Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống
1
/ 15 trang
THÔNG TIN TÀI LIỆU
Thông tin cơ bản
Định dạng
Số trang
15
Dung lượng
0,97 MB
Nội dung
Fabrication and study of the membrane
structure: nanoZnO films on transparent
conductive ZnO films doped In
Nguyen Thi KhanhVan
Hanoi University of Science, VNU; Faculty of Physics
Major: Solid state of physics; Code: 60 44 07
Supervisors: Prof. Dr. Ta Dinh Canh
Date of Presenting Thesis: 2011
Abstract. Tổng quan lý thuyết về pin mặt trời truyền thống và đặc biệt là về pin mặt
trời sử dụng chất màu. Giới thiệu về vật liệu bán dẫnZnOvà một số nghiên cứu đã có
về cấutrúc vùng năng lượng và tính chất quang. Trình bày các phương pháp kĩ thuật
được sử dụng để chếtạovàkhảosát tính chất, hình thái học, cấutrúc của màngnano
ZnO. Phân tích vàkhảosát các kết quả thu được từ các phép đo phổ nhiễu xạ tia X
(XRD), ảnh hiển vi điện tử truyền qua (SEM), phổ hấp thụ và truyền qua (UV-vis) và
phổ huỳnh quang. Từ đó rút ra khẳng định về việc chếtạo thành công màngnano
ZnO. Cuối cùng là phần kết luận và tài liệu tham khảo.
Keywords. Vật lý chất rắn; Màng nano; Màngdẫnđiện
Content
Trước mối lo ngại về tác hại từ việc sử dụng nhiên liệu hóa thạch và nguy cơ cạn kiệt
nguồn nhiên liệu này thì việc sử dụng nguồn nhiên sạch và an toàn là mục tiêu mà các nước
trên thế giới đang hướng tới. Một trong những nguồn năng lượng đó là năng lượng mặt trời.
Ưu điểm của nguồn năng lượng này là sạch, có sẵn trong thiên nhiên, không gây ô nhiễm và
không bị cạn kiệt. Có 2 cách chính sử dụng năng lượng mặt trời, một là sử dụng dưới dạng
nhiệt năng: lò hấp thụ mặt trời, nhà kính Hai là sử dụng thông qua sự chuyển hoá năng
lượng các photon thành điện năng nhờ hiệu ứng quang điện: Hệ thống pin mặt trời.
Việt Nam là một nước nhiệt đới có vị trí địa lý trải dài từ vĩ độ 23
0
23’ Bắc đến 8
0
27’
Bắc, nằm trong khu vực có cường độ bức xạ mặt trời tương đối cao. Điều này đã ưu ái cho
Việt Nam nguồn năng lượng mặt trời vô cùng lớn.
Pin mặt trời là phương pháp sản xuất điệntrực tiếp từ năng lượng mặt trời qua thiết bị
biến đổi quang điện. Các pin năng lượng mặt trời có nhiều ứng dụng. Chúng đặc biệt thích
hợp cho các vùng mà điện năng trongmạng lưới chưa vươn tới, các vệ tinh quay xung quanh
quỹ đạo trái đất, tàu vũ trụ, máy tính cầm tay, các máy điện thoại cầm tay từ xa Pin mặt trời
được dùng phổ biến hiện nay làm bằng bán dẫn Silic. Tuy đã có nhiều cải tiến nhằm tăng
hiệu suất, hạ giá thành nhưng xu hướng dùng pin mặt trời silic để sản xuất ra điện năng còn
quá tốn kém, không cạnh tranh được với các cách sản xuất điện năng phổ biến hiện nay.
Chính từ đó mà ý tưởng về việc chếtạo loại pin mặt trời giá thành rẻ, hiệu suất chuyển đổi
cao đã ra đời, đó là pin mặt trời sử dụng chất màu (Dye-Sensitized Solar Cell - DSSC). Hai
phần chính của nó là lớp màng kim loại oxit (ZnO hoặc TiO
2
) và chất nhạy màu. Tuy nhiên,
hiện nay hiệu suất chuyển đổi năng lượng của loại pin mặt trời này chưa cao (cỡ11%) và nó
lại phụ thuộc rất nhiều vào khả năng hấp thụ quang học của chất nhạy màu cũng như khả năng
truyền điện tử từ chất màu qua lớp bán dẫn đến điện cực.
