CHƯƠNG I : CƠ SỞ Lí THUYẾT
3.7. So sỏnh đối chứng kết quả mụ phỏng với thực nghiệm
3.7.2. Ảnh hưởng của phõn cực chựm tuyến tớnh và trũn tới sự phõn bố cường độ
3.7.2. Ảnh hưởng của phõn cực chựm tuyến tớnh và trũn tới sự phõn bố cường độ trong khu vực trọng tõm. trong khu vực trọng tõm.
Như đó thảo luận trong Chương 2, bằng cỏch sử dụng lý thuyết vector Debye, trong điều kiện lấy nột chặt chẽ (NA = 1.4), chỳng tụi đó dự đoỏn sự ảnh hưởng của sự phõn cực sự cố đối với sự hỡnh thành phõn bố trong khu vực trọng tõm. Tuy nhiờn, trong thực tế, đặc tớnh định lượng của điểm lấy nột, nằm trong thang đo tiểu micromet, là khỏ khú khăn. So với cỏc phương phỏp phức tạp đó đề cập trước đõy, bằng cỏch sử dụng cỏc hạt nano vàng tương đối nhỏ và vật kớnh cú khẩu độ số cao, trong đú cỏc tớnh chất vectơ của ỏnh sỏng là đỏng kể, chỳng tụi cú thể tỏi tạo lại sự phõn bố của điểm tập trung chặt chẽ từ chựm tia sự cố phõn cực.
Hỡnh 3.22. Quan sỏt thực nghiệm sự phụ thuộc của hỡnh dạng vựng hội tụ vào sự phõn cực của chựm sỏng. Phõn cực chựm đầu vào (hỡnh trũn màu xanh lỏ) của mỗi ảnh:
phõn cực tuyến tớnh tại 0◦ (a), ở 45◦ (b), ở 110◦ (c) và phõn cực trũn (d).
Trong phần này, chỳng tụi sẽ trỡnh bày trước tiờn phộp đo thực nghiệm của một điểm tập trung chặt chẽ từ ỏnh sỏng phõn cực tuyến tớnh và trũn. Trong phần thứ hai của phần này, chỳng tụi sẽ thảo luận về phõn bố toàn diện trong vựng tiờu cự thu được từ cỏc chựm tia tới phõn cực hướng và phương vị.
Hỡnh 3.23. Sơ đồ mụ phỏng của hệ khắc laser trực tiếp.
Thiết lập thử nghiệm đó được hiển thị trong Hỡnh 3.23. Việc kiểm soỏt phõn cực chựm kớch thớch được thực hiện bằng cỏch sử dụng cỏc tấm phõn cực (QWP, HWP2). Ban đầu, chựm tia laser được phõn cực tuyến tớnh dọc theo trục x. Hướng của nú (phõn
được minh họa trong Hỡnh 3.23. Để tạo ra sự phõn cực trũn, một tấm tấm phõn cực λ/4 (QWP) được đặt đằng sau HWP2. Tựy thuộc vào mục đớch của cụng việc, cú thể sử dụng một tấm HWP2 hoặc cả hai tấm HWP2 và QWP.
Thứ nhất, khi khụng cú tấm QWP, chỳng tụi đó quột dọc theo vựng hội tụ bằng một chựm phõn cực tuyến tớnh và đo hỡnh ảnh huỳnh quang của một hạt nano vàng đơn. Hỡnh 3.22 (a) cho thấy hỡnh dạng của vựng hội tụ được kộo dài theo cựng hướng với phõn cực chựm đầu vào (ở đõy dọc theo hướng x). Bằng cỏch thay đổi hướng phõn cực, chỳng tụi quan sỏt thấy rằng phõn bố bất đối xứng đó thay đổi cho phự hợp. Hỡnh 3.22 (b) và 3.22 (c) cho thấy cỏc hỡnh ảnh tỏn sắc của cựng một hạt nano vàng kớch thớch với sự phõn cực chựm tuyến tớnh ở 45º và ở 110º. Hỡnh dạng vựng hội tụ xỏc định rằng tớnh bất đối xứng của nú là do sự phõn cực của chựm đầu vào, điều này phự hợp với dự đoỏn lý thuyết được trỡnh bày trong phần trờn. Hơn nữa, bằng cỏch đưa tấm QWP với một hướng thớch hợp đối với hướng của sự phõn cực tuyến tớnh dẫn đến sự phõn cực trũn, chỳng tụi thu được hỡnh ảnh tỏn xạ với một hỡnh dạng đối xứng hoàn toàn, như thể hiện trong Hỡnh 3.22 (d). Kết quả này khẳng định cũng là dự đoỏn lý thuyết như thể hiện trong Hỡnh 3.8 (a).
