Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống
1
/ 32 trang
THÔNG TIN TÀI LIỆU
Thông tin cơ bản
Định dạng
Số trang
32
Dung lượng
1,91 MB
Nội dung
Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 10 CHƯƠNG2: GIA CÔNGTIALỬAĐIỆN DÙNG ĐIỆN CỰC ĐỊNH HÌNH 2.1. Nguyên lý giacôngtia l ửa điện H×nh 2.1 . Nguyªn lý gia c«ng tia löa ®iÖn Đặt một điện áp một chiều giữa 2 điện cực (một được gọi là dụng cụ và một gọi là phôi - chi ti ết). Chúng được nhúng ngập trong 1 dung dịch cách điện đặc biệt (gọi là dung dịch điện ly). Điện áp này thường nằm trong khoảng 80V đến 200V. Khi đưa 2 điện cực tiến lại gần nhau, đến một khoảng cách đủ nhỏ thì xảy ra sự phóng tialửa điện. Điều này có thể giải thích là do điện trường giữa khe hở đủ lớn (đạt khoảng 10 4 V/m) dẫn đến việc iôn hoá dung dịch điện ly và nó trở thành dẫn điện. Tialửađiện phóng qua khe hở này và hình thành kênh dẫn điện, nhiệt độ lên đến khoảng 10000 o C làm b ốc hơi vật liệu các điện cực. Áp suất vùng này sẽ cao hơn các vùng khác. Nguồn điện được ngắt đột ngột làm cho tialửađiện biến mất. Do sự chênh lệch áp suất và do dung dịch lạnh từ ngoài tràn vào kênh dẫn điện gây ra tiếng nổ nhỏ và làm hoá rắn hơi vật liệu th ành các hạt ô-xít kim loại. Sau đó, dung dịch điện ly được khôi phục trạng thái cũ của nó: không dẫn điện. Nguồn điện được cung cấp lại và tialửađiện lại xuất hiện. Có thể thấy những điểm mấu chốt của phương pháp giacôngtialửađiện gồm: Nguồn cung cấp điện áp dạng xung: thời gian ngắt nguồn điện là khoảng thời gian cần thiết để dung dịch điện ly có thể khôi phục lại trạng thái không dẫn điện của nó và sẵn sàng cho xung giacông tiếp theo. Nếu thời gian này không có hay nhỏ quá sẽ làm dung d ịch điện ly luôn ở trạng thái dẫn điện. Điều này làm cho tialửađiện phát triển thành hồ quang gây hỏng bề mặt chi tiết và dụng cụ. Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 11 Các điện cực làm bằng 2 loại vật liệu khác nhau và được nhúng ngập trong dung dịch điện ly: dung dịch n ày có chức năng chính là môi trường hình thành kênh dẫn điện. Giữa các điện cực luôn có 1 khe hở nhỏ được gọi là khe hở phóng điện. Khe hở này cần được đảm bảo trong suốt quá tr ình giacông để duy trì sự ổn định của tialửa điện. 2.2. Bản chất vật lý của quá trình ăn mòn tialửađiện Quá trình ăn mòn của một xung giacông được trải qua 3 giai đoạn: giai đoạn hình thành kênh d ẫn điện, giai đoạn phóng tialửađiện làm bốc hơi vật liệu và giai đoạn phục hồi. 2.2.1. Giai đoạn 1: hình thành kênh dẫn điện Các đặc điểm chính của giai đoạn này là: Giai đoạn này được xác định trong khoảng thời gian khi bắt đầu có điện áp (cấp bởi nguồn) và kết thúc khi điện áp bắt đầu giảm. Mô tả hiện tượng: khi điện trường giữa 2 điện cực tăng lên do việc đưa chúng đến gần nhau làm cho vận tốc của các ion và điện tử tự do (có trong