Các hiện tượng xấu khi gia công tia lửa điện

Một phần của tài liệu Nghiên cứu kiến trúc IMS và xây dựng hệ thống IMS theo giải pháp của alcatel lucent (Trang 30 - 31)

- Khoảng cách xung B= to: là thời gian giữa hai lần ngắt và đóng máy của máy phát thuộc hai chu kỳ phóng điện kế tiếp nhau Khoảng cách xung t 0 th ườ ng

1.4.6 Các hiện tượng xấu khi gia công tia lửa điện

Với mục đích nâng cao hiệu quả gia công và nâng cao chất lượng sản phẩm, ta phải tiến hành nghiên cứu và tìm hiểu các hiện tượng xấu và nguyên nhân của nó trong quá trinh gia công tia lửa điện. Các hiện tượng chủ yếu thường gặp là:

1.4.6.1.Hồ quang

Là hiện tượng có sự phóng điện do không có thời gian trễ td.

Nguyên nhân: do sự phóng điện mà xuất hiện trong chất điện môi (khu vực nằm giữa 2 điện cực) những phần tử vật liệu đã bịăn mòn và các ion dương chưa ị

dòng chảy chất điện môi đẩy ra khoi khe hở phóng điện. Chính xác ion này gây ra hồ quang trước khi chúng mất điện và bịđẩy ra khe hở phóng điện. Hồ quang xảy ra giữa các xung. Do đó, nếu trong quá trình gia công mà điều chỉnh khoản cách

giữa các xung quá ngắn thì sẽ xảy ra hiện tượng xung tiếp thao bị đốt cháy một

điểm với xung trước (do lúc đó không có khoảng thời gian trễđể phóng điện vào các đỉnh nhấp nhô cao nhất) Do đó điểm ăn mòn sẽ bị khoét thành một hố sâu và không đều trên bề mặt phôi.

1.4.6.2 Ngắn mạch, sụt áp

Hiện tượng: không có sự phóng điện mà chỉ xuất hiện dòng điện chạy từđiện cực sang phôi (khi đó điện áp là rất nhỏ và dòng điện là cực đại) còn gọi là dòng

điện ngắn mạch. Sự ngắn mạch không chỉ ngăn cản sự hớt vật liệu phôi mà còn làm hư hại cấu trúc của phôi do dòng điện sẽ tạo ra nhiệt làm ảnh hưởng đến phôi.

Nguyên nhân:

Do sự tiếp xúc trực tiếp của điện cực vào môi Tồn tại 1 phần tử bị kẹt trong khe hở phóng điện

Chiều rộng khe hở quá nhỏ, dòng chảy chất điện môi quá yếu.

1.4.6.3.Xung mạch hở, không có dòng điện

Hiện tượng: các xung không gây ra hiện tượng phóng điện. Do đó làm giảm hiệu quả phóng điện.

Nguyên nhân: chiều rộng khe hở phóng điện quá lớn và chảy chất điện môi quá mạnh (nên đã thổi hết ion ra khỏi vùng công).

Một phần của tài liệu Nghiên cứu kiến trúc IMS và xây dựng hệ thống IMS theo giải pháp của alcatel lucent (Trang 30 - 31)

Tải bản đầy đủ (PDF)

(101 trang)