Trong luận văn này chúng tôi tập trung chếtạovàkhảosát lớp màngZnOtrênmàng
dẫn điệntrongsuốtZnOphatạoIn nhằm nâng cao hiệu suất của pin mặt trời sử dụng chất
nhạy màu. Luận văn mang tên: “ Chếtạovàkhảosáttổhợpcấutrúc màng: màngnanoZnO
trên màngdẫnđiệntrongsuốtZnOphatạp In”.
Màng dẫntrongsuốtZnOphatạpIn đã được nhóm chúng tôi tổng hợp từ trước bằng
phương pháp phún xạ Magnetron. Sau khi đã có màngdẫntrongsuốt đó chúng tôi tiếp tục tạo
lớp màngnanoZnO ở trên lớp màngdẫntrongsuốt này bằng 2 phương pháp: hóa siêu âm và
thủy nhiệt. Đây là 2 phương pháp cho phép tổng hợp được vật liệu mà không đòi hỏi các thiết
bị quá phức tạp. Khóa luận gồm 3 chương:
Chương 1: Tổng quan
Tổng quan lý thuyết về pin mặt trời truyền thống và đặc biệt là về pin mặt trời sử dụng
chất màu. Giới thiệu về vật liệu bán dẫnZnOvà một số nghiên cứu đã có về cấutrúc vùng
năng lượng và tính chất quang của nó.
Chương 2: Thực nghiệm
Các phương pháp kĩ thuật được sử dụng để chếtạovàkhảosát tính chất, hình thái học,
cấu trúc của màngnano ZnO.
Chương 3: Kết quả và thảo luận
Phân tích vàkhảosát các kết quả thu được từ các phép đo phổ nhiễu xạ tia X (XRD), ảnh
hiển vi điện tử truyền qua (SEM), phổ hấp thụ và truyền qua (UV-vis) và phổ huỳnh quang.
Từ đó rút ra khẳng định về việc chếtạo thành công màngnano ZnO. Cuối cùng là phần kết
luận và tài liệu tham khảo.
Chƣơng 1
TỔNG QUAN VỀ PIN MẶT TRỜI VÀ VẬT LIỆU NANOZnO
***
1.1. Các loại pin mặt trời
Trong phần này chúng tôi trình bày về cấu tạo, nguyên tắc hoạt động, đặc điểm của hai loại
pin: pin mặt trời truyền thống và pin mặt trời sử dụng chất màu.
1.2. Vật liệu ZnO
Trong phần này chúng tôi trình bày về cấutrúc vật liệu sử dụng
1.2.1 Cấutrúcmạng tinh thể của ZnO
ZnO là chất bán dẫn thuộc nhóm A
II
B
VI
có nhiều tính chất nổi bật như: độ rộng vùng
cấm lớn (cỡ 3,37 eV ở nhiệt độ phòng), độ bền vững, nhiệt độ nóng chảy cao, chuyển mức
điện tử thẳng cho hiệu suất lượng tử phát quang cao, năng lượng liên kết exciton lớn (khoảng
60 meV). ZnO đã và đang được nghiên cứu một cách rộng rãi vì khả năng ứng dụng của nó.
Cấu trúc tinh thể của ZnO tồn tại dưới ba dạng: cấutrúc lục giác Wurtzite ở điều kiện
thường, cấutrúc lập phương giả kẽm ở nhiệt độ cao, cấutrúc lập phương đơn giản kiểu NaCl
xuất hiện ở áp suất cao. Trong luận văn này chúng tôi tập trung nghiên cứu cấutrúc lục giác
Wurtzite – kiểu cấutrúc bền ở nhiệt độ phòng và áp suất khí quyển.
1.2.2. Cấutrúc vùng năng lƣợng
1.2.2.1. Cấutrúc vùng năng lƣợng của mạng tinh thể dạng lục giác Wurtzite:
Các hợp chất A
II
B
VI
đều có vùng cấm thẳng . Độ rộng vùng cấm của các hợp chất
A
II
B
VI
giảm khi nguyên tử lượng tăng.
