- L=L1+L
2.3.2.3 Ảnh hưởng của hệ số phản xạ của gương M2 (R2)
Với các tham số φ0=-0.5π, α=1000, λ=1μm, n2=10-4 (cm2/w), R1=0.01; L1 = L2= 0.5mm; cho R2 thay đổi với các giá trị R1=0.01, 0.03, 0.07, 0.09; chúng ta thu được các đường đặc trưng của phương trình (2.17) trên đồ thị hình 2.11. Từ đồ thị ta thấy rằng khi R2 tăng thì các ngưỡng chuyển trạng thái (Ion, Ioff) đều tăng (trái ngược với khi tăng R1) và tốc độ chuyển mạch cũng giảm ( |Ion-Ioff| tăng – Điều này giống như khi tăng R1 ).
Từ các kết quả khảo sát ở trên ở trên chúng ta thấy rằng: quá trình hình thành đặc trưng lưỡng ổn định của NCMI và hình dạng của các đường đặc trưng phụ thuộc vào tham số điều khiển (cường độ vào) và các tham số tách
10 20 30 4015 15 12.5 10 7.5 5 2.5 Iin (W/cm2) Iin (W/cm2)
Hình 2.11 Đặc trưng lưỡng ổn định của pt (2.17) NCMI với φ0=-0.5π, α=1000, λ=1μm, n2=10-4 (cm2/w), R2=0.01, 0.03, 0.05, 0.07, 0.09; R1=0.01; L1 = L2= 0.5mm. R2=0.03 R2=0.01 R2=0.05 R2=0.07 R2=0.09
(hệ số hấp thụ của môi trường phi tuyến, hệ số phản xạ của gương, và toạ độ điểm chiếu vào của chúng). Với một giá trị thay đổi của các tham số trên sẽ cho ta đặc trưng lưỡng ổn định riêng của NCMI, đó là ngưỡng mở (cường độ bơm ứng với điểm cực đại của đường cong lưỡng ổn định), ngưỡng đóng (cường độ bơm ứng với điểm cực tiểu của đường cong lưỡng ổn định) và khoảng cách giữa hai ngưỡng (Iswon - Iswoff). Các đặc trưng lưỡng ổn định này có thể thay đổi bằng cách lựa chọn tối ưu tổ hợp của tất cả các tham số điều khiển và tách.
Một tính chất đặc trưng của NCMI khác với các thiết bị lưỡng ổn định khác là đặc trưng ổn định không những phụ thuộc vào các tham số chính: như cường độ bơm, hệ số hấp thụ của môi trường phi tuyến, hệ số phản xạ của các gương mà còn phụ thuộc vào vị trí của chùm tia tới. Nhờ sự khác biệt này mà chúng ta có thể ứng dụng để tái phân bố lại chùm laser có cấu trúc lòng máng.