1. Trang chủ
  2. » Tất cả

NGHIÊN cứu xác ĐỊNH TRẠNG THÁI mỏi của lớp TĂNG bền bề mặt TRONG QUÁ TRÌNH làm VIỆC BẰNG PHƯƠNG PHÁP NHIỄU xạ x QUANG

80 532 0
Tài liệu đã được kiểm tra trùng lặp

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Thông tin cơ bản

Định dạng
Số trang 80
Dung lượng 2,31 MB

Nội dung

M ωL ω TRAσG T A QUY T Đ σH GIAτ Đ TÀI XÁω σH σ ω A ωÁσ ψ H σG D σ δụ δ ωH KHτA H ω i δ I ωAε ĐτAσ iii δ I ω ε σ iv Tịε T T v ε ω δ ω vii DAσH SÁωH ωÁω ωH VI T T T .ix DAσH SÁωH ωÁω HỊσH xi DAσH SÁωH ωÁω ψ σG xiii ωh ng 1μ T NG QUAN QUAN .1 ε c tiêu đ tƠi .γ β Đ i t γ Ph ng vƠ ph m vi nghiên c u γ ng pháp nghiên c u .γ Tính m i c a đ tƠi η K t cấu c a lu n văn t t nghiệp .4 ωh ng 2μ ω S Lụ THUY T η β.1 ω s lỦ thuy t m i .η β.1.1 Hiện t ng m i c a kim lo i .η β.1.β σh ng y u t nh h ng đ n đ b n m i β.1.γ ω ch lan truy n v t n t m i 1β β.β ω s lỦ thuy t v m điện l p mƠng m ng ωrôm 1η β.β.1 ω s lỦ thuy t c a trình m điện .1η β.β.β ω s lỦ thuy t c a trình m ωrôm .ββ β.β.γ ωác ph ng pháp đo đ bám dính l p m βη β.γ σguyên lỦ nhiễu x tia X mƠng m ng .β7 vii β.γ.1 Tia X vƠ s phát sinh tia X β7 β.γ.β Hiện t β.γ.γ Ph ng c b n βλ ng trình ψragg γβ β.γ.4 Phơn tích phổ nhiễu x tia X γ4 ωh ng 3μ Đ XU T THI T K ωHI TI T M U VÀ T O MÀNG M NG ÔM TR ểN N N TH ÉP ω45 ψ NG PH ωR ωRÔ TRể THÉ ỄP M ĐI N .40 NG PH PHỄ γ.1 Đ xuất thi t k chi ti t m u cho thí nghiệm m i u n .40 γ.1.1 ω s t o m u thí nghiệm 40 γ.1.β ε u thí nghiệm ch t o thép ω4η .41 γ.β T o mƠng m ng ωrôm ph ng pháp m điện 4β γ.β.1 ωhu n b m u .4β γ.β.β Tính toán ch đ m ωrôm 4γ ωh ng 4μ TH THệệ NGHI M M I U N VÀ NHI U X TIA X 47 4.1 Thí nghiệm m i u n 47 4.1.1 εáy Thí nghiệm m i u n 47 4.1.β Tính toán l c P tác d ng lên m u thí nghiệm 48 4.1.γ Quy ho ch th c nghiệm .4λ 4.1.4 Thí nghiệm m i u n η4 4.1.η X lỦ m u sau t o m i u n ηθ 4.β σhiễu x tia X η7 4.β.1 Thi t b nhiễu x X' Pert Pro η7 4.β.β Tính toán góc nhiễu x η7 ωh ng 5μ K T QU VÀ TH O LU N θ8 η.1 K t qu θ8 η.β Th o lu n θ8 TÀI LI U THAM KH O 70 viii DANH SỄωH ωỄω ωH VI T T T λ ωhi u dƠi sóng c a tia X θ ,θ Góc ψragg có vƠ ng suất βθ Góc nhiễu x h, k , l ωác ch s εiller ( h, k , l ) εặt nhiễu x d ( h , k ,l ) Kho ng cách mặt m ng c a mặt nhiễu x (h,k,l) σ ng suất Ń|| ng suất d phẳng mƠng m ng ε ψi n d ng E ,ν εô-đun đƠn hồi Young vƠ hệ s Poisson K Hằng s p V trí đ nh c a m t đ ϕ Góc gi a pháp n c a m u th v i mặt phẳng c a tia t i vƠ tia nhiễu ng suất x ph ψ ,ψ ng pháp nhiễu x nghiêng m t bên Góc gi a pháp n c a mặt nhiễu x tia X t i v i pháp n c a m u ph η0 ng nhiễu x tia X ng pháp nhiễu x nghiêng Iso Góc gi a tia t i v i mặt phẳng pháp n c a m u vƠ ph suất c a kỹ thu t c đ nh η ph ng đo ng ng pháp nhiễu x nghiêng m t bên Góc gi a tia t i v i pháp n c a mặt phẳng nhiễu x c a kỹ thu t c đ nh ph ng pháp nhiễu x nghiêng m t bên α, β Góc gi a tia t i vƠ nhiễu x v i pháp n c a m u LPA Hệ s δorentz - Phơn c c - Hấp thu z, y S l µ Hệ s hấp thu n tính ng tia X có vƠ hiệu ch nh hệ s δPA ix I0 , I ω M,N Hệ s góc vƠ hệ s chặn c a đ li σgh ch đ o c a hệ s δPA a, b, c ωác thông s m ng tinh thể