1.2.2.2. Cấutrúc vùng năng lƣợng của ZnO:
Tinh thể ZnO thường tồn tại ở dạng lục giác kiểu Wurtzite. Tinh thể ZnO có đặc điểm
chung của các hợp chất A
II
B
VI
là cấutrúc vùng cấm thẳng: cực đại tuyệt đối của vùng hóa trị
và cực tiểu tuyệt đối của vùng dẫn cùng nằm tại giá trị k = 0, tức là ở tâm vùng Brilouin.
1.2.3 Các tính chất quang của vật liệu bán dẫn:
1.2.3.1. Các đặc trƣng quang
a. Hệ số phản xạ R()
Hình 1.4. Cấutrúcmạng tinh thể lục giác kiểu wurtzite (a), mạng tinh thể lập phương
đơn giản kiểu NaCl (b), mạng lập phương giả kẽm (c) của ZnO
(a) (b) (c)
(a) (b) (c)
b. Hệ số truyền qua T()
c. Hệ số hấp thụ ()
1.2.3.2. Các cơ chế hấp thụ ánh sáng:
Tùy theo năng lượng của ánh sáng mà có thể xảy ra các quá trình hấp thụ sau: hấp thụ
riêng (hấp thụ cơ bản), hấp thụ exciton, hấp thụ bởi các hạt tải điện tự do, hấp thụ tạp chất,
hấp thụ phonon, hấp thụ plasma
1.2.3.3. Các quá trình tái hợp bức xạ
Các cơ chế tái hợp bức xạ:
+ Tái hợp của các điện tử tự do trong vùng dẫnvà lỗ trống tự do trong vùng hóa trị
(chuyển dời vùng - vùng, C-V).
+ Tái hợp exciton (exciton tự do, exciton liên kết, phân tử exciton, plasma điện tử-lỗ
trống (E-V)).
+ Tái hợp của các hạt tải điện tự do với các hạt tải điện định xứ trên các tâm tạp chất –
electron tự do trong vùng dẫn với lỗ trốngtrên acceptor hoặc electron trên donor với lỗ trống
tự do trong vùng hóa trị, (chuyển dời vùng - tạp chất, C-A, D-V, DD-V, C-DA).
+ Tái hợp giữa các electron trên donor và các lỗ trốngtrên acceptor (chuyển dời cặp
donor - acceptor, D-A).
+ Tái hợp bên trong các sai hỏng.
Chƣơng 2
PHƢƠNG PHÁP THỰC NGHIỆM
Trong phần này chúng tôi trình bày về các phương pháp kĩ thuật được sử dụng để chế
tạo vàkhảosát tính chất, hình thái học, cấutrúc của màngnanoZnO
2.1 ChếtạomàngdẫntrongsuốtZnOphatạp Indium bằng phƣơng pháp phún xạ
Magnetron
2.1.1 Phƣơng pháp phún xạ Magnetron
Cơ sở vật lý của các phương pháp phún xạ dựa trên hiện tượng va chạm của các hạt có
năng lượng cao (các ion khí trơ như Ar, Xe, He, ) với các nguyên tử vật liệu trên bia gốm, và
làm bật các nguyên tử (hoặc từng đám vài nguyên tử) của bia và chuyển động về phía đế mẫu.
2.1.2. Quy trình chếtạo mẫu:
. Màng mỏng ZnOphatạpIn được chếtạotrên đế thủy tinh bằng cách phún xạ trên một
bia ZnO:In có đường kính 7,5 cm trong một hệ phún xạ R.F. magnetron. Bia ZnO:In được chế
tạo bằng cách nung hỗn hợp bột ZnO (99,9%) và bột In
2
O
3
(99,9%) ở nhiệt độ cao. Hàm lượng
In
2
O
3
được đưa vào bia là 2% theo khối lượng. Bia được chúng tôi chếtạo như sau: Trộn đều
bột ZnO với lượng tạp chất đưa vào và dung dịch kết dính PVA (Polyvinyl Alcohol), tạo thành
một hỗn hợp có độ đồng nhất cao, sau đó bột được đưa vào khuôn ép hình trụ và ép với áp suất
1,2 tấn/cm
2
. Việc trộn hỗn hợp vật liệu ban đầu có tác dụng vừa làm cho hỗn hợp có độ đồng
nhất cao vừa giúp cho bia không bị nứt khi ép. Trong quá trình trộn và ép phải chú ý không làm
vật liệu bị nhiễm bẩn bởi các tạp không mong muốn. Bia sau khi ép được sấy sơ bộ ở 150
o
C
trong thời gian 2 giờ để nước bay hơi và bia có độ cứng nhất định. Sau đó, bia được đưa vào lò
nung thiêu kết ở nhiệt độ 1100 1300
o
C trong 4 giờ.