Hỡnh 3.24. So sỏnh cỏc kết quả thử nghiệm (a, c) và lý thuyết (b, d) của điểm vựng hội tụ, dọc theo trục x2 (màu đỏ) và trục y2 (màu xanh) cho tuyến tớnh (a, b) và cỏc phõn
cực trũn (c, d). Cỏc đồ thị thực nghiệm được trớch ra từ cỏc hỡnh ảnh được vẽ trong cỏc Hỡnh 3.22(a) và 3.22(d). Cỏc đồ thị lý thuyết được rỳt ra từ Hỡnh 3.8(a) và
Để đỏnh giỏ định lượng hỡnh dạng và kớch thước của vựng hội tụ thu được với cỏc phõn cực tuyến tớnh và trũn, chỳng tụi trớch xuất cỏc dữ liệu từ Hỡnh. 3.22 cho hai trục trực giao, theo kớch cỡ tối thiểu và cực đại của điểm lấy nột. Hỡnh 3.24 cho thấy sự so sỏnh giữa kết quả lý thuyết và kết quả thực nghiệm. Trong trường hợp một chựm phõn cực tuyến tớnh theo trục quang x (Hỡnh 3.24(a)), bỏn rộng được tớnh toỏn một nửa (FWHM) của toàn bộ phõn bố cường độ dọc theo trục y (FWHM = 240 nm) chỉ là 70.5% dọc theo trục x (FWHM = 340 nm). Tỷ lệ này phự hợp với kết quả tớnh toỏn số (71.4%) thể hiện trong Hỡnh 3.24 (b). Trong trường hợp của một phõn cực trũn, vựng hội tụ là đối xứng và điểm cú cựng một hỡnh dạng dọc theo cả hai trục, như thể hiện trong Hỡnh 3.24 (c), cũng phự hợp với cỏc đường cong lý thuyết thể hiện trong Hỡnh 3.24 (d). Tuy nhiờn, so với lý thuyết, điểm đo tập trung thực nghiệm (FWHM = 280 nm) lớn hơn khoảng 40 nm cho cả trục và cho cả hai trường hợp phõn cực. Sự khỏc biệt này cú thể được giải thớch như sau: trong thực tế, chỳng tụi đó sử dụng một hạt nano vàng để khảo sỏt cú đường kớnh 50 nm (vỡ thế nú khụng được coi là một điểm lý tưởng). Tuy nhiờn, khụng cần thiết trong trường hợp của chỳng tụi, vỡ sự phụ thuộc phõn cực của điểm lấy nột được chứng minh rừ ràng.
KẾT LUẬN
Kết luận, trong luận văn này, chỳng tụi đó nghiờn cứu lý thuyết và tớnh toỏn mụ phỏng cỏc thụng số trường quang tại vựng hội tụ của vật kớnh cú khẩu độ số cao sử dụng trong hệ khắc laser trực tiếp ứng dụng cho chế tạo cấu trỳc vật liệu nano và đối chiếu cỏc kết quả tớnh toỏn mụ phỏng này với thực nhiệm. Từ đú, kiểm soỏt được cỏc thụng số trường quang đến sự ảnh hưởng vựng hội tụ của chựm tia khi qua vật kớnh cú khẩu độ số cao.
Đầu tiờn, dựa trờn lý thuyết vector Debye, chỳng tụi đó nghiờn cứu về mặt lý thuyết sự phõn bố và những thụng số trường quang của cỏc vựng hội tụ của cỏc vật kớnh cú khẩu độ số cao như khẩu độ số của vật kớnh, chiết suất mụi trường và sự phõn cực của chựm tia tới.Từ đú, chỳng tụi đưa ra phương phỏp tớnh toỏn số và mụ phỏng trường điện từ của vựng hội tụ dựa trờn cụng cụ matlab.
Thứ hai, chỳng tụi đưa ra cỏc kết quả mụ phỏng vựng hội tụ theo cỏc thụng số đó nghiờn cứu như khẩu độ số, chiết suất mụi trường, khoảng cỏch giữa 2 mụi trường của vựng hội tụ và sự phõn cực của chựm tia tới. Kết quả tớnh toỏn mụ phỏng cho thấy, khi ỏnh sỏng được hội tụ xuống kớch thước micromet thỡ kớch thước vựng hội tụ này phụ thuộc vào nhiều cỏc thụng số khỏc nhau.