aijX,Y εa tr n chuyển đổi từ hệ t a đ tham chi u (X, Y = C, L, S) XSA Phơn tích ng suất tia X (X-ray stress analysis) ng đ tia X t i vƠ tia X nhiễu x ng thẳng biểu đồ Sinβ Hệ s hấp thu hệ s suy gi m chi u dƠi m Hệ s hấp thu kh i l ng ρ ε t đ kh i l ń1/e ωhi u sơu thấm 1/e {ci} Hệ t a đ tinh thể {si} Hệ t a đ m u ℑ HƠm giao thoa K0, K Vect c a chùm tia X t i vƠ chùm tia tán x Q Vect tán x ng N1,N2,N3 S ô đ n v c a tinh thể đ n R ψán kính giác k c V n t c ánh sáng chơn không B, β2θ ψ r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x x DANH SỄωH ωỄω HÌNH 2.1μ S tích lũy phá h y m i c a kim lo i .η Hình 2.1 Hình 2.2 2.2μ Đ ng cong m i Wöhler θ Hình 2.3 2.3μ Đ ng cong phá h y m i thép ω4η d ng ph ng trình Stussi 2.4μ σh ng n i có t p trung ng suất 11 Hình 2.4 Hình 2.5 2.5μ ωác pha đ ng cong m i Wöhler 1β Hình 2.6 2.6μ σh ng giai đo n lan truy n v t n t m i 1γ Hình 2.7 2.7μ S đồ hệ m điện 1θ Hình 2.8 2.8μ Kỹ thu t b trí anot để l p m đồng đ u 1λ Hình 2.λ 2.λμ Dùng mƠn che để phơn b l i dòng điện β0 Hình 2.10 2.10μ δ p m ωrôm c ng ββ 2.11μ δ p m ωrôm m ng đặc .βγ Hình 2.11 Hình 2.12 2.12μ Đo đ bám dính l p m theo ph ng pháp bẻ g p λ00 βθ Hình 2.13 2.13μ S đồ đo đ bám dính ph ng pháp tách c h c β7 2.14μ S đồ nguyên lỦ ng phát tia X β7 Hình 2.14 Hình 2.15 2.15μ Quá trình phát x tia X c a nguyên t (a)ν m c l ng s cấp (b)ν phổ phát x tia X c a anot (c) β8 Hình 2.16 2.16μ Đ ng hấp th tia X .βλ Hình 2.17 2.17μ Xơy d ng hình h c c a vect tán x γ0 2.18μ Ph Hình 2.18 ng trình ψragg từ ph Hình 2.1λ 2.1λμ Hiệu ch nh n n c a đ ng diện hình h c γβ ng nhiễu x .γ4 Hình 2.20 2.20μ Ph ng pháp n a b r ng .γθ Hình 2.21 2.21μ Ph ng pháp tr ng tơm γ7 Hình 2.22 2.22μ V ch nhiễu x b d ch chuyển vƠ m r ng ng suất .γ7 Hình 3.1 3.1μ εô hình máy t o m i đa 40 Hình 3.2 3.2μ S đồ nguyên lỦ t o m i u n 41 Hình 3.3 3.3μ S đồ chất t i lên m u đ ng kính quay tròn v i tần s , 1/s 41 Hình 3.4 3.4μ ψ n v kỹ thu t m u thí nghiệm .4β xi 3.5μ ε u thí nghiệm sau gia công ph Hình 3.5 ng pháp c t dơy 4γ 3.6μ ε u thí nghiệm sau m ωrôm 4η Hình 3.6 Hình 3.7 3.7μ Đo chi u dƠy l p m ph ng pháp ET 4θ Hình 4.1μ εáy thí nghiệm m i u n 47 Hình 4.2μ S đồ chất t i lên m u thí nghiệm 48 Hình 4.3μ εặt c t nguy hiểm t i phần lƠm việc c a m u .48 Hình 4.4μ ε u thí nghiệm sau t o m i u n η4 Hình 4.5μ εặt đ t gưy c a m u thí nghiệm sau m i u n ηη Hình 4.6μ Đ ng cong m i c a m u thí nghiệm theo d ng ph ng trình Stussi ηθ Hình 4.7μ Phần lƠm việc c a m u sau c t dơy (WEDε) ηθ xii DANH SỄωH ωỄω ψ NG 2.1μ S liệu σf c a m t s kim lo i θ ψ ng 2.1 ψ ng 2.2 2.2μ S liệu th c nghiệm kích th c h t nh h ng đ n đ b n m i λ ψ ng 2.3 2.3μ Giá tr t i h n Katb c a m t s v t liệu 1η 2.4μ Đ ψ ng 2.4 ng l ng điện hóa K c a kim lo i 18 ψ ng 2.5 2.5μ ψán kính h t tinh thể theo thang 1β .β0 ψ ng 2.6 2.6μ ωác dung d ch m ωrôm β4 ψ ng 2.7 2.7μ ωác v t liệu ch t o anot βλ ψ ng 2.88μ Hằng s m ng c a m t s kim lo i có cấu trúc l p ph vƠ l p ph ng tơm mặt (Fωω) ng tơm kh i (ψωω) .γβ ψ ng 2.λ 2.