Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống
1
/ 24 trang
THÔNG TIN TÀI LIỆU
Thông tin cơ bản
Định dạng
Số trang
24
Dung lượng
2,02 MB
Nội dung
ĐẠI HỌC QUỐC GIA HÀ NỘI TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ PHẠM VĂN ĐẠI NGHIÊNCỨUCHẾTẠOTINHTHỂQUANGTỬMỘTCHIỀUCÓCẤUTRÚCBUỒNGVICỘNGHƯỞNGLÀMBẰNGSILICXỐPỨNGDỤNGLÀMCẢMBIẾNCHOCÁCDUNGMÔIHỮUCƠ Chuyên ngành: Vật liệu Linh kiện nano Mã số: Chuyên ngành đào tạo thí điểm TĨM TẮT LUẬN VĂN THẠC SĨ CHUN NGÀNH VẬT LIỆU VÀ LINH KIỆN NANO HÀ NỘI - 2017 CHƯƠNG 1: TINHTHỂQUANG TỬ, CẤUTRÚC VÀ ĐẶC TÍNHQUANG HỌC CỦA BUỒNGVICỘNGHƯỞNG 1D DỰA TRÊN CƠ SỞ SILICXỐP 1.1 Tinhthểquangtử 1.1.1 Khái niệm tinhthểquangtửTinhthểquangtửcấutrúc tuần hồn khơng gian vật liệu với số điện môi khác xếp tuần hồn xen kẽ nhau, có chiết suất thay đổi theo chu kỳ thang chiều dài so sánh với bước sóng ánh sáng nghiêncứu Như biết, đặc tính vật lý vật chất mà có tác động lên chuyển động quangtử chiết suất, tính tuần hồn đơn tử mà vừa nói tuần hồn chiết suất Tính tuần hoàn chiết suất làmchotinhthểquangtử giam giữ ánh sáng hạn chế cách hoàn toàn xạ tự nhiên nguồn ánh sáng nằm tinhthể dải tần số hay dải bước sóng định mà ta thường gọi vùng cấmquang (PBG) 1.1.2 Các đặc tính thơng số quan trọng tinhthểquangtửTinhthểquangtử đăc trưng số thông số bản: số chiều, đối xứng, số mạng (a), hệ số lấp đầy (f), chiết suất hiệu dụng (neff), tương phản chiết suất (δ) 1.2 Cấutạobuồngvicộnghưởng 1D 1.2.1 Cấutạobuồngvicộnghưởng (a) (b) Hình 1.6 (a) Sơ đồ cắt ngang buồngvicộnghưởng Chiết suất lớp đệm ns bề dày lớp ds Lớp đệm đưa vào hai DBR đối xứng với chiết suất lớp nH, nL bề dày dH, dL (b)Phổ phản xạ buồngvicộnghưởng 1D điển hình 1.3 Cơ sở cho trình hình thành buồngvicộnghưởnglàmsilicxốpSilicxốp chủ yếu tạotừ ăn mòn điện hoá phiến Silicdung dịch axit HF Hình 1.11 sơ đồ chếtạosilic xốp: anot phiến siliccó bề mặt tiếp xúc với dung dịch HF, catốt làm platin Hình 1.11 Sơ đồ nguyên lý chếtạosilicxốpCác lỗ xốp chia làm loại theo kích thước lỗ chúng: micropores, mesopores macropores tương ứng với đường kính trung bình lỗ là: 2nm, 20-50nm > 50nm Quá trình hình thành nano tinhthể Si điện hóa q trình “tự giới hạn” có nghĩa nano Si đạt tới kích thước xác định tổ hợp điều kiện điện hóa (như phân cực, nồng độ dung dịch điện hóa, nồng độ pha tạp đế Si…) q trình ăn mòn nano Si khơng tiếp tục xảy gọi kích thước tới hạn Bảng 1.1 Ảnh hưởng thông số anot hóa đến hình thành silic xốp.Tăng thơng số cột dẫn đến thay đổi thành phần lại Độ xốp Tốc độ ăn mòn Dòng tới hạn Nồng độ HF Giảm Giảm Tăng Mật độ dòng Tăng Tăng Thời gian anot hóa Tăng Nhiệt độ Hầu không đổi Tấm pha tạp ( loại p) Giảm Tăng Tăng Tấm pha tạp ( loại n) Tăng Tăng Tăng Silicxốp đặc trưng độ xốp, độ dày đường kính lỗ rỗng Các thơng số phụ thuộc vào điều kiện anot hoá (anodization) Cụ thể là: nồng độ axit HF, mật độ dòng, loại vật liệu silic, điện trở suất, thời gian anot hoá, chiếu sáng, nhiệt độ, độ ẩm môi trường xung quanh điều kiện làm khô Các lỗ xốp chia làm loại theo kích thước lỗ chúng: micropores, mesopores macropores tương ứng với đường kính trung bình lỗ là: 2nm, 