Cuối cựng, chỳng tụi đó đối chiếu kết quả mụ phỏng với thực nghiệm. Từ những kết quả cho thấy, việc tớnh toỏn mụ phỏng cỏc thụng số trường quang tại vựng hội tụ cú ý nghĩa rất quan trọng, từ đo đưa ra được cỏc thụng số trường quang của vật kớnh cú khẩu độ số cao, ứng dụng chế tạo cỏc cấu trỳc quang tử 2 hay 3 chiều (2D, 3D) bằng phương phỏp hấp thụ 1 photon cực thấp (LOPA).
PHỤ LỤC A
1 %initialize Matlab environment
2 clear
3 close all
4 clc
5 tic;
6 set(0,'DefaultAxesFontName', 'Times New Roman')
7 set(0,'DefaultAxesFontSize', 11)
8 %set(0,'DefaultUnits','normalized');
9 set(0,'defaultuicontrolunits','normalized');
10 % % % % % % % % %program body % % % % % % % % % % % % %
11 % basic parameters
12 NA=1.49; % numerical aperture of objective lens
13 n=1.515; % refractive index of immersion medium
14 lambda=532e-9; % wavelength of light
15 alpha=asin(NA/n); % maximum open angle of OL
16 k=2*pi*n/lambda; % wavenumber
17 % image plane in Cartesian coordinates
18 L_focal=0.5*1e-6; % observation scale
19 Nx=50; % discretization of image plane
20 Ny=50; % discretization of image plane
21 x2=linspace(-L_focal,L_focal,Nx);
22 y2=linspace(-L_focal,L_focal,Ny);
23 [X2,Y2]=meshgrid(x2,y2);
24 Z2=0;
25 % polarization case
26 % '1': x-linear, '2':y -linear, '3': left circular
27 % '4': right circular, '5': elliptical, '6': radial, '7': azimuthal
28 polar=1;
29 polarSTR=num2str(polar);
30 %normalization and steps of integral
31 Ex2=0; % Ex-component in focal
32 Ey2=0; % Ey-component in focal
33 Ez2=0; % Ez-component in focal
34 N_theta=50; 35 N_phi=50; 36 delta_theta=alpha/N_theta; 37 delta_phi=2*pi/N_phi; 38 % starting loop 39 for theta=eps:delta_theta:alpha 40 for phi=eps:delta_phi:2*pi
43 a=1+(cos(theta)-1)*(cos(phi))^2; 44 b=(cos(theta)-1)*cos(phi)*sin(phi); 45 c=-sin(theta)*cos(phi); 46 d=1+(cos(theta)-1)*(sin(phi))^2; 47 e=-sin(theta)*sin(phi); 48 ff=cos(theta); 49 V=[a b c;b d e;-c -e ff];
50 %incident beam polarization cases
51 px=[1,0,1/sqrt(2),1i/sqrt(2),2/sqrt(5),cos(phi),-sin(phi)];
52 py=[0,1,1i/sqrt(2),1/sqrt(2),1i/sqrt(5),sin(phi),cos(phi)];
53 pz=0;
54 % selected incident beam polarization
55 P=[px(1,polar);py(1,polar);pz];
56 % polarization in focal region
57 PP=V*P;
58 % numerical calculation of field distribution in focal region
59 Ex2=Ex2+1i*sin(theta)*sqrt(cos(theta)).*PP(1,1).*exp(1i*k*(Z2*cos(theta)+sin(t heta).*(X2*cos(phi)+Y2*sin(phi))))*delta_theta*delta_phi; 60 Ey2=Ey2+1i*sin(theta)*sqrt(cos(theta)).*PP(2,1).*exp(1i*k*(Z2*cos(theta)+sin(t heta).*(X2*cos(phi)+Y2*sin(phi))))*delta_theta*delta_phi; 61 Ez2=Ez2+1i*sin(theta)*sqrt(cos(theta)).*PP(3,1).*exp(1i*k*(Z2*cos(theta)+sin(t heta).*(X2*cos(phi)+Y2*sin(phi))))*delta_theta*delta_phi; 62 end 63 end
64 % intensity of different components and total field
65 Ix2=conj(Ex2).*(Ex2); 66 Iy2=conj(Ey2).*(Ey2); 67 Iz2=conj(Ez2).*(Ez2); 68 I1=Ix2+Iy2+Iz2; 69 %find maxumum 70 MM1=max(max(I1)); 71 % plot data 72 figure (1) 73 hFig = figure(1);
74 set(gcf,'PaperPositionMode','auto')
75 set(hFig, 'Position', [300 300 300 300])
76 p=axes;
77 set(p,'Position',[0 0 1 1])
78 pcolor(X2*1e6,Y2*1e6,Ix2);
79 shading interp
80 title('PSF as a fuction of different polarization')
83 set(gca,'FontSize',12) 84 colormap(jet) 85 axis equal 86 axis tight 87 axis off 88 view(0,90); 89 hold off
90 % export figure & save data
91 dataname=['polar=',polarSTR];
92 PexportJpg(hFig,40,24,dataname);
93 saveas(h,[figurename1,'.fig']);
94 save([dataname,'.txt'], 'I1','-ascii');
95 toc % count execution time
96 load chirp% ringtone for program alert
97 sound(y,Fs)
TÀI LIỆU THAM KHẢO Tiếng Anh
[1] H. Hosono, Y. Mishima, et al., “Nanomaterials: from research to applications”, Elsevier (2006).
