Các ha ̣t alpha thường để la ̣i các vết có kích thước rất nhỏ trên bề mă ̣t của mica nên ta khó nhâ ̣n biết được chúng bằng kính hiển vi thông thường. Do đó, sau khi phơi chiếu các mẫu mica bằng nguồn chuẩn 226Ra hoạt đô ̣ 9Ci, ta xử lý các mẫu này bằng
dung di ̣ch NaOH 6M ở 70oC như trong công trình [7]. Tuy nhiên, do khả năng ăn mòn của NaOH đă ̣c nóng đối với mica tốt hơn đối với CR-39 nên trong khóa luâ ̣n này, mica sẽ được ngâm trong NaOH 6M ở 70o trong 60 phút thay vì ngâm 7 giờ như trong công trình [7].
Các bước xử lý mẫu bằng hóa chất gồm có:
Bước 1: Chuẩn bi ̣ dung di ̣ch NaOH 6M bằng cách hòa tan 60g NaOH khan vào 250ml H2O [6].
Bước 2: Sử du ̣ng máy gia nhiê ̣t để duy trì nhiê ̣t đô ̣ của dung di ̣ch NaOH ổn đi ̣nh ở 70oC trong 60 phút (như hình 2.6). Lưu ý: trong quá trình ngâm mẫu ta có sử du ̣ng thêm “cá khuấy từ” và khuấy nhe ̣ để đảm bảm mẫu luôn nằm trong lòng dung di ̣ch. Vì nếu mẫu nổi lên trên bề mă ̣t của dung di ̣ch NaOH sẽ hình thành mô ̣t lớp chất rắn màu trắng bám lên bề mă ̣t mica, gây nhiễu trong quá trình đếm vết.
18
Bước 3: Sau 60 phút ngâm mẫu trong dung di ̣ch NaOH 6M, lấy mẫu ra khỏi dung di ̣ch NaOH nóng và nhanh chóng rửa sa ̣ch NaOH còn bám trên mẫu bằng nước sa ̣ch rồi mới đưa mẫu lên kính hiển vi để quan sát và đếm các vết mà mica ghi nhâ ̣n được.
2.3. Phương pháp để xác đi ̣nh số vết mica ghi nhâ ̣n được 2.3.1.Ghi nhâ ̣n vết trên bề mă ̣t mica bằng kính hiển vi