20-50nm > 50nm Độ nhạy cảmbiếnbuồngcộnghưởng định nghĩa Δλ/Δn, Δλ khoảng dịch phổ theo bước sóng Δn thay đổi chiết suất môi trường Các yếu tố ảnh hưởng đến độ nhạy buồngvicộng hưởng: gương Bragg, bước sóng cộng hưởng, chiều dày lớp khơng gian, cấutrúcsilic xốp, chức hóa bề mặt 1.4 Ứngdụngbuồngvicộnghưởng 1D dựa Silicxốplàmcảmbiến xác định dungmôihữu Nguyên lý cảmbiếnbuồngvicộnghưởng 1D dựa silicxốp chất cần phân tích xâm nhập lỗ xốplàm thay đổi chiết xuất hiệu dụng màng xốp dẫn đến dịch chuyển phổ phản xạ cảmbiến Việc xác định nồng độ dungmôidung dịch thực cách nhúng cảmbiếndung dịch pha trạng thái cân trạng thái áp suất bão hòa Hình 1.22 Sơ đồ nguyên lý đo phổ phản xạ cảmbiếnquang Quá trình xảy cảmbiến pha lỏng dựa buồngvicộnghưởngchiềusilicxốp coi hấp thụ mao mạch phân tử chất phân tích bên lỗ xốpcấutrúcsilicxốpCông thức Bruggerman mối quan hệ độ xốp chiết suất silicxốpcảmbiến pha lỏng dựa buồngvicộng hưởng: (𝟏 − 𝑷) 𝜺𝑺𝒊 −𝜺𝑷𝑺𝒊 𝜺𝑺𝒊 +𝟐𝜺𝑷𝑺𝒊 𝜺 −𝜺 + 𝑷 𝜺 𝒗𝒐𝒊𝒅+𝟐𝜺𝑷𝑺𝒊 = 𝟎 𝒗𝒐𝒊𝒅 (13) 𝑷𝑺𝒊 Thay 𝜺 = 𝒏𝟐 vào phương trình (13) ta có: (𝟏 − 𝑷) 𝒏𝟐𝑺𝒊 −𝒏𝟐𝑷𝑺𝒊 𝒏𝟐𝑺𝒊 +𝟐𝒏𝟐𝑷𝑺𝒊 +𝑷 𝒏𝟐𝒗𝒐𝒊𝒅 −𝒏𝟐𝑷𝑺𝒊 𝒏𝟐𝒗𝒐𝒊𝒅 +𝟐𝒏𝟐𝑷𝑺𝒊 =𝟎 (14) Trong đó: P độ xốp, εSi số điện môi silic, εPS số điện môisilic xốp, εvoid số điện môi trung bình bên lỗ xốp (khơng khí/chất phân tích), nSi chiết suất silic, nPSi chiết suất silicxốp nvoid chiết suất trung bình bên lỗ xốp (khơng khí/chất phân tích) Cảmbiến pha dựa buồngvicộnghưởnglàmsilicxốpcó khả nhận biết chất khí thơng qua tượng ngưng tụvi mao mạch lỗ xốp Hiệu ứngthể qua công thức Kelvin Với điều kiện p< po : r=- 𝜸𝑽 𝑹𝑻𝒍𝒏( (1.15) 𝒑 ) 𝒑𝒐 Ở r bán kính Kelvin, γ sức căng bề mặt, V khối lượng mol chất lỏng, R số khí, p áp suất chất khí, T nhiệt độ cảmbiến po áp suất khí nhiệt độ T Ta cócơng thức Bruggeman mối quan hệ độ xốp chiết suất silicxốpcảmbiến pha dựa buồngvicộng hưởng: 𝒏𝟐 −𝒏𝟐 𝒏𝟐 −𝒏𝟐 𝒑.𝑺𝒊 𝒂𝒊𝒓 𝒑.𝑺𝒊 (1-P) 𝒏𝑺𝒊 + 𝑽 𝟐 +𝟐𝒏𝟐 + (𝑷 − 𝑽) 𝒏𝟐 +𝟐𝒏𝟐 𝑺𝒊 𝑺𝒊 𝒂𝒊𝒓 𝒑.𝑺𝒊 𝒏𝟐𝒄𝒉 −𝒏𝟐𝒑.𝑺𝒊 𝒏𝟐𝒄𝒉 +𝟐𝒏𝟐𝒑.𝑺𝒊 =0 (1.19) Trong nSi chiết suất silic, np.Si chiết suất silic xốp, nair chiết suất khơng khí, nch chiết suất chất khí ngưng tụ lỗ xốp, P độ xốp V tích phần chất lỏng ngưng tụ CHƯƠNG 2: MƠ PHỎNG CÁC ĐẶC TÍNHQUANG HỌC CỦA BUỒNGVICỘNGHƯỞNG 1D VÀ KẾT QUẢ MƠ PHỎNG 2.1 Cơ sở tốn học để phân tích mơ buồngvicộnghưởng Phương pháp ma trận truyền (TMM) thuật tốn hữu ích cho việc tính tốn phổ phản xạ truyền qua cấutrúc đa lớp Phương pháp ma trận truyền xử lý cấutrúccó số tương phản cao hai vật liệu hỗn hợp Điều khiến cho TMM trở thành phương pháp phù hợp cho mô cấutrúc màng đa lớp, cấutrúccó tương phản cao lớp 2.1.1 Chương trình mơ buồngvicộnghưởng Chúng xem xét cấutrúccó chứa N cặp lớp silicxốp với chiết suất lặp lại cách tuần hoàn, chiết suất môi trường bề mặt n0 chiết suất đế (mơi trường phía dưới) ns Sơ đồ cấutrúcbuồngvicộnghưởng sở tinhthể 1D dựa màng silicxốp đa lớp Nó cấutrúc tuần hồn lớp silicxốp (với chiết suất n1 n2) A(x) biểu diễn chobiên độ sóng truyền tới từ bên phải B x) biểu diễn chobiên độ sóng truyền tới từ bên trái, A(x) B(x) không liên tục giao diện Bề dày lớp dm, chiết suất nm Λ=dm+dm+1 chu kỳ cấutrúc Trong n0, ns tương ứng chiết suất mơi trường xung