2.2. Phƣơng pháp chếtạomàngnanoZnOtrên lớp màngdẫntrongsuốt ZnO:In
2.2.1. Các dụng cụ và hóa chất sử dụng
a. Dụng cụ thí nghiệm
- Bể rung siêu âm
- Máy khuấy từ
- Tủ sấy
- Bình thủy nhiệt
- Cốc thủy tinh
b. Hóa chất sử dụng
- Kẽm axetat Zn(CH
3
COO)
2
.2H
2
O có độ sạch 99,9% và khối lượng phân tử là M
=219,5g
- Dung dịch amoni (NH
4
OH)
- Polyethylenglycol HO(C
2
H
4
O)
n
H có khối lượng phân tử là M = 20000g
- Dung môi nước cất hai lần
- Dung môi cồn
2.2.2 Phƣơng pháp hóa siêu âm chếtạomàngnanoZnOtrên lớp màngdẫntrongsuốt
ZnO:In
2.2.2.1. Phƣơng pháp hóa siêu âm
2.2.2.2 Quá trình chếtạomàng bằng phƣơng pháp hóa siêu âm
2.2.3. Phƣơng pháp thủy nhiệt chếtạomàngZnO
2.2.3.1. Phƣơng pháp thủy nhiệt
2.2.3.2. Quy trình chếtạomàng bằng phƣơng thủy nhiệt
a. Trƣờng hợp không có chất hoạt động bề mặt polyethylenglycol
b. Trƣờng hợp có chất hoạt động bề mặt polyethylenglycol
2.3. Các phƣơng pháp khảo sát
2.3.1. Kính hiển vi điện tử quét (SEM)
2.3.2. Phổ nhiễu xạ tia X (XRD)
2.3.3. Phổ hấp thụ và phổ truyền qua
2.3.4. Phổ huỳnh quang
Chƣơng 3
KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN
***
Trong chương này chúng tôi trình bày các kết quả thu được khi chếtạo mẫu
3.1. Tính chất màngdẫntrongsuốt ZnO:In chếtạo bằng phƣơng pháp phún xạ RF
magnetron
Màng ZnO:In có định hướng tốt theo trục c (trục vuông góc với đế). Ở các nhiệt độ đế
thấp, chúng ta có thể thấy có sự dịch đỉnh nhẹ về giá trị 34
o
. Điều này phản ánh rằng In đã
thay thế cho Zn trongmạng lục giác. Khi tăng nhiệt độ đế, cường độ đỉnh (002) tăng chứng
tỏ sự định hướng theo trục c của màngZnO càng rõ rệt.
Hình 3.1. Phổ nhiễu xạ tia X của màng ZnO:In chếtạo bằng phương
pháp phún xạ magnetron ở các nhiệt độ đế khác nhau. (a: 50
o
C; b:
100
o
C; c: 150
o
C; d: 200
o
C; e: 250
o
C; f: 300
o
C)
Kích thước hạt tinh thể của các màng lần lượt là 18, 22, 24, 25, 26, 28nm đối với 6
mẫu đã chế tạo, điều này cho thấy sự kết tinh của màng được cải thiện khi nhiệt độ đế tăng từ
50
o
C 300
0
C .
Ảnh SEM của màng được chếtạo ở nhiệt độ 150
o
C cho thấy màng có cấutrúc dạng hạt,
kích thước các hạt khá đồng đều, độ dày của màng là khoảng 1100 nm.
Các phép đo hiệu ứng Hall đã cho thấy màng ZnO:In là bán dẫn loại n với điện trở
suất trong khoảng từ 5,8.10
-3
4,5.10
-4
cm, nồng độ hạt tải khoảng 3,2.10
20
cm
-3
và độ linh
động Hall trong khoảng từ 6,02 15,13cm
2
/Vs khi nhiệt độ đế tăng từ 50 300
0
C. Tính chất
điện ở nhiệt độ phòng của màng ZnO:In phụ thuộc vào nhiệt độ đế.Điện trở suất của màng
thấp nhất khi nhiệt độ đế là 150
o
C, khi đó nồng độ hạt tải trong mẫu là lớn nhất. Sự thay đổi
của độ linh động Hall là tương đối nhỏ.