lớp dung dịch điện ly ở giữa các điện cực) tăng l ên và bị hút về phía cực trái dấu. Trong quá trình di chuyển, chúng va đập với các phân tử trung hoà và làm tách ra các ion và điện tử mới. Cứ như vậy, khi khoảng cách càng nhỏ làm từ trường và động năng của các ion và điện tử càng lớn dẫn đến h ình thành một dòng chuyển dịch có hướng của ion và điện tử tạo nên dòng điện. Kết quả: dung dịch điện ly trở nên dẫn điện ở cuối giai đoạn này. Hình 2.2. Sự hình thành kênh dẫn điện Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 12 2.2.2. Giai đoạn 2: phóng điện và làm bốc hơi vật liệu Hình 2.3. Sự phóng điện qua kênh dẫn điện Thời gian của giai đoạn này được tính từ khi điện áp bắt đầu giảm đến một trị số xác định và giữ nguyên cho đến khi giảm về 0V (ngắt nguồn) Mô tả hiện tượng: dòng điện xuất hiện trong kênh dẫn điện kèm theo sự xuất hiện tialửa điện. Tại k ênh dẫn điện, năng lượng tập trung rất lớn (đạt cỡ 10 5 đến 10 7 W/mm 2 ) làm cho nhi ệt độ tại đó đạt tới 10000 o C. Vật liệu của các điện cực tại nơi xuất hiện tialửađiện bị bốc hơi bởi nhiệt độ cao. B ên cạnh đó còn có một lượng nhỏ vật liệu bị tách khỏi bề mặt các điện cực do sự va đập của các ion và điện tử lên bề mặt của chúng. Giai đoạn này chính là giai đoạn có ích trong cả một xung gia công: ăn mòn vật liệu tạo thành hình dáng chi tiết theo yêu cầu. 2.2.3. Giai đoạn 3: hoá rắn hơi vật liệu và phục hồi Hình 2.4. Sự phục hồi Thời gian ngắt nguồn điện là khoảng thời gian của giai đoạn này. Mô t ả hiện tượng: nguồn xung bị ngắt đột ngột, dung dịch điện ly lạnh ở xung quanh tràn vào gây nên s ự thay đổi áp suất đột ngột tạo nên tiếng nổ nhỏ. Hơi của vật liệuđiện cực Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 13 hoá rắn do việc giảm nhiệt độ đột ngột tạo nên các hạt ô-xít kim loại có kích thước nhỏ (cỡ vài trăm micro mét). Các hạt ô-xít này không dẫn điện hoặc dẫn điện rất kém (tuỳ vào v ật liệu các điện cực). Kết thúc giai đoạn này, dung dịch điện ly lấy lại trạng thái ban đầu của nó: không dẫn điện. Một xung giacông kết thúc. Các giai đoạn trên được lặp lại cho các xung giacông kế tiếp theo. Sau hàng lo ạt xung giacông có ích, vật liệu của các điện cực bị ăn mòn dần theo từng lớp. Người ta thường chọn vật liệu dụng cụ có khả năng chịu ăn mòn hơn (bằng đồng hay graphite) nên chi tiết dần bị ăn mòn nhiều và sẽ mang hình dáng của dụng cụ. 2.2.4. Thiết bị giacông Hình 2.5. Mô hình máy xung tialửađiện _ NC-controller generator: bộ điều khiển số _ Servo drive: bộ điều khiển động cơ servo _ Machine head: trục chính của máy (thường dùng để gắn dụng cụ). Nó đóng vai trò là tr ục Z _ Dielectric tank: thùng chứa dung dịch điện ly (ngập các điện cực) _ Workpiece: phôi – chi tiết cần giacông _ Electrode: dụng cụ Dielectric Electrode Workpiece Pulse generator Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 