quanh chiết suất phản xạ lớp đế Với cấutrúc này, ta có n(x) = n(x+Λ) Nhìn chung, cho lớp thứ m, chiết suất nm chiều dày dm dm = xm+1-xm (m = 1:2N) Hình 2.2 Sơ đồ cấutrúcbuồngvicộnghưởng 1D 2.2 Kết mô buồngvicộnghưởng dựa tinhthểquangtử 1D Chương trình mơ buồngvicộnghưởng bao gồm thông số sau: d1, d2, dss độ dày lớp điên mơicó chiết suất cao, thấp lớp không gian n1, n2, nss chiết suất lớp cao, thấp lớp khơng gian Hình 2.3 Phổ phản xạ mô buồngvicộnghưởng 1D với bước sóng cộnghưởng λ0 = 650nm Tỷ lệ nH/nL 2,5/1,55 dss = 0 /2ns Các yếu tố ảnh hưởng đến phổ buồngvicộnghưởng bao gồm: số chu kỳ gương phản xạ Bragg buồngvicộng hưởng, độ dày chiết suất lớp điện môi 2.2.1 Nghiêncứu thông số buồngvicộnghưởng 1D Sự ảnh hưởng thông số khác lên phổ phản xạ: 2.2.1.1 Độ dày lớp khơng gian (dss) Hình 2.4 Phổ phản xạ buồngvicộnghưởng bao gồm DBR với độ dày quang học λ/4 lớp không gian độ dày a)λ, b)λ/2 Khác với độ dày quang học gương phản xạ Bragg (DBRs) thường λ/4, độ dày quang học lớp khơng gian nhận hai giá trị λ λ/2 Vùng cấmbuồngvicộnghưởng với lớp không gian λ/2 rộng buồngvicộnghưởngcó độ dày λ cực trị hai bên gần với vùng cấm 2.2.1.2 Chiết suất phản xạ lớp không gian (nss) Chiết suất phản xạ lớp khơng gian sử dụng chiết suất DBRs buồngvicộnghưởng giá trị khác Sự ảnh hưởng giá trị lên phổ phản xạ buồngvicộnghưởng Hình 2.5 Phổ phản xạ buồngvicộnghưởng dựa tinhthểquangtửchiều bao gồm DBR với nL=1,55 nH =2,5 Độ dày lớp không gian λ/2 chiết suất phản xạ a)1,4, b)1,55, c) 1,8, d) 2,5 nghiêncứucho tất trường hợp sau: chiết suất nhỏ n L, nL, nằm khoảng nL nH, nH Kết quan sát hình 2.5 2.2.1.3 Số chu kỳ DBR Độ rộng đỉnh cộnghưởng truyền qua phụ thuộc vào số chu kỳ Hình 2.6 Phổ phản xạ buồngvicộnghưởngcó số chu kỳ khác gương phản xạ Bragg (DBR) buồngcộnghưởng Khi số chu kỳ N tăng, đỉnh truyền qua trở nên hẹp hơn, độ phản xạ vùng cấm tăng lên hình dáng phổ sắc nét CHƯƠNG 3: KẾT QUẢ THỰC NGHIỆM VÀ THẢO LUẬN 3.1 Nguyên lý, qui trình chếtạobuồngvicộnghưởng phương pháp ăn mòn điện hóa Định luật phản xạ Bragg áp dụngchobuồngvicộnghưởng 1D có dạng: n.d = λ0/4 (3.1) Với lớp có chiết suất thấp nL lớp khác có chiết suất cao nH Thông thường tinhthể photonic 1D gồm N cặp lớp (LH)N = LHLH LH Với điều kiện tinhthểquangtử đặt khơng khí, mặt ngồi tinhthểquangtử tiếp xúc với môi trường có chiết suất xấp xỉ nên để có phù hợp mặt chiết suất với mơi trường lớp tinhthểquangtử lớp có chiết suất thấp 3.1.1 Chếtạobuồngvicộnghưởng dựa màng đa lớp silicxốp - Bước 1: Chuẩn bị mẫu, dụng cụ hóa chất + Phiến silic loại p+ có điện trở suất ρ = 0,01 - 0,1 Ωcm + Ủ tiếp xúc mặt sau cho phiến silic bốc bay Al nhiệt độ thích hợp + Phiến silic sau ủ tiếp xúc, cắt thành miếng 1,6 x 1,6 cm, rung siêu âm mảnh isopropanol sau rửa nước khử + Chuẩn bị hóa chất để ăn mòn: Dung dịch HF cồn tuyệt đối Hình 3.1 Hệ lò dùng để ủ tiếp xúc cho phiến silic bốc bay nhôm - Bước 2: Chếtạobuồngvicộnghưởng 1D phương pháp ăn mòn điện hóa *Hệ thống điện hóa bao gồm phần: - Bình điện hóa, nguồn dòng, mảnh silic kích thước 1,6 x 1,6 cm - Dung dịch ăn mòn hỗn hợp HF: C2H5OH 16 đến 20% Các mẫu sau chếtạo