λμ Kho ng cách phẳng d gi a mặt tinh thể γγ 2.10μ Hệ s A c a ph ψ ng 2.10 ng pháp Ω vƠ γ4 ψ ng 2.11 2.11μ Hằng s Scherrer c a m t vƠi d ng tinh thể γ8 ψ ng 3.1 3.1μ ωác thƠnh phần nguyên t c a thép ω4η 4β ψ ng 3.2 3.2μ Dung d ch m vƠ ch đ m .44 ψ ng 3.3 3.3μ ωhi u dƠy l p m đo ph ng pháp ET 4η ψ ng 4.1 4.1μ Thông s kỹ thu t c a máy .47 ψ ng 4.2 4.2μ K t qu c a thí nghiệm m i u n η4 xiii ng ωh T NG QUAN Hiện t th i gian ng m i lƠ t ng ph c t p, x y ng suất thay đổi theo ng suất nƠy tồn t i v t liệu chi ti t máy có tr s nh h n gi i h n b n, th m chí nh h n gi i h n đƠn hồi c a v t liệu chi ti t máy Tuy nhiên l i gơy nh ng d ng h h ng trầm tr ng nhất, không ph c hồi đ c, gơy nh ng h u qu nguy hiểm vƠ tổn thất nghiêm tr ng v kinh t [1] Gi i h n m i c a m t chi ti t ph thu c vƠo nhi u nhơn t ph c t p, nh ng nhơn t nƠy h thấp gi i h n m i c a chi ti t Trong kỹ thu t ngoƠi việc ch n v t liệu ch t o có đ b n cao vƠ k t cấu nh , ng i ta tr ng tìm cách nơng cao gi i h n m i c a chi ti t biện pháp ch t o vƠ công nghệ ψên c nh biện pháp ch t o ng chất l i ta dùng nh ng biện pháp công nghệ nhằm nơng cao ng b mặt c a chi ti t ợ i v i chi ti t ch u u n xo n, ng suất mặt ngoƠi l n nhất, s phát sinh vƠ phát triển nh ng v t n t v m i th từ mặt ngoƠi, công nghệ x lỦ b mặt cƠng đ ng b t đầu c quan tơm có Ủ nghĩa quan tr ng vƠ quy t đ nh nhi u đ n tính chất c a v t liệu ε t nh ng gi i pháp lƠ t o m t l p b mặt có kh đáp ng u kiện lƠm việc nh ch u mƠi mòn, ch ng ăn mòn, ch u nhiệt ωó thể kể đ n ph mặt th ng pháp x lỦ b ng dùng nh nhiệt luyện, hoá nhiệt luyện, t o l p ph lên b mặt (ε , nhúng, phun ph …) ωông nghệ t o l p ph lên b mặt th c chất lƠ t o mƠng m ng (thin film) l p v t liệu r n có đ dƠy cỡ từ vƠi nm đ n cỡ 10 m [1θ] ph lên v t liệu n n nh kim lo i, th y tinh, g m s , polyme,…Hiện nay, mƠng m ng đ nhi u ngƠnh kỹ thu t cao vƠ đư phát triển thêm nhi u ph c áp d ng ng pháp t o mƠng m ng m i, nhiên, ph i tùy thu c vƠo m c đích nghiên c u, lo i v t liệu t o mƠng, u kiện v thi t b vƠ kh công nghệ để l a ch n ph phù h p ωác ph ng pháp t o mƠng m ng đ ng pháp c s d ng r ng rưi bao gồmμ Ph Ph Ph ng pháp v t lỦ ng pháp nhiệt ψ c bay chơn không ng pháp t o mƠng m ng Ph Epitaxy chùm phơn t δaser Ph Quá trình ion ng pháp phún x ωVD σhiệt Sol - Gel ψ c bay ph n ng ε ion Trong ngƠnh c khí, ph ωVD δaser ωVD Plasma ng pháp hóa h c ng pháp m điện đư vƠ đ nh ng tính vƠ ng d ng v c áp d ng r ng rưi t tr i c a Hai thu c tính quan tr ng c a l p m lƠ s bám dính vƠo b mặt kim lo i n n vƠ đ b n c a l p m Trong ngƠnh ô tô, l p m ph ωrôm lƠm tăng đ c ng b mặt, gi m ma sát, ch ng mƠi mòn cho chi ti t d ng tr c lƠ kim lo i c ng, giòn, có đ nóng ch y cao ψ mặt ωrôm đ c bao ph b i m t l p mƠng m ng ωrβτγ, nên có ánh b c vƠ kh ch ng trầy x c cao V i nh ng đặc tính v t tr i đó, th i gian qua đư có nhi u công trình nghiên c u v mƠng m ng ωrôm nh μ − Thí nghiệm vƠ kh o sát s h c v l p ωrôm c ng ch ng ăn mòn v i chi u dƠy từ vƠi m đ n vƠi trăm m [β0] ε c đích c a nghiên c u nƠy lƠ thƠnh l p m i quan hệ gi a m t đ dòng điện phơn, m t đ v t n t vƠ ng suất d kéoν lƠm rõ vai trò c a v t n t t vi ng suất d phát triểnν