Tia lửa điện phóng từ dụng cụ cực âm qua dung dịch điện môi sang phôi cực dơng.. Chỗ phóng điện hình thành "hố bom" Crater; • Dung dịch đợc bơm qua khe hở giữa dụng cụ và phôi, có 3 tác
Trang 13/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 1
C¸c ph¬ng ph¸p nhiÖt
(Thermal Processes)
GS TS §µo V¨n HiÖp Khoa Hµng kh«ng vò trô, Häc viÖn KTQS
1 C¾t b»ng tia löa ®iÖn (Electro-Discharge Machining)
2 C¾t d©y (Wire Electro-Discharge Machining)
3 C¾t b»ng tia laser (Laser Beam Machining)
4 C¾t b»ng tia ®iÖn tö (Electron Beam Machining)
5 C¾t b»ng plasma (Plasma Arc Machining)
Trang 21 Gia c«ng tia löa ®iÖn
(Electro-Discharge machining)
PGS TS §µo V¨n HiÖp Khoa Hµng kh«ng vò trô, Häc viÖn KTQS
Trang 33/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 3
1.1 EDM - Nguyên lý
• Nung chảy hoặc làm bay hơi vật liệu dẫn
điện (kim loại) do nhiệt năng của tia lửa điện
(8000-12000oC) Tia lửa điện phóng từ dụng
cụ (cực âm) qua dung dịch điện môi sang
phôi (cực dơng) Chỗ phóng điện hình thành
"hố bom" (Crater);
• Dung dịch đợc bơm qua khe hở giữa dụng
cụ và phôi, có 3 tác dụng:
– Khi điện áp thấp, cách điện Khi điện áp
đủ cao, bị ion hóa, cho tia lửa điện
phóng qua;
– Tải phế liệu khỏi vùng gia công;
– Tải nhiệt, làm nguội vùng gia công
• Hình dạng của phôi đợc chép từ hình dạng
dụng cụ nhng kích thớc lớn hơn (phải có
khe hở); Tiết diện phôi (và lỗ) có thể phức
tạp;
• Vật liệu phôi phải dẫn điện;
Trang 41.2 EDM - ThiÕt bÞ
C¸c bé phËn chÝnh
• T¹o xung tia löa ®iÖn;
• B¬m dung dÞch ®iÖn m«i;
• Di chôyÓn ®iÖn cùc;
• Phô trî: läc t¹p chÊt, ®iÒu khiÓn ¸p suÊt,
Trang 53/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 5
• Điện áp Vs: 80-100 V DC, xung khoảng 5kHZ Quá
trình nh sau:
– Đầu tiên tụ tích điện, chất điện môi cha dẫn điện nên
cha có dòng điện giữa 2 cực;
– Khi đạt đến điện áp nhất định, chất điện môi bị đánh
thủng (điện áp phóng Vb), dòng điên xuất hiện.
– Điện tử phóng từ cực âm sang cực dơng, trên đờng đi
va vào các phân tử chất điện môi (dầu, nớc), ion hóa
chúng Số lợng điện tử phóng sang cực dơng, ion
d-ơng sang cực âm tăng, dòng điện tăng lên;
– Động năng của các hạt biến thành nhiệt năng, nung
chảy hoặc làm bốc hơi vật liệu các điện cực.
– Ngay sau khi phóng, điện áp giảm nhanh, tia lửa bị
tắt,
– Quá trình tiếp diễn, khiến dòng điện có dạng xung.
• Bán kính tia lửa rất nhỏ (0,1-0,2mm) nhng năng
l-ợng tập trung rất cao, khiến vật liệu phôi bị nung
chảy hoặc bốc hơi, tạo thành hố (Crater);
• Số tia lửa phóng lớn, tần số cao (đến hàng nghìn
xung/giây), khiến quá trình cắt xảy ra nhanh
Vs - điện áp cung cấp; Vb - điện áp phóng; Vi - điện áp tức thời
Trang 6• Các thông số công nghệ quan trọng:
– Dòng điện phóng (I);
– Tần số phóng tia lửa điện (hàng trăm đến hàng ngàn lần trong 1 giây).
– Năng suất gia công phụ thuộc dòng điện và nhiệt độ móng chảy của vật liệu phôi:
MRR=4 10 4 ITw-1,23 (mm 3 /ph);
– Tốc độ tiêu hao vật liệu dụng cụ: Wt=11 10 3 ITt-2,38 (mm 3 /ph);
– Tỷ số tiêu hao phôi - dụng cụ: R=MRR/Wt dao động trong khoảng 1,0-100, tùy thuộc cặp đôi vật liệu.