rửa cồn tuyệt đối sấy khơ Hình 3.2 Hệ điện hóa AUTOLAB PGSTAT -30 dùng để chếtạo PC 1D 3.1.2 Thiết kế chếtạobuồngvicộnghưởngchiều Hình 3.3 trình bày sơ đồ buồngvicộnghưởng phổ phản xạ tương ứng Bước sóng cộnghưởng thay đổi nhanh phụ thuộc lớn vào chiều dài quang học lớp khuyết tật theo thay đổi nhỏ chiều dài quang học dẫn tới dịch đỉnh bước sóng cộnghưởng Khi độ dài quang học lớp khuyết tật tăng lên dẫn tới nhiều bước sóng mà photon phép truyền qua PBG Cácbuồngvicộnghưởngchếtạo xuất phát từ đế silic loại p+ dung dịch axit HF 16% (dung dịch axit HF cồn Hình 3.3 (a) Sơ đồ minh họa cấutrúcbuồngvicộnghưởngthể lớp khuyết tật có độ dài quang học λ/2 xen hai DBR gồm lớp có chiết suất cao thấp có độ dài quang học λ/4 xen kẽ lẫn (b) Phổ phản xạ tương ứngcho thấy bước sóng cộnghưởng hẹp đỉnh phản xạ cực đại tuyệt đối) Nồng độ HF sử dụng q trình điện hóa 16% lựa chọn cho phép tạo dải rộng giá trị chiết suất lớp xốp Hình 3.4 Sơ đồ minh họa q trình ăn mòn tạosilicxốpCáccấutrúc đa lớp silicxốp (PC 1D) tạo q trình hòa tan silic ưu tiên xảy đỉnh lỗ nơi môi trường đậm đặc mơ tả hình 3.4 Các lớp hình thành trước khơng bị ảnh hưởng q trình ăn mòn điện hóa Để tạo lớp có chiết suất thay đổi tuần hồn nằm xen kẽ mật độ dòng điện thay đổi minh họa hình 3.5, mật độ dòng điện tương ứng với độ xốp khác Hình 3.5 Sơ đồ quy trình tạo lớp silicxốpBảng 3.1 Các điều kiện ăn mòn để chếtạobuồngvicộnghưởng 1D Mơ tả Mật độ dòng (mA/cm2) Thời gian (s) Gương (N,5 chu kỳ) Lớp khuyết tật Gương (N+1 chu kỳ) 15 50 5.555 2.857 50 5.714 15 5.555 50 2.857 Có hai yếu tố để thiết kế buồngvicộnghưởngcó số Q-factor cao dựa màng silicxốp đa lớp chếtạo phương pháp ăn mòn điện hóa phiến silic: Thứ nhất, độ tương phản chiết suất tất bề mặt phải cao Thứ hai DBR phải có độ phản xạ để có triệt tiêu hồn tồn bước sóng giao thoa (bước sóng cộng hưởng) Cácbuồngvicộnghưởng sau chếtạo đo phổ phản xạ thông qua máy Spectrometer USB-4000 đo vi hình thái thơng qua ảnh FESEM máy S-4800 3.2 Các kết chếtạobuồngvicộnghưởng dựa tinhthểquangtử 1D Chúng chếtạobuồngvicộnghưởng với bước sóng, số chu kỳ, chiết suất khác hai gương phản xạ Bragg, độ dày chiết suất khác lớp khơng gian Hình 3.6 số mẫu chếtạo với thơng số đầu vào giống nhau, bước sóng cộnghưởng 662.55 sau oxy hóa bề mặt Nhìn chung, buồngvicộnghưởng 1D chếtạotừsilicxốp với độ rộng dải truyền qua 20nm hoạt động vùng nhìn thấy mẫu tốt cho phép áp dụngcảmbiến quang, cảmbiến sinh học laser buồngvicộnghưởng Hình 3.6 Ảnh chụp mẫu PC 1D hoạt động vùng nhìn thấy bước sóng (tương ứng với điều kiện chếtạo giống nhau) (a) (b) Hình 3.7 Ảnh FE-SEM cho thấy kích thước lỗ xốp vào khoảng vài chục nanomet lớp đệm (a) ảnh mặt cắt ngang buồngvicộnghưởng với bước sóng cộnghưởng 672.35 nm (b) Hình 3.8 trình bày phổ phản xạ mơ thực nghiệm mẫu buồngvicộnghưởng với bước sóng thiết kế λ=610.73nm; số chu kỳ N=4; chiết suất lớp n1=2,1 n2=1,75; bề dày lớp d1=72.70nm; d2=87.25nm Nói chung, mơ thực nghiệm phù hợp nhau, chúng cho thấy thơng số q trình chếtạobuồngcộnghưởng (chiết suất độ dày lớp) tương ứng với thơng số dự đốn trước thơng qua q trình chếtạo (mật độ dòng