. Độ truyền qua trung bình của màngtrong vùng nhìn thấy (400-800nm) là trên 80% với
mọi nhiệt độ đế. Điều này có nghĩa là nhiệt độ đế không ảnh hưởng nhiều đến độ truyền qua
của màngtrong vùng nhìn thấy. Tuy nhiên, sự dịch bờ hấp thụ ở vùng bước sóng ngắn có liên
quan chặt chẽ tới nhiệt độ đế trong quá trình chếtạomàng ZnO:In. Bờ hấp thụ của màng được
lắng đọng ở 200
o
C bị dịch về phía năng lượng thấp so với bờ hấp thụ của màng được chếtạo
ở 150
o
C; sự thay đổi này phù hợp với qui luật dịch chuyển Burstein-Moss.
Các vân giao thoa xuất hiện trong phổ truyền qua chứng tỏ các màng ZnO:In được chế
tạo có độ phẳng rất cao, độ đồng đều tốt trên cả mẫu.
Độ rộng vùng cấm thu được là E
g
= 3,28; 3,37; 3,55; 3,45; 3,37 và 3,33 eV tương ứng
đối với các màng được lắng đọng trên đế ở nhiệt độ 50; 100; 150, 200, 250, và 300
o
C (Hình
3.4b).
Phổ huỳnh quang của màng ZnO:In đã được đo ở nhiệt độ phòng (Hình 3.5).
350 400 450 500 550 600 650
584 nm
556 nm
533 nm
511 nm
495 nm
474 nm
378 nm
C-êng ®é (®.v.t.®)
B-íc sãng (nm)
Hình 3.5. Phổ huỳnh quang của màng ZnO:In ở nhiệt độ phòng
Hai đỉnh huỳnh quang rõ nhất là một đỉnh hẹp ở ~ 378 và một dải rộng 474-584nm.
Tuy nhiên đỉnh huỳnh quang rộng ở vùng 474-584nm bao gồm 6 đỉnh nhỏ. Chúng tôi cho
rằng các đỉnh này có liên quan đến các sai hỏng như nút khuyết ôxy hay kẽm điền kẽ.
3.2. Tính chất màngnanoZnOtrên lớp màngdẫnđiệntrongsuốt ZnO:In chếtạo bằng
phƣơng pháp hóa học
Các cấutrúcnanoZnOtạo ra đều được chúng tôi cho hình thành trênmàngZnO định
hướng ban đầu. Đối với cả hai phương pháp, mẫu thu được là màngnanoZnOvà chúng tôi
cho rằng cơ chế hình thành cấutrúcnano thông qua các phản ứng hoá học sau :
Zn
2+
+ 4NH
3
→ Zn(NH
3
)
4
2+
(3.1)
Zn(NH
3
)
4
2+
+ 2OH
-
→ ZnO + 4NH
3
+ H
2
O (3.2)
Đầu tiên, tạo dung dịch muối kẽm với nồng độ 0,02M. Trong dung dịch này, các
cation Zn
2+
kết hợp với nhóm NH
3
để tạo phức Zn(NH
3
)
4
2+
. Sau khi quá trình tạo phức hình
thành, màngZnO định hướng ban đầu (có các tinh thể mọc theo phương vuông góc với đế)
được đưa vào dung dịch muối kẽm đã tạo phức. Khi có nhiệt độ phù hợp, các phức chất này
kết hợp với nhóm OH
-
trong dung dịch để tạo thành tinh thể ZnO phát triển trênmàngZnO
định hướng ban đầu. Kết quả là tạo thành các cấutrúcnano mọc theo phương thẳng đứng
vuông góc với đế.
Đầu tiên chúng tôi chếtạomàngnanoZnO bằng phương pháp hoá siêu âm (mẫu được
giữ ở dung dịch với nhịêt độ là 80
o
C). Trong phép phân tích cấutrúc này chúng tôi sử dụng 4
mẫu: Mẫu V
1
– đế thuỷ tinh không có màng ZnO:In, mẫu V
2
– đế thuỷ tinh có một lớp màng
ZnO:In, V
3
và V
4
– đế thuỷ tinh hai lớp màng (màng ZnO:In vàmàngZnO rung siêu âm trong
thời gian 5h và 8h).