tìm ph ng pháp để c i thiện tính toƠn vẹn k t cấu c a l p m ωrôm c ng nh h − ng c a x lỦ nhiệt lên biên d ng xung c a dòng điện phơn, ng suất d c a l p m ωrôm [β1] σghiên c u nƠy quan tơm đ n s thay đổi c a ch đ xung, l c ađ − ng thay đổi ng suất d x lỦ nhiệt liên quan đ n giá tr n a b r ng ng nhiễu x tia X Đo ng suất th c trình m i [γ0] Kh o sát ng x c a ng suất d trình m i ph ng pháp nhiễu x tia X để lƠm rõ c h c phá h y m i vƠ d đoán s phá h y ban đầu Để phát v t n t ban đầu từ s thay đổi β c a ng suất d lƠ khó thay đổi không đáng kể trình m i Tuy nhiên, n u kiểm tra ng suất tia X v i l c tác d ng max trình m i t i m t v trí s tìm đ phóng b i v t n t m c v t n t ban đầu b i ng suất s dần đ ng suất th c xác đ nh đ c gi i c lƠ tổng c a ng suất d vƠ ng suất t i − Đồ th d – Sin2ψ c a mƠng m ng ωrôm [γ1] ψƠi báo nƠy trình bƠy k t qu nghiên c u v s thay đổi ng x c a ωrôm chuyển đổi từ pha n a ổn đ nh ậW, lƠ nguyên nhơn t o ng suất gi a v t liệu n n vƠ mƠng m ng đ n pha αậW Đ b n v t liệu lƠ m t vấn đ mƠ khoa h c kỹ thu t đ i quan tơm, nhi u ph ng pháp khác đ lo i Trong s đó, ph sai h ng m i c ng d ng để nghiên c u kh o sát đ b n kim ng pháp nhiễu x tia X đóng vai trò quan tr ng σó đánh giá giai đo n s m c a l p ωrôm tăng c ng b mặt trình lƠm việc Đơy lƠ m t việc lƠm m i, khó khăn, đòi h i kỹ thu t ph c t p, thi t b phơn tích đ i σhiễu x tia X mang l i nh ng hiểu bi t cần thi t v nh ng sai h ng m i nh h ng đ n đ b n vƠ tính khác c a mƠng m ng σó không ch đo ng suất mƠ tr thƠnh m t phần c a khoa h c v t liệu vƠ lƠ công c thi u công nghiệp vƠ kỹ thu t M c ti tiêêu đ tƠi S d ng ph ng pháp nhiễu x tia X để kh o sát tr ng thái m i c a mƠng m ng ωrôm n n thép ω4η Đ i t Đ it ng vƠ ph m vi nghi nghiêên cứu ng nghiên c u ch y u c a đ tƠi nƠy lƠ l p mƠng m ng ωrôm Ph m vi nghiên c u lƠ đánh giá s bi n đổi m ng tinh thể c a mƠng m ng ωrôm c ng n n thép ω4η ch u u n Ph − ng ph áp nghi phá nghiêên cứu D a vƠo lỦ thuy t mƠng m ng vƠ nghiên c u đư đ c công b t p chí khoa h c kỹ thu t qu c t − D a vƠo tƠi liệu có th gi i v lỦ thuy t nhiễu x tia X để tìm hiểu cách th c nhiễu x c a tia X v t liệu mƠng m ng ωrôm γ nh nhi u x th ứ1 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x 1 β β β h +k =l = = β4.0γ414θ dβ aβ Suy raμ = 4.λ0β4θγ d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = nh nhi u x th ứ2 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β 0 β β β h +k =l = = 48.0θ8βλ1 dβ aβ Suy raμ = θ.λγγ1γ0 d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ λ λ hβ + k β + l β = = 0.γ77 βd β aβ sin βθ = λ λ hβ + k β + l β = = 0.ηγ4 βd β aβ Suy raμ θ = ββ.18θ V y góc βθ = 44.γ70 Suy raμ θ = γβ.β7λ V y góc βθ = θ4.ηθ0 nh nhi u x th ứ3 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β 1 hβ + k β = l β = = 7β.10β4γ7 dβ aβ Suy raμ = 8.4λ1γ1η d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ Đỉ nh nhi u x th ứ4 Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β β hβ + k β = l β = = λθ.1γθη8β dβ aβ Suy raμ = λ.804λβθ d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = λ λ hβ + k β + l β = = 0.