14 _Dielectric unit: hệ thống thùng và bơm dung dịch điện ly lên thùng chứa _ Machine table: bàn máy có thể di chuyển theo 2 phương X, Y _Gap: khe hở phóng điện. Khe hở này cần phải được đảm bảo không đổi trong suốt quá trình phóng tialửa điện. _Dielectric: dung dịch điện ly _Pulse generator: nguồn cung cấp điện áp công suất một chiều dạng xung Với các thiết bị giacông EDM khác có cấu tạo tương tự, chỉ có 1 số điểm khác nhau cơ bản để phù hợp với ứng dụng thực tế của thiết bị đó: - Yêu cầu về dịch chuyển bàn máy như WEDM - Loại dung dịch điện ly: trong phay và xung là dầu, còn WEDM là nước - Loại dụng cụ - Công suất thiết bị, 2.2.5. Ưu, nhược điểm Từ nguyên lý gia côngtialửa điện, có thể thấy những ưu điểm và hạn chế của phương pháp giacông này: 2.2.5.1. Ưu điểm Một trong những điểm đặc sắc nhất của quá trình giacông bằng tialửađiện là không có l ực cắt trong quá trình gia công. Không có lực cắt đồng nghĩa với việc tính toán đồ gá, bàn máy sẽ đơn giản hơn rất nhiều, công suất của động cơ điều khiển các trục cũng sẽ không cần lớn như trước. Đó cũng là lý do vì sao các hãng chế tạo máy xung đẩy mạnh nghiên cứu giacông máy phay, máy khoan tialửađiện bởi nếu thành công, họ sẽ có thể chế tạo được các chi tiết phức tạp không thua gì các phương pháp giacông truyền thống mà công suất có thể thấp hơn nhiều. Chất lượng chi tiết giacông tốt, độ chính xác kích thước và độ nhám bề mặt không thua kém gì các phương pháp giacông truyền thống. Ngày càng có nhiều đóng góp trong lĩnh vực giacông khuôn mẫu với tổng số sản phẩm tăng dần theo hàng năm Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 15 2.2.5.2. Nhược điểm Không giacông được những chi tiết phức tạp. Rõ ràng nơi phôi bị ăn mòn, hình dáng chi ti ết sẽ có hình dáng giống như điện cực. Vì vậy, nếu cần phải giacông những chi tiết phức tạp, việc thiết kế điện cực sẽ trở nên khó khăn hơn rất nhiều lần. T ốc độ giacông chậm. Sau mỗi xung, bề dày lượng kim loại bị ăn mòn chỉ khoảng vài µm và ch ỉ giới hạn trong một diện tích nhỏ. Tốc độ giacông chậm đồng nghĩa với năng suất chế tạo thấp. Các nghiên cứu nhằm tăng tốc độ giacông bằng tialửađiện cũng là m ột mối quan tâm lớn của các hãng chế tạo máy xung trên thế giới. 2. 3. Cơ chế tách vật liệu Sự đồng đều khi hớt vật liêu: Trên thực tế bề mặt phôi và bề mặt điện cực không phẳng như ta tưởng tượng mà nó có các nh ấp nhô. Khoảng cách giữa hai bề mặt điện cực trong toàn bề mặt thực tế là không c ố định mà nó thay đổi do các nhấp nhô. Nếu trên bề mặt phôi xuất hiện một miệng núi lửa rất nhỏ ở điểm A nào đó và có khoảng cách gần nhất tới điện cực. Khi một điện áp thích hợp được đặt giữa hai điện cực (dụng cụ và phôi), một trường tĩnh điện có cường độ lớn được sinh ra nó gây ra sự tách các electron từ cực âm A. Các electron được