thời gian ăn mòn) Bên cạnh đó, phù hợp cho thấy khả dự đốn trước kết q trình thực nghiệm thơng qua mô Silicxốp loại vật liệu đặc trưng phản ứng hóa học cao, để tiếp xúc mơi trường khơng khí kết cấu bị oxy hóa phần dẫn đến giảm số khúc xạ cấutrúc thay đổi tính chất quang học Để ổn định cấutrúcbuồngvicộnghưởng tác nhân bên ngồi, q trình oxy hóa nhiệt chocấutrúc mẫu cần thiết Hình 3.8 So sánh phổ phản xạ thực nghiệm (1) mô (2) mẫu buồngvicộnghưởng dựa PC 1D Hình 3.9 phổ phản xạ mẫu buồngvicộnghưởng trước sau oxy hóa Sự dịch chuyển vùng sóng ngắn bước sóng cộnghưởng giảm chiết suất hiệu dụng lớp xốp bị oxy hóa Hình 3.9 Phổ buồngvicộnghưởng sau oxy hóa nhiệt 3.3 Sử dụngbuồngvicộnghưởnglàmcảmbiếnquangứngdụngchodungmôihữu 3.3.1 Xây dựng sơ đồ đo kết thu từ pha lỏng pha cảmbiếnquangtửchiều dựa silicxốp Theo sơ đồ hình 3.10, Pmẫu liên hệ với áp suất bình chứa dung mơi, Pdung mơi, thơng qua dòng khí chảy qua dung dịch với tốc độ V Như vậy, độ dịch chuyển bước sóng, áp suất bình chứu dung dịch tốc độ dòng khí cómối liên hệ mà biểu diễn sau: Δλ ~ Pdung dịch ϑ(V) (3.3) Trong ϑ(V) hàm thực nghiệm liên quan đến tốc độ dòng khí V Giả thiết áp suất bình chứa dung dịch tuân theo quy luật áp suất bình kín xác định Pdung dịch phương trình sau: Pdung dịch = Ʃ Pi Xi (Raoul’s low) (3.4) Pi = Ai exp (- ΔHvap / RT) (Clausion-Clapeyron equation) (3.5) Pi, Xi áp suất riêng phần, nồng độ mol tương ứng chất tham gia dung dịch, ΔHvap enthalpy hóa chất, R số khí lý tưởng, T nhiệt độ dung dịch Hình 3.10 Sơ đồ hệ đo nồng độ dungmơicảmbiến pha dùng hiệu ứng nhiệt độ áp suất riêng phần Chúng tiến hành thí nghiệm dungmơihữu phổ biến ethanol, acetone methanol Để thuận lợi cho việc phân tích đây, số tính chất vật lý họ thểBảng 3.2 Bảng 3.2 Một số tính chất vật lý ethanol, acetone methanol Nước Acetone Methanol Ethanol Chất phân tích o 100 56.2 64.6 78.5 Nhiệt độ sôi ( C) 1.3330 1.3614 1.3614 1.3614 Chiết suất Độ nhạy cao phép đo nhiệt 5.2 5.1 6.9 độ áp suất riêng phần, nm /%, (A) Độ nhạy cao phép đo áp suất 3.2 2.3 2.7 bão hòa, nm /%, (B) 0.14 0.17 Độ nhạy phép đo lỏng, nm /%, (C) 1.6 2.2 2.6 Tỷ lệ độ nhạy: A / B 37.1 40.6 Tỷ lệ độ nhạy: B / C Hình 3.11 Sự phụ thuộc độ dịch bước sóng vào nồng độ ethanol Hình 3.11 hình 3.12 cho thấy phụ thuộc bước sóng cộnghưởng (Δλ) độ nhạy (S) vào nồng độ khối lượng ethanol nước (C) qua phép đo lỏng, áp suất bão hòa phép đo áp suất riêng phần với nhiệt độ dung dịch (T) vận tốc dòng khí (V) tham số Rõ ràng, đường cong số hình 3.11 mô tả Δλ (C) phép đo pha lỏng thể hàm tuyến tính, hàm số mô tả S (C) đường cong số hình 3.12 hàm liên tục với giá trị độ nhạy 0,17 Đường cong số hình 3.11 phép đo áp suất bão hòa coi ví dụ điển hình chocảmbiến dựa silicon xốp Khi nồng độ khối lượng ethanol nước tăng, đường congcho thấy xen kẽ chế physisorption có độ dốc thấp, lắng đọng Hình 3.12 Sự phụ thuộc độ nhạy vào nồng độ khối lượng ethanol mao mạch có độ dốc cao chế độ làm ướt, chất lỏng làm ướt lấp đầy hồn toàn lỗ xốp, với độ dốc giảm đáng kể Chúng tập trung quan tâm vào đường congtừ số đến hình 3.12 đạo hàm hàm mô tả đường cong 4-7 hình 