θη4 aβ βd β sin βθ = Suy raμ θ = 40.84λ V y góc βθ = 81.700 λ λ hβ + k β + l β = = 0.7ηη aβ βd β Suy raμ θ = 4λ.047 V y góc βθ = λ8.100 ηλ nh nhi u x th ứ5 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x γ β β β h +k =l = = 1β0.1707β8 dβ aβ Suy raμ = 10.λθββ41 d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = nh nhi u x th ứ6 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β β β β β β h +k =l = = 144.β0487γ dβ aβ Suy raμ = 1β.008ηγγ d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ λ λ hβ + k β + l β = = 0.844 aβ βd β sin βθ = Suy raμ θ = ηθ.θ07 V y góc βθ = 11η.ββ0 λ λ hβ + k β + l β = = 0.λβ4 aβ βd β Suy raμ θ = θ7.θθ7 V y góc βθ = 1γη.γ40 nh nhi u x th ứ7 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x γ β β β β h +k =l = = 1θ8.βγλ01λ dβ aβ Suy raμ = 1β.λ70θλ8 d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = λ λ hβ + k β + l β = = 0.λλλ βd β aβ Suy raμ θ = 87.η80 V y góc βθ = 17η.1θ0 θ0 − K t qu nhi u x μ nh phổ nhiễu x c a mƠng m ng ωrôm M u1 M u2 θ1 M u3 M u4 [ 14 02 θβ ] M u5 M u6 θγ M u7 M u nh p t i {211} Vị tr tríí đỉ đỉnh ψ r ng ψ 81.7θγ0 0.λ0θ0 ± 0.0λβ0 β 81.ληγ0 1.0λθ0 ± 0.0η80 γ 81.7λ10 1.β440 ± 0.0βλ0 8β.0100 1.40β0 ± 0.07η0 η 81.λ100 1.4γ10 ± 0.0γβ0 θ 81.77γ0 1.4870 ± 0.07θ0 81.78β0 1.ηγ70 ± 0.04β0 θ4 Tính sai s cho b r ng B [γβ]μ − � ψ r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x μ B= � KSλ + β K Dε tan θ DV cos θ (4.27) HƠm b r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x B = f ( yi ) c a n bi n s ng u nhiên yi (i = ÷ n) đ c xác đ nh ph ng trìnhμ β ⎛ ∂B ⎞ β ⎟⎟ σ yi σ = ∑ ⎜⎜ ⎝ ∂yi ⎠ β B n Đ i v i bi n ng u nhiên yi ta có ph (4.28) ng trình sau xác đ nh dung saiμ (4.2λ) σ yβi = yi Đ o hƠm theo bi n ng u nhiên c a hƠm B ta cóμ − K S λ sin θ + β K Dε β DV cos θ cos β θ ∂B = KSλ ∂yi + β K Dε tan θ DV cos θ (4.30) ⇒ Do dung sai c a hƠm lƠν β ⎛ ∂B ⎞ ⎟⎟ yi σ = ∑ ⎜⎜ ⎝ ∂yi ⎠ β B � n (4.31) Từ λη% tin c y c a hƠm f lƠμ ∆B = ±1.λθσ B (4.32) Thay thông s nh μ Hằng s Scherrer (KS), hệ s t lệ (KD), hệ s bi n d ng t vi (ł), b c sóng chùm tia X ( ), góc ψragg ( ) vƠo công th c từ (4.β8) đ n (4.γ1), kho ng tin c y đ c xác đ nh θη − − ψiểu đồ m i quan hệ ψ – σ c a mƠng m ng ωrômμ ψiểu đồ m i quan hệ ψ – N c a mƠng m ng ωrômμ θθ − ψiểu đồ m i quan hệ ψ – N c a mƠng m ng ωrôm vƠ n n thép ω4η (pha Feα)μ θ7 ωh ng K T QU VÀ TH O LU N 5.1 K t qu Th c nghiệm cho thấy b r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x (b r ng ψ) c a mƠng m ng ωrôm có xu h ng tăng (0.λ0θ0 ÷ 1.ηγ70) ng v i m c ng suất u n tăng dần khác (1η0σ/mmβ, 170σ/mmβ, β00σ/mmβ, βγ0σ/mmβ, βθ0σ/mmβ, β80σ/mmβ, γ00σ/mmβ) T ng t , b r ng ψ c a mƠng m ng ωrôm gi m s chu kỳ m i σ tăng Qua đó, d đoán đ c tuổi th c a chi ti t máy có l p mƠng m ng ωrôm tăng b n b mặt ωác điểm d liệu thí nghiệm không trùng v i đ nghiệm theo d ng ph ng cong m i c a m u thí ng trình Stussi lƠ doμ ψên c nh β y u t tác đ ng có y u t tác đ ng khác nh nhiệt đ môi tr ng, đ ổn đ nh c a hệ th ng công nghệ, đ xác gia công nh phổ nhiễu x c a m u thí nghiệm có β giá tr (bao gồm v trí đ nh p, c