giải phóng này được tăng tốc về phía cực dương, sau khi đạt được tốc độ đủ lớn các electron này va đập với các phần tử điện môi, bắn phá các phần tử đó thành các electron và các ion dương. Các electron vừa sinh ra lại được tăng tốc v à nó lại đánh bật các electron khác từ các phần tử dung dịch điện môi. Cứ như vậy, một cột hẹp các phần tử dung dịch điện môi bị ion hoá được sinh ra tại điểm A nối hai điện cực lại với nhau (sinh ra một dòng thác điện tử, cột phần tử bị ion hoá tăng lên và có tính dẫn điện mạnh-tia lửa điện). Kết quả là tialửađiện này là một sóng chèn ép l ớn được sinh ra và có nhiệt độ rất lớn tăng lên trên các điện cực (1000012000 0 C). Nhiệt độ lớn n ày làm nóng chảy và bốc hơi vật liệuđiện cực, vật liệu nóng chảy bị dòng dung môi cu ốn đi và một vết lõm trên hai bề mặt đựơc sinh ra. Ngay lúc đó thì khoảng cách giữa hai điện cực tại A tăng lên và vị trí tiếp theo có khoảng cách ngắn nhất giữa hai điện cực là một vị trí khác (ví dụ tại B). Tương tự khi nguồn điện áp đựơc đóng ngắt một lần nữa, chu kỳ trên được lặp lại, tialửađiện tiếp theo được sinh ra tại vị trí B. Cứ như vậy khi máy phát đóng ngắt li ên tục thì sự phóng tialửađiện sẽ sản sinh ra một loạt miệng Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 16 núi lửa kế tiếp nhau trên toàn bề mặt điện cực. Kết quả là vật liệu được hớt đi một cách đồng đều tr ên toàn bề mặt điện cực (phôi). Bề mặt được gia côngtialửađiện sẽ hình thành do sự tạo nên các “miệng núi lửa” li ti đó. Nếu năng lượng do phóng tialửađiện được g iảm một cách hợp lý thì các “miệng núi lửa” sẽ có kích thứơc cực nhỏ và ta nhận được một bề mặt có độ bóng cao. Hình 2.6 Các “miệng núi lửa” được hình thành liên tiếp. Các đặc tí nh tách vật liệu đầu tiên phụ thuộc vào năng lượng tách vật liệu W e W e = U e .I e .t e Trong đó: U e , I e là các giá trị trung bình của điện áp và dòng tialửađiện được lấy trong khoảng thời gian xung. Do U e là một hằng số vật lý phụ thuộc vào cặp vật liệuđiện cực/phôi nên về thực chất, năng lượng tách vật liệu chỉ phụ thuộc vào dòng điện và thời gian xung. Dòng điện tổng cộng trong kênh plasma qua khe hở phóng điện là tổng của dòng các điện tử chạy tơi cực dương (canôt) và dòng các ion dương chạy tới cực âm (anôt). Do khối lượng của các ion dương lớn hơn trên 100 lần so với khối lượng của các điện tử, nên có thể bỏ qua tốc độ của các ion dương khi xuất phát các xung điện so với tốc độ của điện tử. Mật độ điện tử tập trung tới bề mặt cực dương (anôt) cao hơn nhiều lần so với mật độ ion dương tập trung tới bề mặt cực âm (anôt) trong khi mức độ tăng của d òng điện rất lớn trong khoảnh khắc đầu tiên của sự phóng điện. Điều này là nguyên nhân gây ra sự nóng chảy rất mạnh ở cực dương (canôt) trong chu kỳ này. Dòng ion dương chỉ đạt tới cực âm (catôt) trong micro giây đầu