, mm Chi tiết
c) a) b)
5.8.4 Thiờ ỳt bị khỏc.
ha n đă p plasma bă ng b ỹt ng i ta s dụng b ỹ nạp
Để ỡ ừ ũ ụ ườ ử ụ
li ỷu kớn (h.5-41). B ỹt ha n đă p ch ùa trong b con va đ ỷy kớn.ờ ụ ỡ ừ ư ể ỡ õ
D ùi đỏy b cú r to v ùi 36 cỏnh quạt quay quanh trục đ ùngươ ể ụ ơ ư
v ùi t c đ ỹ 6vg/ph, r to cỏnh quạt c p b ỹt qua l ự b ch ùaơ ố ụ ụ ấ ụ ụ ể ư
t ùi c c. Khớ qua c c mang theo b ỹt ha n va đ ỹc chuy n vơ ố ố ụ ỡ ỡ ươ ể ề
mo plasma bă ng m ỹt h ỷ th ng ng d ựn đặc bi ỷt. L ỹng b ỹtớ ũ ụ ờ ố ố õ ờ ươ ụ
c p t b va o c c đ ỹc đi u chỉnh bă ng van đi u ti t.ấ ừ ể ỡ ố ươ ề ũ ề ế
C c u đ y d y t ỷ đ ỹng trong thi t bị ha n plasma t ng t ỷơ ấ ẩ õ ư ụ ế ỡ ươ ư
nh trong mỏy ha n t ỷ đ ỹng th ng thư ỡ ư ụ ụ ường khỏc.
Vi ỷc ha n đă p t ỷ đ ỹng cỏc chi ti t hỡnh trụ th ỷc hi ỷnờ ỡ ừ ư ụ ế ư ờ
tr n cỏc mỏy quay t ỷ đ ỹng vạn năng hoặc tr n mỏy ti ỷn cúờ ư ụ ờ ờ
trang bị th m h ỹp gia m t c đ ỹ quay cu a m m cặp. Mo ờ ụ ớ ố ụ ớ õ ớ hăn
plasma gỏ tr n ba n dao, chi ti t gỏ trong m m cặp. ờ ỡ ế õ Để ha n đă pỡ ừ
cỏc chi ti t phă ng cú th du ng xe ha n phă ng cú gỏ moế ú ể ỡ ỡ ú ớ
ha n plasma.ỡ
N ùc la m ngu ỹi mo ha n plasma c p t h ỷ th ng d ựnươ ỡ ụ ớ ỡ ấ ừ ờ ố õ
n ùc, l ỹng n ùc ti u thụ kh ng ớt h n 5 l/ph.ươ ươ ươ ờ ụ ơ
Khớ tạo plasma va ba o v ỷ. Trong s cỏc khớ tạo plasmaỡ ớ ờ ố
cú th du ng ag ng, nit , xi, h li, kh ng khớ ể ỡ ụ ơ ụ ờ ụ vă hyđr . Vi ỷc chọnụ ờ
khớ tạo plasma đ ỹc xỏc định b i nhi ỷt dung, tớnh d ựn nhi ỷtươ ở ờ õ ờ
va kha năng ion húa cu a nú, nhi ỷt ha n va nhi ỷt đ ỹ cu a tiaỡ ớ ớ ờ ỡ ỡ ờ ụ ớ
plasma nh ỷn đ ỹc năng l ỹng c p cho h quang va cỏc th ngõ ươ ươ ấ ồ ỡ ụ
s khỏc.ố Khớ tạo plasma t t nh t la ag ng va h li. Chỳng choố ấ ỡ ụ ỡ ờ
nhi ỷt đ ỹ cao nh t khi đi ỷn ỏp va năng l ỹng cờ ụ ấ ờ ỡ ươ ấp cho h quangồ
nho nh t. Song h li cú tớnh d ựn nhiớ ấ ờ õ ệt cao va nhi ỷt cu a plasmaỡ ờ ớ
l ùn la m cho đi ỷn cục núng nhanh va cơ ỡ ờ ỡ húng ho ng. Vỡ v ỷy t tớ õ ố
Hỡnh 5-41. B ỹ ti p li ỷu b ỹt ha n:ụ ế ờ ụ ỡ
1 - đ ỹng c đi ỷn; 2. h ỹp gia m t c; 3. r to cỏnh quạtụ ơ ờ ụ ớ ố ụ
4.nă p; 5.bul ng hóm; ừ ụ