Hình 3.7. Ảnh SEM của các mẫu khi thời gian rung siêu âm khác
nhau: (a) rung siêu âm trong 5h, (b) rung siêu âm trong 8h
20 40 60
V1
V2
V3
V4
30
50
70
(103)
(102)
(101)
(001)
(002)
Hình 3.6 là giản đồ nhiễu xạ tia X các mẫu nói trên. Trong trường hợp đế thủy tinh
không có lớp màng ZnO:In, thì quan sát phổ nhiễu xạ tia X không hề thấy xuất hiện các đỉnh
nhiễu xạ (mẫu V
1
). Màngdẫntrongsuốt ZnO:In có định hướng khá ưu tiên theo trục (002)
của cấutrúc lục giác wurzite (mẫu V
2
). Với các mẫu V
3
và V
4
ngoài đỉnh (002) còn tồn tại
đỉnh nhiễu xạ khá mạnh (103). Điều này chứng tỏ rằng, đã tồn tại màngnanoZnOtrênmàng
dẫn trongsuốt ZnO:In vàmàng này càng dày thêm khi thời gian tạomàng tăng thêm (cường
độ nhiễu xạ của đỉnh (103) chứng tỏ điều đó). Hằng số mạng có giá trị như sau: a = 0,324 nm,
và c = 0,520 nm.
Kết quả SEM cho thấy màngnano có cấutrúc dạng hạt, các hạt có dạng hình cầu. Với
mẫu khi rung siêu âm 5h (hình 3.7a) ta thấy mật độ hạt còn thưa, các hạt kết đám với nhau.
Khi tăng thời gian lên 8h (hình 3.7b) hình thái bề mặt màng đã thay đổi rõ rệt, các hạt vẫn có
dạng hình cầu, mật độ hạt tăng lên và không còn kết đám nữa.
Phổ truyền qua của màng đã được đo khi bước sóng thay đổi từ 300-900nm đối với
các mẫu. Từ hình 3.8 ta thấy độ truyền qua trung bình trong vùng khả kiến
Hình 3.6. Phổ nhiễu xạ tia X của các mẫu: V
1
- không có màng ;
V
2
- 1 lớp màng ZnO:In ; V
3
- 2 lớp màng: màng ZnO:In vàmàngnano
ZnO rung siêu âm 5h ; V
4
- 2 lớp màng rung siêu âm trong 8h
Cường độ (đ.v.t.y)
2 theta (độ)
a
b
của mẫu V
2
chỉ có một lớp màng ZnO:In và mẫu V
3
ngoài màng ZnO:In có thêm một lớp
màng ZnO (chế tạo bằng phương pháp hóa siêu âm với thời gian 5h) đạt trên 85 %. Còn với
mẫu V
4
(có màng ZnO:In vàmàngnanoZnO được chếtạo bằng phương pháp hóa siêu âm
với thời gian 8h) thì độ truyền qua trung bình trong vùng ánh sáng nhìn thấy có giảm xuống
nhưng vẫn đạt được trên 75%.
Hình 3.9 là phổ hấp thụ của các các mẫu V
2
, V
3
và V
4
. Quan sát phổ hấp thụ của các mẫu
ta thấy rằng cả ba mẫu đều hấp thụ mạnh ánh sáng trong vùng tử ngoại và có bờ hấp thụ lần
lượt là 374 nm, 383 nm và 357 nm. Bờ hấp thụ này liên quan đến chuyển mức vùng - vùng
trong bán dẫn.
Bước sóng (nm)
Hình 3.8. Phổ truyền qua của các mẫu trong vùng ánh sáng nhìn thấy
Độ truyền qua (%)
V2
V3
V4
300 400 500 600 700 800 900
0
20
40
60
80
100
Năng lượng (eV)
Hình 3.10. Đồ thị sự phụ thuộc của (αhυ)
2
vào năng lượng hυ của các mẫu:
V
2
;V
3
;V
4
(h
V2
V3
V4
3.0 3.5 4.0
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
Hình 3.9. Phổ hấp thụ của các mẫu: V
2
– màngdẫntrongsuốt ZnO:In; V
3
-
màng ZnO:In vàmàngnanoZnOtrong 5h; V
4
màng ZnO:In vàmàngnano
ZnO trong 8h chếtạo bằng phương pháp hóa siêu âm
Độ hấp thụ
Bước sóng (nm)
V2
V3
V4
300 400 500 600 700 800 900
0.0
0.2
0.4
0.6
0.8
1.0
1.2
1.4
1.6
1.8
2.0
2.2
Từ hình 3.10 ta tính được độ rộng vùng cấm E
g
với các mẫu lần lượt là 3,3 eV; 3,24
eV và 3,44 eV.