tiên. Chính các ion dương này gây ra sự nóng chảy v à bốc hơi của vật liệuđiện cực catôt. Do đó có hiện tượng điện cực bị m òn. S ở dĩ vật liệu lỏng được tống ra khỏi khe hở giữa hai điện cựclà : Do v ật liệuđiện cực khi tiếp xúc với plasma ở một pha có áp lực cao tới 1kbar và nhi ệt độ cực cao tới 10000 0 C trong kênh plasma. A B A C A B Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 17 Do sự đột ngột biến mất của kênh plasma khi dòng điện bị ngắt. Ngay tức khắc áp suất tụt xuống bằng áp suất xung quanh sau khi ngắt dòng điện. Nhưng nhiệt độ của dòng chất lỏng không tụt nhanh như thế. Điều này gây ra sự nổ và bốc hơi của chất lỏng nóng chảy hiện có. Tốc độ cắt dòng điện và mức độ sụt của xung dòng điện sẽ quyết định tốc độ sụt áp suất và sự bắt buộc nổ vật liệu chảy lỏng. Thời gian sụt của dòng điện là yếu tố quyết định đối với độ nhám bề mặt gia công. 2.4. Năng suất giacông – chất lượng bề mặt khi giacông bằng EDM 2.4.1. Năng suất giacông N¨ng suÊt gia c«ng (mm 3 /phót hay g/phót): là lượng hớt vật liệu chi tiết trong một khoảng thời gian. Năng suất tỷ lệ thuận với cường độ dòng điện và khoảng thời gian giacông có ích (thời gian của giai đoạn 2). Trên thực tế, một đại lượng khác tương tự năng suất thường được dùng trong quá trình điều khiển là hiệu suất gia công. Hiệu suất giacông được tính theo công thức. N k k oi k e tt t 1 )( )( )( Với N là số chu kỳ lấy mẫu. Mỗi chu kỳ giacông được tính trong khoảng thời gian ( t i + t o ) (s). Theo công th ức trên, hiệu suất được tính cho một quá trình giacông hay một khoảng thời gian xác định. Thông thường, các hệ điều khiển hiện đại như AGIE, Charmill, Mitsubishi lấy N=1000. Năng suất gia côngtialửađiện phụ thuộc v ào nhiều yếu tố, quan trọng nhất là các yếu tố cơ bản sau: - Khe hở phóng tialửađiện . - Cường độ dòng điện I. - Tần số xung f. - Điện dung C. - Diện tích bề mặt giacông F. - Chất lượng điện cực và chất lượng điện môi. - 2.4.1.1. ảnh hưởng của : Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 18 ảnh hưởng đến điện áp của tụ đã được tích điện Uc )1( 1 RC T iC eUU Trong đó: T 1 thời gian tích điện (s) * Nếu nhỏ thì Uc max cũng nhỏ nên tần số xung lớn, bởi vì ta có quan hệ: CU I RC f C . 1 U C f Do f cho nên thời gian phóng tialửađiện t e nhỏ. Như vậy, nhỏ U c ; t e , cho dù Ie có lớn thì năng lượng tích lũy trong xung điện W e (năng lượng tách vật liệu) vẫn nhỏ: W e = U e .I e .t e Dấn đến năng suất cũng thấp. * Nếu lớn thì Ue max lớn f nhỏ. Nhưng theo đồ thị trên thì dòng điện Ie cũng nhỏ làm cho năng suất vẫn thấp. Như vậy, việc chọn tối ưu sao cho sự phóng điệndiễn ra đều đặn để có được một năng suất giacông ph ù hợp là rất cần thiết. Công suất gia công: N e = 1 0 1 1 T c dtItU T Với: )1( 1 RC T iC eUU (4) I t = RC T Z eI 1 . (5) I Z = U i /R (6) R: điện trở trong mạch RC C: điện