6. Cấu trúc luận văn
3.3. Mối tương quan giữa thế màn chắn của plasma lưu chất và thế màn chắn trong
Ta thấy thế màn chắn trong mạng tinh thể là hàm giảm theo r và là hàm lồi khác với thế màn chắn trong các plasma lưu chất, có thế màn chắn là các hàm lõm.
3.3. Mối tương quan giữa thế màn chắn của plasma lưu chất và thế màn chắn trong mạng tinh thể lập phương tâm khối trong mạng tinh thể lập phương tâm khối
Các công trình khác nhau đã đề xuất plasma OCP kết tinh tại Γ=172 [9], Γ=175[12], Γ=178[13]. Chúng tôi đề xuất các thế màn chắn tương ứng ở các biểu thức 2.12, 2.13, 2.14.
Thế màn chắn trong plasma OCP với hệ số tương liên Γ=172, 175, 178 và thế màn chắn trong mạng tinh thể lập phương tâm khối được biểu diễn trên cùng một hình 2.45. 1.0 1.5 2.0 2.5 0.0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 H r
Các hình 3.4, 3.5 cho ta độ lệch của các thế màn chắn vừa đề cập. Ta thấy với các giá trị khoảng cách liên ion r<2.3 các thế màn chắn có quan hệ
H172(r)>H175(r)> H178(r). 1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2 2.4 2.6 0.0 0.1 0.2 0.3 0.4 Hình 3.4. Hiệu hai thế màn chắn 1000(H172(r)-H175(r)) r
Ta thấy các thế màn chắn trong plasma OCP lưu chất lớn hơn thế màn chắn trong tinh thể và với Γ càng lớn thì thế màn chắn càng giảm. Điều này cũng thấy được rõ hơn qua các đồ thị biểu diễn H=H(lnΓ) ở các giá trị r khác nhau trên các hình từ 2.21 đến 2.25. Dù vậy, ý tưởng kỳ vọng rằng khi Γ đủ lớn các đường cong thế màn chắn ở trạng thái lưu chất và trạng thái tinh thể sẽ tiếp xúc nhau và từ đó có thể suy ra điểm kết tinh thì không được xác nhận, tức là tồn tại sự gián đoạn trong thế màn chắn khi plasma chuyển pha.
Nhận xét trên cho thấy thế màn chắn không phải là đại lượng thích hợp để có thể tìm ra được giá trị của Γ để có hiện tượng chuyển pha.