Phổ huỳnh quang của các mẫu được thể hiện trong hình 3.11 với bước sóng kích 325
nm.
Từ hình 3.11 ta thấy cả hai mẫu đều chỉ thấy xuất hiện đỉnh huỳnh quang trong vùng
khả kiến. Với mẫu V2 đỉnh huỳnh quang rộng ở vùng 458-592nm gồm 4 đỉnh nhỏ còn với
mẫu V4 chỉ có đỉnh huỳnh quang ở bước sóng khoảng 540 nm. Các đỉnh này được cho là có
liên quan đến các sai hỏng trongmạng tinh thể như nút khuyết oxy hay kẽm điền kẽ. Mà theo
lý thuyết thì với vật liệu nanoZnO phổ huỳnh quang thường xuất hiện hai đỉnh phát xạ khi
được kích thích bằng ánh sáng tử ngoại. Một là vùng bước sóng 380 nm (được gọi là vùng
huỳnh quang tử ngoại) do tái hợp cặp electron và lỗ trốngvà một đỉnh thứ hai ở vùng khả
kiến. Có thể giải thích điều đó như sau: do màng đã chếtạo chưa thực sự sạch và tính hợp
thức của màng chưa cao nên khi kích thích bước sóng trong vùng tử ngoại màngnano chủ yếu
phát đỉnh huỳnh quang trong vùng khả kiến.
Bước sóng (nm)
350 400 450 500 550 600 650 700 750
592
458458
540
497
V2
V4
458
Hình 3.11. Phổ huỳnh quang của hai mẫu V
2
và V
4
Cường độ (đ.v.t.đ)
[...]... ZnO: In, mu V6 mng dn trong sut ZnO: In , V7 trờn mng ZnO: In cú mng ZnO vi thi gian thy nhit l 8h, V8 trờn mng ZnO: In cú mng ZnO vi thi gian thy nhit l 16h Quan sỏt ph nhiu x tia X ta thy rng khi thy tinh khụng cú lp mng ZnO: In nh hng ban u thỡ khụng h thy xut hin cỏc nh nhiu x (mu V 5) Mng dn trong sut ZnO: In cú nh hng u tiờn rừ rng vi hng (002) Vi mu V7 khi cú mng ZnO: In ban u thỡ ta thy rng cng nh... ó cú lp mng nanoZnO trờn lp mng dn trong sut v mng ZnO: In ban u cú vai trũ lm mm lp mng nanoZnO mi lp li cu trỳc Vi mu V8 khi tng thi gian thy nhit thỡ thy rng cng nh nhiu x (002) rt mnh v c bit cng nh nhiu x (002) ó ln hn rt nhiu so vi trng hp ch cú mt lp mng dn trong sut, iu ny chng t rng ó thc s tn ti mng nanoZnO trờn thy tinh cú ph mng dn trong sut ZnO: In v mng u tiờn phỏt trin trờn theo... xut hin ca cỏc nh ny trong ph Raman cú th liờn quan n s thiu oxy trong cỏc mng nanoZnO KT LUN Lun vn ó thu c nhng kt qu chớnh nh sau: 1 ó ch to thnh cụng mng dn trong sut ZnO: In bng phng phỏp phỳn x RF magnetron cú truyn qua cao, bỏm dớnh tt v in tr sut thp 2 ó ch to thnh cụng mng nanoZnO trờn lp mng dn trong sut ZnO: In bng phng phỏp húa siờu õm v phng phỏp thy nhit Mng nanoZnO bỏm dớnh tt, cú... HQGHN Ting Anh 8 E Fortunato, A Pimentel, A Gogalves, A Marques, R Martins (2006), Hight mobility amorhous nanocrystallline Indium zincoxide deposited at room temperature, Thin Solid Films, 502, pp 140-190 9 Fanfei Bai, Ping He, Zhijie Jia, Xintang Huang, Yun He (2005), Size-controlled preparation of monodispersed ZnO nanorod, Materials letters, (59), pp 104-110 10 Fan Z, Lu J G (2005), Zinc oxide nano. .. cỏc mu: V5 - khụng cú