Trang 73/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 7
1.3 EDM - §Æc ®iÓm c«ng nghÖ
Trang 81.3 EDM - Đặc điểm công nghệ
• Khả năng công nghệ:
– MRR trong khoảng 2-400mm3/ph Năng suất cao đi kèm với cấu trúc thô và cơ tính thấp;
– Độ chính xác kích thớc phụ thuộc vật liệu phôi: 0,005-0,125mm;
– Độ nhám bề mặt phụ thuộc mật độ dòng điện và vật liệu phôi: Ra=0,05-12,5mcông nghệ mới, dùng dụng cụ dao động cho độ bóng cao hơn
• Vật liệu dụng cụ thờng là graphit, đồng, đồng - volfram, bạc - volfram,
• Ưu đểm
– Lực cắt nhỏ, không gây biến dạng, phá hỏng chi tiết, dụng cụ và lực kẹp nhỏ;– Chính xác cao (có thể đạt 0,0001" hay 0,0025mm);
– Cho phép gia công bề mặt phức tạp;
– Mòn dụng cụ không ảnh hởng (luôn luôn đợc cấp và bù);
– Không khó khăn khi gia công vật liệu cứng;
– Dễ dàng cắt chi tiết rất dày, lỗ sâu, rãnh hẹp
• Nhợc điểm:
Tạo ra bề mặt cứng, cấu trúc thô; lớp dới bề mặt có thể bị mềm; lỗ bị côn
Trang 93/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 9
1.4 C¸c d¹ng gia c«ng EDM
Trang 101.4 VÝ dô øng dông
Trang 113/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 11
Trang 121.4 Khoan EDM lỗ nhỏ
Khoan lỗ sâu, đờng kính nhỏ
- Dụng cụ quay giống nh khoan thông thờng,
đồng thời đợc cấp xung điện áp tạo tia lửa điện;
- Dung dịch điện môi đợc bơm qua lõi dụng cụ,
ăn mòn phôi thành hàng triệu hốc nhỏ, tạo
thành lỗ;
- Kích thớc lỗ đợc điều khiển thông qua đờng
kính của dụng cụ Dụng cụ đợc thay bằng hệ
thống thay dao tự động, nh máy CNC Vị trí và
chiều sâu lỗ đợc điều khiển bằng hệ CNC;
- Khoan EDM có nhiều điểm tơng tự nh khoan
thông thờng, nhng kết hợp đợc các u điểm của
EDM: gia công vật liệu cứng, lỗ sâu, không có
ba via,
- Có thể khoan lỗ đờng kính nhỏ đến 0,02-mm,
sâu đến 500mm, độ chính xác 0,002
Trang 133/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 13
2 C¾t d©y tia löa ®iÖn
(Wire Electro-Discharge machining)
GS TS §µo V¨n HiÖp Khoa Hµng kh«ng vò trô, Häc viÖn KTQS
Trang 142.1 Nguyªn lý c¾t
Trang 153/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 15
• Điện cực dạng dây, chạy liên
tục Vùng gia công đợc tới hoặc
ngâm trong dung dịch điện môi
• Đờng kính dây khoảng
• Bàn máy mang chi tiết chuyển
động theo trục X, Y, tạo thành
khe cắt hẹp;
2.1 Nguyên lý cắt
Trang 162.1 Nguyªn lý ®iÒu khiÓn
Trang 173/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 17
2.2 S¶n phÈm cña WEDM
Trang 183 gia c«ng b»ng tia laser
(Laser Beam machining)
GS TS §µo V¨n HiÖp Khoa Hµng kh«ng vò trô, Häc viÖn KTQS
Trang 193/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 19
3.1 Nguyên lý
• Cấp năng lợng từ đèn Flash, điện tử nhảy từ mức năng lợng cơ bản lên mức năng lợng cao Khi nhảy về, phát ra các photon (laser);
• 2 gơng phản chiếu, khiến các photon chạy
đi chạy lại, kích hoạt thêm các điện tử khác;
• 1 gơng chỉ phản chiếu 1 phần, cho một số photon lọt qua, hội tụ vào vùng gia công.