3.11 Khi tăng T V, chúng tơi quan sát thấy hai tượng sau: i) tăng độ nhạy nhanh chóng đạt giá trị lớn khu vực có nồng độ thấp; ii) xuất điểm tối đa đường cong S (C) thay đổi điểm với nồng độ thấp Hiện tượng diện lắng đọng mao mạch thứ hai xuất sớm chế độ làm ướt nồng độ thấp Hình 3.13 Sự phụ thuộc độ nhạy vào nồng độ methanol nước Hình 3.14 Sự phụ thuộc thay đổi bước sóng vào nồng độ khối lượng acetone nước Hình 3.13 hình 3.14 cho thấy đường cong mô tả phụ thuộc độ nhạy vào nồng độ methanol acetone nước từ phép đo lỏng, áp suất bão hòa, phép đo nhiệt độ áp suất riêng phần với T V tham số Những hình cho thấy đường cong thực nghiệm mô tả Δλ (C) Dựa vào độ nhạy cao 6,9 nm /% phép đo nhiệt độ áp suất riêng phần, chúng tơi tính tốn nhận giới hạn phát (Limited of Detected) 0.014% sử dụng hệ thống quang học với độ phân giải 0,1 nm Giá trị LOD tương ứng với thay đổi số khúc xạ 1,2*10-6 RIU chúng tơi áp dụng phương trình mơ tả phụ thuộc chiết suất vào nồng độ chất tan chodung dịch ethanol 3.3.2 Ứngdụngbuồngvicộnghưởngchiều dựa silicxốplàmcảmbiến xác định hàm lượng methanol ethanol Phần thực nghiệm trình bày phương pháp xác định nồng độ thấp dungmơi với độ nhạy cao Vì đề xuất sử dụng phương pháp ứngdụng vào tốn thực tế phân tích nồng độ methanol có rượu Hình 3.15 trình bày hệ đo methanol nồng độ an toàn rượu với cảmbiến pha dựa buồngvicộnghưởngsilicxốp Như thể hình, dung dịch cảmbiến đặt hai buồng ngăn cách với điều kiện nhiệt độ liên quan với áp suất với dòng khí chảy qua dung dịch Sự xếp cho phép kiểm soát độc lập nhiệt độ dung dịch buồngcảmbiến Hình 3.15 Sơ đồ hệ đo để phát methanol rượu cảmbiến dựa silicxốp với thay đổi nhiệt độ dung dịch dungmôi nhiệt độ buồngcảmbiến Đối với lần thí nghiệm, đo phút Sai số ngẫu nhiên thay đổi bước sóng từ giá trị trung bình lần đo nhỏ 0,6 nm Sự phụ thuộc thay đổi bước sóng Δλ, vào nồng độ methanol Cm, 45% 30% rượu nhiệt độ cảmbiến 22oC nhiệt độ dung dịch Tso tham số thể hình 3.16 Hình 3.16 Sự phụ thuộc thay đổi bước sóng vào nồng độ methanol rượu 45% 30% nhiệt độ cảmbiến 22oC nhiệt độ dung dịch Tso hoạt động tham số Trong trường hợp chúng tôi, việc chuyển đổi bước sóng tương đối lớn (khoảng 22 nm đến 32 nm) nồng độ methanol từ 0% cho thấy lắng đọng mao mạch xảy nhiệt độ dung dịch từ 45oC đến 55oC cho hai dung dịch ethanol Hình 3.17 Sự phụ thuộc thay đổi bước sóng vào nồng độ methanol 45% 30% rượu nhiệt độ dung dịch 55oC nhiệt độ cảm biếnTse hoạt động tham số Khi xảy lắng đọng mao mạch, phản ứngcảmbiến tuyến tính phạm vi hẹp nồng độ Rõ ràng, độ nhạy tính độ dốc đường cong nội suy điểm thí nghiệm tỷ lệ thuận với nhiệt độ dung dịch Trong giới hạn nhiệt độ dung dịch từ 45oC đến 55oC, độ nhạy tăng từ 1,42 nm /% đến 2,59 nm /% chodung dịch ethanol 30% từ 2.90 nm /% đến 3,63 nm /% cho 45% dung dịch ethanol Hình 3.17 cho thấy phụ thuộc thay đổi bước sóng Δλ vào nồng độ methanol Cm, 45% 30% rượu nhiệt độ dung dịch 55oC nhiệt độ cảmbiến Tse hoạt động tham số Rõ ràng, đường congtừ đến mô tả phụ thuộc Δλ Cm tuyến tính độ dốc họ tăng lên với gia tăng nồng độ ethanol dung dịch với sụt giảm cảmbiến nhiệt