6. ng; 7. b ; 8. l ự thúat trong c c 10. c c; 11. ngố ể ụ ố ố ố
khớ; 12. ng b ỹtố ụ
Khớ ba o v ỷ ha n đă p plasma thớ ờ ỡ ừ ường la ag n (Ar), nit , h liỡ ụ ơ ờ
va h ựn h ỹp cu a chỳng, đ ng th i cũng cú th du ng khớỡ ụ ơ ớ ồ ờ ể ỡ
cỏcb nớc. Vi ỷc chọn khớ ba o v ỷ căn c ù va o tỏc dụng cu a núụ ờ ớ ờ ư ỡ ớ
đ i v ùi kim loại ha n đă p cũng nh cỏc chỉ ti u kinh t kỹố ơ ỡ ừ ư ờ ế
thu ỷt khỏc.õ
Đ ời ỷn c ỷc. ư Để tạo tia plasma người ta du ng đi ỷn c ỷc kh ngỡ ờ ư ụ
núng cha y la m c ỷc m. S ỷ n định cu a quỏ trỡnh phụ thu ỹcớ ỡ ư õ ư ổ ớ ụ
va o đ ỹ b n cu a đi ỷn c ỷc. i ỷn c ỷc pha i chịu đ ỹc nhi ỷt đ ỹỡ ụ ề ớ ờ ư Đ ờ ư ớ ươ ờ ụ
cao trong th i gian da i. Chỉ cú đi ỷn c ỷc v nfram đa m ba o y uờ ỡ ờ ư ụ ớ ớ ờ
c u đú. Song th ỷc t cho th y, trong ầ ư ế ấ quõ trỡnh s dụng l u da iử õ ỡ
đi ỷn c ỷc v nfram v ựn bị ti u hao đỏng k . ờ ư ụ õ ờ ể Để tăng đ ỹ b n vaụ ề ỡ
kha năng du ng m ỷt đ ỹ do ng đi ỷn l ùn ngớ ỡ õ ụ ỡ ờ ơ ười ta tr ỹn va oụ ỡ
v nfram 1- 25% axit lantanic.ụ
V ỷt li ỷu ha n đă p plasma cũng gi ng v ỷt li ỷu ha n đă põ ờ ỡ ừ ố õ ờ ỡ ừ
t ỷ đ ỹng h quang thư ụ ồ ường la d y ha n, thanh ha n... Song k tỡ õ ỡ ỡ ế
qua t t nh t nh ỷn đ ỹc khi s dụng b ỹt thu c mó hi ỷu ớ ố ấ õ ươ ử ụ ố ờ ΠΓ- XH80CP3 va CHỡ ΓH-60 cu a Li n X .ớ ờ ụ
Bo va silic trong b ỹt la m tăng tớnh cha y lo ng cu a nú, nhỡ ụ ỡ ớ ớ ớ ờ
v ỷy cú th ha n đă p l ùp mo ng t 0,25 đ n 0,35 mm, co nõ ể ỡ ừ ơ ớ ừ ế ỡ
n n niken va ha m l ỹng 14- 18% cr m đa m ba o l ùp ha n cúề ỡ ỡ ươ ụ ớ ớ ơ ỡ
ch t l ỹng t t, cú đ ỹ c ùng va đ ỹ chịu mo n cao. Nh ỹcấ ươ ố ụ ư ỡ ụ ỡ ươ
đi m cu a loại b ỹt na y la đă t. Vỡ v ỷy khi ha n đă p plasmaể ớ ụ ỡ ỡ ừ õ ỡ ừ
xooc mai bi hoặc h ựn h ỹp nhi u bụ ơ ề ột khỏc nhau tu y theo y u c uỡ ờ ầ
ch t l ỹng cu a m i ha n đă p.ấ ươ ớ ố ỡ ừ
Kớch th ùc hạt b ỹt pha i t 70 đ n 600ươ ụ ớ ừ ế à m, song hạt cu ngỡ
kớch c ợ cho l ùp ha n đă p ch t l ỹng cao h n. Kớch th ùc cỏcơ ơ ỡ ừ ấ ươ ơ ươ
hạt kh ng đ ỹc h n kộm nhau quỏ 30ụ ươ ơ àm.
5.8.5 Cụng ngh ờ ỷ hàn đ ă ừ p plasma Cho ỹ n ch ờ ỳ đ ụ ỹ hàn đ ă ừ p :