ng đ vƠ b r ng m t n a ψ) tách biệt t i m i đ nh vìμ εƠng m ng ωrôm vƠ n n thép ω4η có cấu trúc tinh thể l p ph ng tơm kh i (ψωω) nên v trí đ nh nhiễu x trùng vƠ che khuất l n (hiện t ng "Stacking") 5.2 Th o lu n Qua trình nghiên c u vƠ th c nghiệm, lu n văn đư hoƠn thƠnh m c tiêuμ − Từ mô hình máy thí nghiệm m i u n t i phòng thí nghiệm Reme, tr ng Đ i h c S ph m Kỹ thu t, đư đ xuất thi t k chi ti t m u cho thí nghiệm u n quay − T o mƠng m ng ωrôm n n thép ω4η ph ng pháp m ion − Xơy d ng biểu đồ quan hệ gi a b r ng ψ c a đ ng nhiễu x v i s chu kỳ m i σ c a m u thí nghiệm Trong trình nghiên c u tr ng thái m i c a l p ωrôm tăng b n b mặt vƠ từ ng d ng r ng rưi c a mƠng m ng, đ tƠi nƠy phát triển nghiên c u tr ng thái m i c a mƠng m ng đa l p v i nhi u v t liệu khác ph x tia X θ8 ng pháp nhiễu Do h n ch v th i gian, kinh t , trang thi t b ph c v cho nghiên c u nên tác gi có m t s đ xuất cho nghiên c u ti p theo nh sauμ Tăng s l − nh h − ng m u thí nghiệm lên nhi u lần để xem xét nhi u y u t ng đ n k t qu thí nghiệm m i u n Tích h p thi t b nhiễu x tia X máy thí nghiệm m i (n u đ đ nh k t qu nhiễu x th c m u ch u m i u n, h n ch đ c) để xác c m t s y u t tác đ ng gơy sai s c a k t qu thí nghiệm − T o mƠng m ng ωrôm ph lƠm c s so sánh s liệu th c nghiệm θλ ng pháp khác nh PVD, ωVD để TÀI LI U THAM KH O TI NG VI T [1] σgô Văn Quy t Cơ sở lý thuyết mỏi σXψ Giáo d c,β000 [β] Ph m σg c σguyên Giáo trình Kỹ thuật Phân tích Vật lý σXψ Khoa h c vƠ Kỹ thu t, β00θ [γ] ψ.σ.Arzamaxov Vật liệu học σXψ Giáo d c, β004 [4] Trần εinh HoƠng Sổ tay mạ điện σXψ ψách khoa HƠ σ i, β01γ [η] σguyễn Kh ng Những quy trình kỹ thuật mạ điện σXψ Khoa h c vƠ kỹ thu t, 1λλγ [θ] Phùng Rơn Quy hoạch thực nghiệm ứng dụng σXψ Khoa h c Kỹ Thu t, β00γ [7] Phan Văn Khôi Tuổi thọ mỏi kết cấu thép biển σXψ Khoa h c Kỹ Thu t HƠ σ i, 1λλ7 [8] Văn Qu c H u Xác định tỷ lệ pha thép không gỉ song pha Ferrit Austenite có độ bền cao nhiễu xạ X – quang δu n văn Th c sỹ ĐHSPKT Tp Hồ ωhí εinh, β011 [λ] σguyễn Vũ δong Nghiên cứu phát triển phần mềm phân tích vật liệu X ậ quang δu n văn Th c sỹ ĐHSPKT Tp Hồ ωhí εinh, β01γ [10] Đặng H u Tr ng Nghiên cứu, phát triển máy thí nghiệm mỏi cho chi tiết máy δu n văn Th c sỹ ĐHSPKT Tp Hồ ωhí εinh, β011 [11] Thơn Xuơn Tình Nghiên cứu chế tạo lớp mạ Crôm gia cường ống nano cacbon δu n văn Th c sỹ ĐH ωông σghệ Tp Hồ ωhí εinh, β011 [1β] Đặng H u Phúc Đồ án chế tạo màng khảo sát tính chất màng ZnO.Al phương pháp Sol – Gel Gi ng viên h [1γ] ng d nμ TS Trần Quang Trung σguyễn Tr ng Hiệp Chi tiết máy – Tập σXψ Giáo D c, β00θ 70 TI NG N [14] ÀI NGOÀ ω NGO δe ωhi ωuong Development of automated Xậray stress analyzer with its application in stress measurement of Texture materials Doctoral Thesis, σagaoka University of Technology, β004 [1η] δe ωhi ωuong Development of automated Xậray stress measurement with its application Academic, σagaoka University of Technology, 1λλλ [1θ] εario ψirkholz Thin film analysis by x-ray scattering Wiley ậ VωH Verlag GmbH & ωo KGaA, Weinheim β00θ [17] ψ.D.