[2] C. Dupas, P. Houdy, et al., “Nanoscience”, Springer (2004).
[3] Dennis E. Buetow, John K. Stevens, et al., “Three-Dimensional Confocal Microscopy: Volume Investigation of Biological Specimens”, Academic Press (1994).
[4] Tony Wilson. Confocal microscopy. Academic Press: London, etc, 426:1–64, 1990.
[5] Stefan W Hell and Jan Wichmann. Breaking the diffraction resolution limit by stimulated emission: stimulated-emission-depletion fluorescence microscopy. Optics letters, 19(11):780–782, 1994.
[6] Suliana Manley, Jennifer M Gillette, George H Patterson, Hari Shroff, Harald F Hess, Eric Betzig, and Jennifer Lippincott-Schwartz. High-density mapping of single-molecule trajectories with photoactivated localization microscopy. Nature methods, 5(2):155–157, 2008.
[7] D. A. Parthenopoulos and P. M. Rentzepis. Three-dimensional optical storage memory. Science, 245(4920):843–845, 1989.
[8] Bo Huang, Mark Bates, and Xiaowei Zhuang. Super resolution fluorescence microscopy. Annual review of biochemistry, 78:993, 2009.
[9] Hong-Bo Sun, Makoto Maeda, Kenji Takada, James WM Chon, Min Gu, and Satoshi Kawata. Experimental investigation of single voxels for laser nanofabrication via two-photon photopolymerization. Applied physics letters, 83(5):819– 821, 2003.
[10] Vygantas Mizeikis, Kock Khuen Seet, Saulius Juodkazis, and Hiroaki Misawa. Three-dimensional woodpile photonic crystal templates for the infrared spectral range. Optics letters, 29(17):2061–2063, 2004.
[11] David G Grier. A revolution in optical manipulation. Nature, 424(6950):810– 816, 2003.
[12] [9] Kishan Dholakia and Peter Reece. Optical micromanipulation takes hold. Nano today, 1(1):18–27, 2006.
[13] [10] Peter J Shaw. Comparison of widefield/deconvolution and confocal microscopy for three-dimensional imaging. In Handbook of biological confocal
[14] M. Farsari and B. N. Chichkov. Materials processing: Two-photon fabrication. Nature Photonics, 3(8):450, 2009.
[15] DW Pohl, W Denk, and M Lanz. Optical stethoscopy: Image recording with resolution λ/20. Applied physics letters, 44(7):651–653, 1984.
[16] Rajesh Menon and Henry I Smith. Absorbance-modulation optical lithography. JOSA A, 23(9):2290–2294, 2006.
[17] V. Berger, O. Gauthier-Lafaye, et al., “Photonic band gaps and holography,” J. Appl. Phys. 82, 60-64 (1997).
[18] M. Campbell, D. N. Sharp, et al., “Fabrication of photonic crystals for the visible spectrum by holographic lithography”, Nature 404, 53-56 (2000).
[19] S. Wong, V. Kitaev, et al., “Colloidal crystal films: advances in universality and perfection”, J. Am. Chem. Soc. 125, 15589-15598 (2003).
[20] C. Rensch, S. Hell, et al., “Laser scanner for direct writing lithography,” Appl. Opt. 28, 3754–3758 (1989).
[21] H. B. Sun, S. Matsuo, et al., “Three-dimensional photonic crystal structures achieved with two-photon-absorption photopolymerization of resin”, Appl. Phys. Lett. 74, 786-788 (1999).
[22] B. H. Cumpston, S. P. Ananthavel, et al., “Two-photon polymerization initiators for three dimensional optical data storage and microfabrication,” Nature 398, 51– 54 (1999).