dụng của mạch RC T 1 : thời gian tích điện Thay (4) và (5) vào (3), ta được: 1 11 0 1 .).1( . T RC T RC T Zi C dtee T IU N Đặt RC T C C e U U 1 1 max (7), gọi là hệ số tích điện. Thay lên trên và sau khi tính toán phân tích ta được: N c = pzizi aIUIU ) 1 1 ln(2 2 (8) Đồ án tốt nghiệp Lớp CTM8 – K47 Đỗ toàn Thắng & Nguyễn hữu Tú 19 Với a p = ) 1 1 ln(2 2 ,gọi là hệ số công suất. Đồ thị b ên cho ta mối quan hệ giữa và a p trong gia côngtialửa điện, qua đồ thị đó ta thấy rằng a p đạt max khi = 0,6 0,8. phải giữ ổn định trong khoảng cách đó. Vậy phải điều chỉnh khoảng cách điệ n cực phù hợp với trị số trên và bộ phận điều khiển 2.4.1.2. Ảnh hưởng của điện dung C Ta cũng có kết quả theo đồ thị sau. Trong đó chỉ ra rằng điện áp tối ưu U opt = 0.7Ui sẽ đạt được một lượng hớt vật liệ u lớn nhất đồng thời lượng mòn điện cực là nhỏ nhất. Khi giữ U opt = const, ta thay đổi điện dung C thì được kết quả như hình vẽ. Ta xác định được điện dung giới hạn C gh , nếu C < C gh thì sẽ gây ra hiện tượng hồ quang làm giảm năng suất gia công. Hình 2.7 Đồ thị phụ thuộc năng suất giacông vào diện tích giacông V 0 V 0 ,f U i U opt Vïng ng¾n m¹ch f V 0 ,f Hå quang C gh C f V 0 V 0 , T V 0 F T F gh [...] .. . cht lng b mt gia cụng Nhỡn chung khi Ie cng ln thỡ lng ht vt liu cng ln, nhỏm gia cụng cng ln nhng mũn in cc gim 2.6 .5 Thi gian phúng tia la in te te l khong thi gian gia lỳc bt u phúng tia la in v lỳc ngt in, tc thi gian cú dũng Ie trong mt ln phúng in 2.6 .6 kộo di xung ti õy l khong thi gian gia hai ln úng-ngt ca mỏy phỏt trong cựng mt chu k phúng tia la in kộo di xung ti l tng ca thi gian tr ỏnh .. . in t khụng vt lờn giỏ tr Ie 2.6 .3 in ỏp phúng tia la in Ue Khi bt u phúng tia la in thỡ in ỏp st t Uz xung giỏ tr Ue õy l in ỏp trung bỡnh trong sut thi gian phúng tia la in Ue l mt hng s vt lý ph thuc vo cp vt liu in cc/phụi Ue khụng iu chnh c 2.6 .4 Dũng phúng tia la in Ie Dũng in Ie l giỏ tr trung bỡnh ca dũng in t khi bt u phúng tia la in n khi ngt in Khi bt u phúng tia la in, dũng in t khụng tng .. . cc ng gia cụng hp kim siờu cng + in cc s dng ct thụ - in cc s dng ct tinh ton Thng & Nguyn hu Tỳ 34 ỏn tt nghip Lp CTM8 K47 Ch ý 2: in cc Graphit gia cụng thộp + in cc s dng vi kiu lm khuụn l - in cc s dng vi kiu lm khuụn ct t 2.9 Gia cụng xung nh hỡnh nhiu giai on Vic gia cụng xung nh hỡnh theo nhiu giai on cú th c thc hin bng hai cỏch: _Dựng mt in cc nhng trong mi giai on s dng mt ch gia cụng .. . cht kim ch Trong gia cụng xung nh hỡnh thỡ khụng th dựng nc kh khoỏng vỡ b mt in cc ln hn nhiu so vi ct dõy v s cho dũng in dũ quỏ ln 2.7 .3 nh hng chung ca cht in mụi lờn kt qu gia cụng nh hng ny c th hin trong bng sau: Bng 2.2 nh hng ca cht in mụi lờn kt qu gia cụng Cỏc nh hng Lng ht vt liu h Cht lng Khe b mt phúng in gia cụng nht (+) Dung dch in mụi (-) nht thp Gim i (gia Tt hn (gia Nh hn cụng tinh ).. . lp b mt D S Rmax R 2.4 . 