mng;V6 mt lp mng ZnO: In; V7 - hai lp mng: mng ZnO: In v mng nanoZnO thy nhit trong 8h; V8 - hai lp mng thy nhit trong 16h Trong quỏ trỡnh ch to mu o, chỳng tụi nhn thy rng vi phng phỏp húa siờu õm ch ch to c mng cú cu trỳc dng ht Chớnh vỡ vy, chỳng tụi s dng thờm phng phỏp thy nhit (nhit nuụi nm trong khong t110-115 oC) ch to mng nanoZnO bng cỏch khụng cho hoc cho thờm cht... nanoZnO Cỏc kt qu thc nghim cho thy, hai yu t nh hng quan trng nht v quyt nh ti s nh hng v hỡnh thỏi ca mu l mng ZnO nh hng ban u v cht hot ng b mt PEG Cu trỳc ca cỏc mu c phõn tớch da trờn kt qu phộp o nhiu x tia X trong trng hp khụng cú cht hot ng b mt PEG c ch ra trờn hỡnh 3.12 Trong trng hp ny chỳng tụi s dng 4 mu o : mu V5 thu tinh khụng cú mng dn trong sut ZnO: In, mu V6 mng dn trong sut ZnO: In. .. processes in Semiconductors, New Lersey, USA 12 J Lu, Z Ye, L Wang, J Huang, B Zhao (2003), Structure, electrical and optical properties of N-doped ZnO thin films, materials Science in semiconductor procedding, Materials Science, (5), pp 491-496 13 Kwang Jik Lee (2005), Study of stability of ZnO nanoparticles ang growth mechanisms of colloidal and ZnO nanorods, Master of Science, pp 912- 918 14 K.Tominaga,... ht v dng thanh ph kớn b mt, b mt mng khỏ xp 4 ó kho sỏt cỏc mng nanoZnO bng ph tỏn x Raman, ph tỏn sc nng lng EDS, ph hunh quang, kt qu chng t mng ZnO tinh khit , khỏ hp thc 5 T hp mng nanoZnO cú truyn qua trong vựng ỏnh sỏng kh kin t trờn 75% (mu ch to bng phng phỏp húa siờu õm) v gn 80% (mu ch to bng phng phỏp thy nhit) References Ting Vit 1 V ỡnh C, Nguyn Xuõn Chỏnh (1998), Vt rn vụ nh hỡnh v... cho thy ng u, s tỏch cỏc ht rừ rng v ớt kt t thnh ỏm ca cỏc ht nanoZnO trờn l mng dn trong sut ZnO: In vi thi gian thu nhit l 8h (hỡnh 3.13a) v 16h (hỡnh 3.13b) a b Hỡnh 3.13 nh SEM ca cỏc mu t nhit 1100 C vi thi gian thy nhit khỏc nhau: (a) 8h, (b) 16h Trờn hỡnh 3.14 ch ra nh SEM ca cỏc mu mng nanoZnO c ch to bng phng phỏp thu nhit trong thi gian 3h nhit 110 oC vi lng PEG l 10mg (hỡnh 3.14a)... T.moriga, I Nakabayshi (1998), Properties of ZnO: In prepared by sputtering of facing ZnO: In and Zn targets, Sci Technol, 16, pp 1213-1217 15 Michael Gratel (2003), Dye- sensitized solar cell, Journal of photochemistry and Photobiology, (4), pp 145-153 16 Raghvendra S Yadav, Priya Mishra, A.C Pandey (2008), Growth mechanisms and optical property of ZnO nanoparticles synthesized by sonochemical method, . các mẫu: V
2
– màng dẫn trong suốt ZnO: In; V
3
-
màng ZnO: In và màng nano ZnO trong 5h; V
4
màng ZnO: In và màng nano
ZnO trong 8h chế tạo bằng phương. pin mặt trời sử dụng chất
nhạy màu. Luận văn mang tên: “ Chế tạo và khảo sát tổ hợp cấu trúc màng: màng nano ZnO
trên màng dẫn điện trong suốt ZnO pha