độ Trong đường cong 6, phản ứngcảmbiến tuyến tính nồng độ methanol thấp 3% sau tăng dịch chuyển bão hòa mức khoảng 5% Ở nồng độ này, đề cập trên, cảmbiến hoạt động chế độ làm ướt với việc giảm đáng kể độ nhạy Hình 3.18 Sự phụ thuộc độ nhạy theo nhiệt độ buồngcảmbiến nhiệt độ dung dịch 55oC chodung dịch ethanol 30% (đường cong 1), 45% ethanol (đường cong 2) Chúng tơi có lưu ý độ nhạy cảmbiến tỉ lệ nghịch với nhiệt độ cảmbiến kết thử nghiệm phù hợp với công thức 1.15 Giảm nhiệt độ cảmbiếntừ 28oC xuống 14oC, độ nhạy tăng từ 2.15nm /% đến 5,19 cho 30% ethanol từ 3,65 nm /% đến 7.57 nm /% cho 45% ethanol Căn vào nhạy cảm thu được, chúng tơi ước tính giới hạn phát (LOD) tỷ số độ phân giải thiết bị đo độ nhạy Độ nhạy giới hạn phát thu nhiệt độ dung dịch 55oC nhiệt độ cảmbiến 14oC 5,19 nm /% 0,0038% chodung dịch ethanol 30% 7.57 nm /% 0,0026% chodung dịch ethanol 45% trường hợp độ phân giải thiết bị đo 0,02 nm Giới hạn phát thấp so với nội dung an toàn methanol cho vodka theo tiêu chuẩn an toàn thực phẩm Việt Nam 3.3.3 Sử dụngcảmbiếnbuồngvicộnghưởngsilicxốp để phát dungmơihữucó xăng Cáccảmbiếnbuồngvicộnghưởng dựa silicxốp áp dụng để xác định dung dịch khác ethanol methanol xăng A92 thương mại Trong trường hợp hỗn hợp ethanol/A92, thay đổi bước sóng cộnghưởng 3,6 nm nồng độ ethanol thay đổi khoảng từ 5% đến 15% xăng Hình 3.19 Sự thay đổi bước sóng cộnghưởngcảmbiến với nồng độ hỗn hợp methanol ethanol khác A92 xăng thương mại Với độ nhạy cảmbiến mô tả trên, việc xác định tối thiểu thay đổi nồng độ ethanol xăng khoảng 0,4% Trong trường hợp methanol/A92, thay đổi bước sóng 7,2 nm nồng độ methanol thay đổi khoảng từ 5% đến 15% xăng Từ liệu thực nghiệm, chocảmbiến xây dựng phân biệt thay đổi khoảng 0,2% nồng độ methanol xăng KẾT LUẬN CỦA LUẬN VĂN Luận văn trình bày tổng quan đặc tínhcấu tạo, đặc trưng phổ độ nhạy cảmbiếnquang dựa buồngvicộnghưởng 1D làmsilicxốp Luận văn chứng minh phương pháp ma trận truyền phương pháp hữu ích đơn giản cho việc mơ buồngcộnghưởng Dựa vào phương pháp này, chúng tơi mơ đặc tínhquang học buồngcộnghưởng cách thay đổi thông số đầu vào chiết suất độ dày lớp, số chu kì, góc tới khoảng bước sóng nhằm phục vụ cho việc thiết kế chếtạobuồngvicộnghưởng để ứngdụnglàmcảmbiếnquang học Đã chếtạo thành côngbuồngvicộnghưởngcó vùng bước sóng hoạt động trải dài vùng nhìn thấy có độ phản xạ từ 50% đến 80% Phổ phản xạ từ mô thực nghiệm có phù hợp với chứng tỏ chất lượng buồngcộnghưởngchếtạoCác kết thực nghiệm cho thấy số chu kỳ buồngcộnghưởng tăng lên cường độ đỉnh phổ phản xạ tăng lên độ rộng nửa cực đại dải truyền qua giảm Các kết luận rút phù hợp với tính tốn mơ Với độ nhạy cao 6,9 nm /% phép đo nhiệt độ áp suất riêng phần, chúng tơi tính tốn nhận giới hạn phát (Limited of Detected) 0.014 Giá trị LOD tương ứng với thay đổi số khúc xạ 1,2*10-6 RIU chúng tơi áp dụng phương trình mơ tả phụ thuộc chiết suất vào nồng độ chất tan chodung dịch ethanol Bằng cách gia nhiệt dung dịch phân tích đồng thời làm mát buồngcảm biến, chúng tơi nâng cao lắng đọng mao mạch lỗ xốp cải thiện nhạy cảmCác dịch chuyển bước sóng tuyến tínhcảmbiến