ωullity and S.R.Stock Elements of X–ray Diffraction, third edition University of σotre Dame, β004 [18] Viktor Hauk Structural and residual stress analysis by nondestructive method Elsevier, 1λλ7 [1λ] Ismail ω.σoyan and Jerome ψ.ωohen Residual stress ậ Measurement by diffraction and interpretation Springer ậ Verlag σew York Inc, 1λ87 [β0] Y.Kobayashi, J.σagasawa Affect of heat treatment on residual stress profile of pulse-plated crack-free Cr layer International ωentre for Diffraction Data, β00β [β1] Wulf Pfeiffer, ωhristof Koplin, E.Reisacher, J.Wenzel Residual stress and Strength of Hard Chromium Coating εaterial Science Forum Vol.θ81 pp 1γγ-1γ8, Trans Tech Publication Switzerland, β011 [ββ] ψal Seal Engineering Chrome Plating ậ A guide for Selecting the type of Chrome Plating for use in Contact with BAL SEAL in rotary and Reciprocating service Technical report TRậ14(Rev.F) [βγ] σikolaj Ganev and Ivo Kraus Engineering application of x-ray stress analysis Advances in x-ray analysis, vol.44 ậ International ωentre for Diffraction Data, β001 [β4] εasahide Gotoh Affect of the residual stress on the mechanical strength of the thin films Graduate school, Kanazawa University Japan, β00β 71 [βη] δ.S.Suominen Xậray study of residual stress in thin Chromium Metallization on glass substrates American Stress Technologies, Inc ậ International ωentre for Diffraction Data, 1λλ7 [βθ] Horonori σishihata, Shinậichi τhya and Yasuo Yoshioka Measurement of actual stresses during fatigue process εusashi Institute of Technology, Setagaya Tokyo 1η8, Japan [β7] I.ω.σoyan and ω.ω.Goldsmith Origins of oscillation in d vs Sin2ψ plots measured from tungsten thin films Iψε T.J Watson Research ωenter, Yorktown Hieghts, σY 10ηλ8 [β8] δe ωhi ωuong Computation on standard deviation and variation in phrasal quantitative determination using X-ray diffraction The university of technical and education of Hochiminh ωity, Vietnam 7β S K L 0 [...]... 0.ηγγλ Trong nghiên c u nhiễu x tia X th ng dùng b c x đ n s c, ng i ta dùng tấm l c lƠ m t kim lo i hấp th K vƠ cho b c x Kα đi qua Hình 2.16μ Đ 2.3.2 Hi n t ng h p th tia X [1θ] ng c b n Trong quá trình quang ion hóa, các electron đ nguyên t khi năng l ng vƠ đ ng l c gi i phóng kh i liên k t ng c a chùm tia b c x gơy x o tr n electron Quang ion hóa thu c v quá trình tán x đƠn hồi − Đ l n c a sóng tán x. .. thuy t của qu quá trìình m đi n ơn a Sự đi n ph phơ ε điện lƠ m t quá trình điện phơn, trong đó anot x y ra quá trình oxy hóa 1η (hòa tan kim lo i hay gi i phóng khí oxy) còn catot x y ra quá trình kh (kh ion kim lo i từ dung d ch thƠnh l p kim lo i bám trên v t m hay quá trình ph gi i phóng hydro) khi có dòng điện m t chi u đi qua dung d ch điện phơn Đi u kiện t o thƠnh l p m điện [η]μ − Trên anot x y...