch ùa 10ư 9 - 1010 ph n t mang đi ỷn. Núi cỏch khỏc plasma laầ ử ờ ỡ
m ỹt ch t khớ ion húa mạnh ụ ấ ở nhi ỷt đ ỹ cao. Trạng thỏi v ỷtờ ụ õ
ch t dạng plasma thấ ở ường gọi la trạng thỏi “th ù t ”.ỡ ư ư
S ỷ ion húa g y ra b i tỏc dụng cu a nhi ỷt đ ỹ cao hoặcư õ ở ớ ờ ụ
đi ỷn trờ ường t n s cao. Tu y thu ỹc va o hỡnh th ùc kớch th ùcầ ố ỡ ụ ỡ ư ươ
người ta ph n bi ỷt plasma h quang hoặc plasma t n s cao.õ ờ ồ ầ ố
D ùi đ y chỳng ta chỉ kha o sỏt plasma h quang du ng va oươ õ ớ ồ ỡ ỡ
vi ỷc phục h i chi ti t mỏy.ờ ồ ế
Khi tạo plasma đi qua m ỹt khe hẹp ch ùa hai đi ỷn c ỷc tạoụ ư ờ ư
h quang. Khi ộp h quang la m cho nhi ỷt đ ỹ cu a nú t ùiồ ồ ỡ ờ ụ ớ ơ
16000o va cao h n. Vi ỷc tạo ra m ỹt nhi ỷt l ỹng l ùn trongỡ ơ ờ ụ ờ ươ ơ
khoa ng kh ng gian nho g y n n s ỷ ion húa ch t khớ, t ùc laớ ụ ớ õ ờ ư ấ ư ỡ
la m xu t hi ỷn trong kh ng gian đi ỷn c ỷc nh ợng ph n t mangỡ ấ ờ ụ ờ ư ư õ ử
đi ỷn trỏi d u, nh ợng ion va đi ỷn t , cũng nh h i v ỷt li ỷuờ ấ ư ỡ ờ ử ư ơ õ ờ
la m đi ỷn c ỷc; d ùi tỏc dụng cu a đi ỷn trỡ ờ ư ươ ớ ờ ường va khớ nộnỡ
chỳng tạo n n tia plasma cú h ùng, thờ ươ ường gọi la h quangỡ ồ
nộn. Plasma cú tớnh d ựn đi ỷn cao do đú d ự kh ng ch núõ ờ ờ ố ế
bă ng đi ỷn trũ ờ ường va t trỡ ừ ường. T c đ ỹ chuy n đ ỹng cu aố ụ ể ụ ớ
cỏc ph n t trong tia plasma r t l ùn va cú th xỏc định theoầ ử ấ ơ ỡ ể
c ng th ùc: ụ ư
0,8I P (adsbygoogle = window.adsbygoogle || []).push({});
V
r
=
Trong đú: V- t c đ ỹ chuy n đ ỹng cu a cỏc ph n t trong tiaố ụ ể ụ ớ ầ ử
plasma, m/s.
I - cường đ ỹ do ng đi ỷn, A.ụ ỡ ờ
P - l ỹng nguy n t khớ trong 1 cmươ ờ ử 3. r - bỏn kớnh đi m tr n đi ỷn c ỷc, cm .ể ờ ờ ư
V ùi ỏp su t khớ 2- 3 at va cơ ấ ỡ ường đ ỹ do ng đi ỷn 400- 500ụ ỡ ờ
A, t c đ ỹ chuy n đ ỹng cu a cỏc ph n t u trong tia plasma cúố ụ ể ụ ớ ầ ử
th v ỹt 15000 m/s.ể ươ
C c u tạo tia plasma gọi la mo đ t hoặc plasmatron. Sơ ấ ỡ ớ ố ơ
đ nguy n lý mo đ t plasma ồ ờ ớ ố trỡnh băy tại hỡnh 5-38. Cú ba s đ tạoơ ồ
plasma: h quang thă ng, h quang xi n va h quang h ựn h ỹp.ồ ú ồ ờ ỡ ồ ụ ơ
Trong mo đ t tỏc dụng thă ng (h.5-38a) h quang chỏyớ ố ú ồ
gi ợa cỏc đi ỷn c ỷc kh ng núng cha y v nfram 6 va v ỷt ha n 1,bịư ờ ư ụ ớ ụ ỡ õ ỡ
ộp b i khe hẹp cu a mi ỷng 2 va khớ tạo plasma qua khoa ngở ớ ờ ỡ ớ
kh ng gian 5. Ph n khớ đi qua c ỹt h quang nộn bị ion húa vaụ ầ ụ ồ ỡ