khoảng nồng độ thấp methanol chodung dịch 30% 45% ethanol cho thấy độ nhạy số vùng tập trung nhiệt độ định dung dịch buồngcảmbiến Ở nhiệt độ dung dịch 55oC nhiệt độ cảmbiến 14oC, độ nhạy 5.14 nm /% chodung dịch 30% ethanol 7.57 nm /% chodung dịch 45% ethanol Trong trường hợp độ phân giải thiết bị 0.02 nm, LOD tínhtừ độ nhạy thấp hơn nội dung an toàn methanol cho vodka theo tiêu chuẩn an toàn thực phẩm Việt Nam (100 g methanol cho lít cồn nguyên chất) Trong pha lỏng, tăng cường độ nhạy cảmbiến lên tới 200nm / RIU phát thay đổi chiết suất tối thiểu khoảng 10-3 Cảmbiến xây dựng xác định tối thiểu thay đổi nồng độ ethanol xăng khoảng 0,4% phân biệt thay đổi khoảng 0,2% nồng độ methanol xăng Theo hiểu biết chúng tôi, Cảmbiến phù hợp để phát nồng độ nhỏ methanol xăng, methanol cho gây thiệt hại chi tiết nhựa xe xe gắn máy Phương pháp sử dụngcảmbiếnquang dựa cấutrúcbuồngvicộnghưởngquangtửchiều đáp ứng yêu cầu: phát nhanh, an toàn, dễ chế tạo, giá thành rẻ, diện tích bề mặt hiệu dụng lớn có độ nhạy cao quan tâm tới phát triển đạt đến cách hữu hiệu CÁCCƠNG TRÌNH KHOA HỌC ĐÃ CÔNG BỐ Van Hoi Pham, Huy Bui, Thuy Van Nguyen, The Anh Nguyen, Thanh Son Pham, Van Dai Pham, Thi Cham Tran, Thu Trang Hoang and Quang Minh Ngo, “Progress in the research and development of photonic structure devices”, Adv Nat Sci.: Nanosci Nanotechnol (2016) 015003 (17pp) Thuy Van Nguyen, Van Dai Pham, Thi Cham Tran, The Anh Nguyen, Thuy Chi Do, Van Hoi Pham and Huy Bui “A vapor sensor based on nano-porous silicon microcavity for determination of fuel mixtures”, Proc Publishing House for Science and Technology (2016), ISBN 978604-913-088-5, 131-137 Nguyễn Thúy Vân, Phạm Văn Đại, Nguyễn Thế Anh, Phạm Thanh Bình, Đặng Quốc Trung, Trần Thị Châm, Đỗ Thùy Chi, Ngô Quang Minh, Phạm Văn Hội Bùi Huy “Phát dungmôi nồng độ thấp cảmbiến pha cócấutrúcbuồngvicộnghưởngsilic xốp”, Proc of Advances in applied and engineering physics IV, 2016, ISBN 978-604-913-232-2, pp.486-491 Nguyen Thuy Van, Nguyen The Anh, Pham Van Dai, Nguyen Hai Binh, Tran Dai Lam, Bui Huy and Pham Van Hoi “Optical sensors for pesticides determination in water using nano scale porous silicon microcavity”, Advances in Optical, Photonic, Spectroscopy &Applications VIII, ISSN 1859 – 4271 Van Hoi Pham, Thuy Van Nguyen, The Anh Nguyen, Van Dai Pham and Huy Bui “Nano porous silicon microcavity sensor for determination organic solvents and pesticide in water”, Adv Nat Sci.: Nanosci Nanotechnol 5(2014) 045003 (9pp) ...CHƯƠNG 1: TINH THỂ QUANG TỬ, CẤU TRÚC VÀ ĐẶC TÍNH QUANG HỌC CỦA BUỒNG VI CỘNG HƯỞNG 1D DỰA TRÊN CƠ SỞ SILIC XỐP 1.1 Tinh thể quang tử 1.1.1 Khái niệm tinh thể quang tử Tinh thể quang tử cấu trúc tuần... cộng hưởng, chiều dày lớp khơng gian, cấu trúc silic xốp, chức hóa bề mặt 1.4 Ứng dụng buồng vi cộng hưởng 1D dựa Silic xốp làm cảm biến xác định dung môi hữu Nguyên lý cảm biến buồng vi cộng hưởng. .. an toàn thực phẩm Vi t Nam 3.3.3 Sử dụng cảm biến buồng vi cộng hưởng silic xốp để phát dung mơi hữu có xăng Các cảm biến buồng vi cộng hưởng dựa silic xốp áp dụng để xác định dung dịch khác ethanol