− Ph ng pháp quy ho ch th c nghiệm − Ph ng pháp đánh giá chất l − Ti n hƠnh thí nghiệm nhiễu x để thu th p s liệu th c nghiệm t i Trung tơm ng l p m h t nhơn ThƠnh Ph Hồ ωhí εinh sau đó d a vƠo lỦ thuy t v nhiễu x vƠ x lỦ s liệu nhiễu x để x c đ nh đ bi n d ng c a mƠng m ng ωrôm 4.T 4.Tíính m i của đ tƠi Thi t l p, x c đ nh m i liên hệ gi a b r ng ψ c a đ nh nhiễu x v i s chu kỳ m i u... chu kỳ ng suất tăng lên ψên trong m u vƠ trên b mặt m u ti p t c diễn ra quá trình (a), (b), (c) nh giai đo n I để hình thƠnh v t n t m i có chi u dƠi x c đ nh Giai đo n nƠy, s chu kỳ ng suất vƠo kho ng 1/100 tổng s chu kỳ tuổi th σ c a m u Hình 2.6μ Nh ng giai đo n lan truy n v t nứt m i [1] σ u ti p t c gi m ng suất S, bên trong m u ti p t c x y ra quá trình (a), (b), (c), còn trên b mặt m u đư hình... ch chuyển từ m c nƠo mƠ ta có năng l t ng tia X ng ngμ σ u điện t chuyển từ δ v K ta có b c x Kαν n u điện t chuyển từ ε v K ta có b c x K ν n u điện t chuyển từ ε v δ ta có b c x δ σgoƠi ra, m i l p nguyên t còn có các phơn l p nên v ch Kα có các v ch Kα1, Kαβ át x tia X của nguy á tr trìình ph phá nguyêên t (a); mức năng l Hình 2.15μ Qu Quá át x tia x của anot (c) [1θ] (b); ph ph phá β8 ng s c p... cho các b mặt bên ngoƠi c a các chi ti t máy ch u mƠi mòn cao Trên b mặt l p ωrôm có nhi u v t n t vƠ đ x p l n δ ng v t n t s tăng khi chi u dƠy l p m ωrôm tăng ôm cứng ωrô Hình 2.10μ L p m ωr ββ − δ p m ωrôm m ng đặcμ Th ng s d ng cho các b mặt vƠ đ ng kính trong c a các chi ti t δ p m có đặc điểm lƠ m ng vƠ rất đặc, b mặt nhẵn bóng không có r x p, ch ng ăn mòn, tuổi b n m i l n, đ c ng x p x 70HRω... IKμ S d ng IK nh s t o thu n l i cho quá trình hình thƠnh l p m có cấu t o tinh thể thô ωùng v i s tăng m t đ dòng, s l ng mầm tinh thể s tăng lên, nh v y cấu t o tinh thể l p m m n h t h n ε t đ dòng IK ch có thể tăng đ n m t gi i h n nhất đ nh, v � t quá gi i h n đó s lƠm r i lo n quá trình k t t a c a kim lo i S tăng m t đ dòng IK ch có thể ti n hƠnh đồng th i v i tăng nồng đ mu i kim lo i m m t cách... i điện gi i có mƠu tr ng b c, ánh xanh Tr ng l đ ng l ng riêng = θ.λ ÷ 7.1g/cmγ, nhiệt đ nóng ch y từ 17η0 ÷ 18000ω, ng điện hóa ϶ = 0.γβγg/Ah, điện th tiêu chu n ωr/ωrγ+ lƠ -0.74V ωr không b ăn mòn trong axit nitric vƠ axit sunfuric loưng nh ng ăn mòn nhanh trong axit clohydric Trong không khí, d i tác d ng c a các chất oxy hóa ωr b th đ ng vƠ t o thƠnh mƠng oxit trong su t rất kín lƠm cho ωr tr nên... dƠi lệch m ng trong tinh thểν Vμ Thể tích tinh thể 8 nh h − � ng của t ch ức t vi - Đ h tμ chứ Tổ ch c t vi do quá trình công nghệ luyện kim hay quá trình x lỦ nhiệt quy t đ nh σh ng quá trình nƠy t o ra cấu trúc h t khác nhau lƠm nh h ng l n đ n s c ch ng m i c a v t liệu, lƠm gi i h n m i gi m từ 1.7 ÷ β lần � Kích th theo ph c h t cũng nh h ng đ n đ b n m i, gi a chúng có m i liên hệ ng trình 1 (2.λ)... hẳn Trong môi tr ch u nh h ng ăn mòn, s c ch ng m i c a v t liệu s gi m rõ rệt V t liệu ng c a nồng đ môi tr ng, s chu kỳ chất t i, d ng ng suất 11 d nh h Hiện t tr ng của hi n t ng Fretting ng Fretting lƠ hiện t ng phá h y m i d ng ăn mòn vƠ s bƠo mòn c h c Hiện t i tác đ ng tr c ti p c a môi ng phá h y nƠy cùng lúc x y ra quá trình c h c vƠ quá trình lỦ ậ hóa Quá trình phá h y nƠy rất phổ bi n trong

Ngày đăng: 18/11/2020, 14:00

TỪ KHÓA LIÊN QUAN

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

w