2.1 V nhỏm b mt: sau khi gia cụng b mt gia cụng khụng hon ton phng m nú li nhng nhp nhụ, chớnh l nhỏm b mt iu ny lm gim c tớnh chng mi mũn v tng nguy c b n mũn hoỏ hc Khi gia cụng thụ s cú nhỏm rt ln, to ra b mt thụ v ngc li khi gia cụng tinh B mt cng thụ thỡ tớnh chng mi mũn cng kộm v nguy c b n mũn hoỏ hc cng cao Hỡnh 2.8 Cõu trỳc t vi ca chi tit gia cụng bng xung nh hỡnh .. . úng-ngt ca mỏy phỏt trong cựng mt chu k phúng tia la in kộo di xung ti l tng ca thi gian tr ỏnh la Id v thi gian phúng tia la in te: ti = td + te kộo di xung nh hng lờn: _ T l ht vt liu _ mũn in cc _ Cht lng b mt gia cụng 2.6 .7 Khong cỏch xung to õy l khong thi gian gia hai ln úng ngt ca mỏy phỏt gia hai chu k xung k tip nhau, t0 cũn c gi l kộo di ngh ca xung ton Thng & Nguyn hu Tỳ 26 ỏn tt nghip .. . xung t0 phi ln cú thi gian thụi ion hoỏ cht in mụi trong khe h phúng in Nh ú s trỏnh c cỏc li ca quỏ trỡnh nh s to thnh h quang hoc úng ngn mch Cng trong khong thi gian t0, dũng chy s y cỏc phoi liu b n mũn ra khi khe h phúng in 2.7 Cht in mụi: 2.7 .1 Nhim v ca cht in mụi Cht in mụi (Dielectric) cú bn nhim v chớnh sau õy: _ Cỏch in _ Ion hoỏ _ Lm ngui _ Vn chuyn phoi 2.7 . 1.1 Cỏch in: Nhim v bao trựm .. . Trờn th trng cng cú cỏc mỏy gia cụng xung nh hỡnh cho phộp thay th cht in mụi khi gia cụng tinh v gia cụng thụ (vớ d, mỏy SODIC) Khi gia cụng tinh cú th s dng s ụ nhim nhõn to ca cht in mụi, vớ d, a vo cỏc phn t nh li ti dn in (nhụm) lm tng tớnh dn in ca cht in mụi, gia khe h ln, cho phộp trỏnh c cỏc vt m en thng xut hin lỏc ỏc trờn phụi sau khi gia cụng tinh Khi gia cụng tia la in ct dõy thỡ dựng nc .. . thit b gia cụng tia la in l mt mỏy phỏt xung tnh õy nng lng c iu khin bng in t nh phỏt xung tnh cú u vit ln linh hot ca cỏc thụng s iu chnh Qua ú mi trng hp gia cụng cú th c gii quyt di quan im l in cc phi ớt mũn nht v cht lng b mt gia cụng l ti u Mun vy, tt c cỏc thụng s ca quỏ trỡnh gia cụng phi c iu chnh phự hp Cỏc thụng s ú gm: 2.6 .1 in ỏp ỏnh la Uz õy l in ỏp cn thit dn ti s phúng tia la in .. . _ Cú bn mũn cao, tc bn vng trong gia cụng tia la in õy l tiờu chun quan trng nht, nú c th hin bi cụng thc v bn mũn E: E = . c.Tm2 Trong ú: : H s dn nhit : Khi lng riờng C: Nhit riờng Tm: Nhit núng chy _ Cú bn mũn c hc tt, tc l phi cú bn vng v hỡnh dỏng hỡnh hc khi gia cụng tia la in Phi cú ng sut riờng nh, h s dón n nhit nh _ Cú tớnh gia cụng tt, ngha l phi d gia cụng ng thi vt liu in cc phi r, . 10 CHƯƠNG 2: GIA CÔNG TIA LỬA ĐIỆN DÙNG ĐIỆN CỰC ĐỊNH HÌNH 2.1. Nguyên lý gia công tia l ửa điện H×nh 2.1 . Nguyªn lý gia c«ng tia löa ®iÖn Đặt một điện. mòn tia lửa điện Quá trình ăn mòn của một xung gia công được trải qua 3 giai đoạn: giai đoạn hình thành kênh d ẫn điện, giai đoạn phóng tia lửa điện làm