Trang 20• Nhờ khả năng hội tụ cao của laser, quang
năng đợc tập trung rất cao, sinh nhiệt, làm
bốc hơi, ăn mòn vật liệu phôi;
• Lọai laser:
– Khí (CO2);
– Rắn: hồng ngọc tổng hợp, YAG (Ytri Nhôm
-Granat),
– Bán dẫn: Ge, Si, Ga,
• Luồng khí áp suất cao đợc dùng để tăng hiệu
quả cho quá trình: thổi nguội và các hạt xỉ
Trang 213/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 21
– Sinh vùng ảnh hởng nhiệt trên bề mặt: oxy hóa, ứng suất d, kết tinh lại,
– Không thuận lợi khi gia công các vật liệu dễ cháy: vải, giấy, cao su, chất
dẻo, (cần dùng khí trơ bảo vệ);
– Khả năng cắt trên tấm vật liệu dày thay đổi do khả năng hội tụ của tia laser
• ứng dụng
– Gia công các vật liệu cứng hoặc khó gia công;
– Gia công các lỗ, rãnh có tiết diện đặc biệt;
– Cắt đứt, pha, vạch dấu, đánh dấu vật liệu
3.2 Khả năng công nghệ và ứng dụng
Trang 224 gia c«ng b»ng tia ®iÖn tö
(Electron beam machining)
GS TS §µo V¨n HiÖp Khoa Hµng kh«ng vò trô, Häc viÖn KTQS
Trang 233/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 23
4.1 Nguyªn lý
Trang 24• Tia điện tử sinh ra nhờ hiệu điện áp giữa cathode và lới, hội tụ do lới có
dạng cầu lõm;
• Khi bay trong điện trờng giữa cathode và anode, các điện tử tăng tốc (tới
khoảng 3/4C) và qua van
• Qua thấu kính từ (Magnetic Len), tia hội tụ trên bề mặt phôi, năng lợng tập trung mật độ cao, đủ nung chảy và làm bốc hơi vật liệu
• Vùng gia công phải đặt trong chân không để tránh các điện tử khỏi bị cản
trở và va đập bởi các phân tử không khí (tia laser không cần vì kích thớc và khối lợng của các photon rất nhỏ so với điện tử);
4.1 Nguyên lý
Trang 253/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 25
• Cơ chế bóc vật liệu: nung chảy, bốc hơi;
• Cần môi trờng chân không;
• Dụng cụ cắt: tia điện tử vận tốc cao;
• Năng suất lớn nhất: MRR=10mm3/ph;
• Suất tiêu thụ năng lợng cao: 450W/mm3/ph;
• Các thông số công nghệ quan trọng: điện thế tăng tốc, đờng kính tia, tốc độ ăn dao, nhiệt độ nóng chảy;
• Vật liệu: gần nh mọi vật liệu (không sợ cháy nh laser vì cắt trong chân không);
• Dạng bề mặt gia công: lỗ sâu, đờng cong trên tấm phẳng, rãnh hẹp;
• Độ chính xác và chất lợng bề mặt gia công tốt hơn LBM.
• Thiết bị đắt tiền.
4.2 Đặc điểm công nghệ và ứng dụng
Trang 265 C¾t Plasma (Plasma arc machining)
GS TS §µo V¨n HiÖp Khoa Hµng kh«ng vò trô, Häc viÖn KTQS
Trang 273/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 27
5.1 Plasma
của vật chất: chất khí bị ion hóa, chứa các điện tử và các ion dơng chuyển động tự do.
• Chất khí để tạo plasma thờng là khí trơ: H2, N2, He,
• Để ion hóa (tách điện tử khỏi phân
tử khí), cần năng lợng: nhiệt, điện, quang (tia UV, laser) Nếu năng lợng không đủ, điện tử và ion trong
plasma kết hợp lại với nhau thành khí trơ.
• Dòng plasma có thể đợc tăng tốc, lái bằng điện trờng hoặc từ trờng
Nhờ đó có thể điều khiển Plasma theo ý muốn.
Trang 28• Plasma sinh ra dới dạng cột hồ quang giữa điện cực âm volfram trong đèn phát (torch) và cực dơng (chi tiết) Giữa đờng, cột hồ quang bị thắt lại, có nhiệt độ cực cao (15.000-20.000oC), gọi là hồ quang plasma - Plasma Arc Chất khí ion hóa (Primary Gas) là tác nhân tạo plasma.
• Một luồng khí (Secondary Gas) thổi vào chi tiết, làm nóng chảy vật liệu và thổi vật liệu lỏng khỏi vùng gia công Có thể chọc thủng tấm kim loại dày 150mm
Trang 293/31/2013 Đào Văn Hiệp, Học viện KTQS 29
– Dùng plasma không chỉ cắt mà có thể hàn, phủ kim loại;
– Chủ yếu dùng pha, cắt vật liệu tấm;
– Khoét lỗ, cắt các đờng cong;
– Có thể dùng đầu cắt cầm tay hoặc điều khiển CNC
5.2 đặc điểm và ứng dụng