[23] S. Kawata, H.-B. Sun, et al., “Finer features for functional microdevices,” Nature 412, 697-698 (2001).
[24] M. Deubel, G. V. Freymann, et al., “Direct laser writing of three-dimensional photonic-crystal templates for telecommunications”, Nature Mater. 3, 444-447 (2004).
[25] M. Farsari and B. N. Chichkov, “Materials processing: two-photon fabrication,” Nat. Photonics 3, 450–452 (2009)
[26] C. Sibilia, T. M. Benson, et al., “Photonic crystals: physics and technology”, Springer (2008).
[27] Bruce W. Smith, Kazuaki Suzuki, “Microlithography: Science and Technology”, Second Edition, CRC Press (2007).
[28] Thi Thanh Ngan Nguyen, Quang Liem Nguyen, et al., “Optimization of thickness and uniformity of photonic structures fabricated by interference lithography”, Appl. Phys. A 111, 297-302 (2013).
[29] W. Denk, J. H. Strickler, et al., “Two-photon laser scanning fluorescence microscopy,” Science 248, 73–76 (1990).
[30] W. R. Zipfel, R. M. Williams, et al., “Nonlinear magic: multiphoton microscopy in the biosciences,” Nat. Biotechnol. 21, 1369–1377 (2003).
[31] http://kloe.fr/equipement/en/dilase-750 [32] http://www.nanoscribe.de/en/
[33] J. Fischer, G. von Freymann, et al., “The Materials Challenge in Diffraction- Unlimited Direct-Laser-Writing Optical Lithography”, Adv. Mater. 22, 3578 (2010)
[34] W. Haske, V. W. Chen, et al., “65 nm feature sizes using visible wavelength 3- D multiphoton lithography,” Opt. Express 15, 3426–3436 (2007).
[35] Benjamin Harke, Paolo Bianchini, et al., “Photopolymerization Inhibition Dynamics for Sub-Diffraction Direct Laser Writing Lithography”, ChemPhysChem 13, 1429-1434 (2012).
[36] Richard Wollhofen, Julia Katzmann, et al., 120 nm resolution and 55 nm structure size in STED-lithography, Opt. Express 21, 10831–10840 (2013). [37] Thomas A Klar, Richard Wollhofen, et al., “Sub-Abbe resolution: from STED
microscopy to STED lithography”, Phys. Scr. T162, 014049 (2014)
[38] Joachim Fischer, Jonathan B. Mueller, et al., “Exploring the Mechanisms in STED-Enhanced Direct Laser Writing”, Adv. Optical Mater. 3, 221–232 (2015).
[39] Q. Li, M. T. Do, et al., “A novel concept for three-dimensional optical addressing by ultralow one-photon absorption method”, Opt. Lett. 38, 4640– 4643 (2013).
[40] M.T. Do, T.T.N. Nguyen, et al., “Submicrometer 3D structures fabrication enabled by one-photon absorption direct laser writing”, Opt. Express 21, 20964-20973 (2013).
[41] M.T. Do, Q. Li, T.T.N. Nguyen, et al., “High aspect ratio sub-micrometer two- dimensional structures fabricated by one-photon absorption direct laser writing”, Microsystem Technologies 20, 2097–2102 (2014).
[42] D.T. T. Nguyen, Q. C. Tong, et al., “One-step fabrication of submicrostructures by low one-photon absorption direct laser writing technique with local thermal effect”, J. Appl. Phys. 119, 013101 (2016).
[43] M. T. Do, Q. Li, et al., “Optimization of LOPA-based direct laser writing technique for fabrication of submicrometric polymer two- and three-
dimensional structures”, Proc. SPIE, Photonic Crystal Materials and Devices XI, 9127, 912703 (2014).
[44] M. T. Do, D. T. T. Nguyen, et al., “Controlled coupling of a single nanoparticle in polymeric microstructure by low one-photon absorption-based direct laser writing technique”, Nanotechnology 26, 105301 (2015).
[45] D. T. T. Nguyen, T. H. Au, et al., “Coupling of a single active nanoparticle to a polymer-based photonic structure”, J. Science: Advanced Materials and Devices 1, 18-30 (2016).
[46] M. Galli, D. Gerace, et al., “Low-power continuous-wave generation of visible harmonics in silicon photonic crystal nanocavities”, Opt. Express 18, 26613 (2010).
[47] K. Rivoire, Z. Lin, et al., “Sum-frequency generation in doubly resonant GaP photonic crystal nanocavities”, Appl. Phys. Lett. 97, 043103 (2010).
[48] S. Noda, M. Fujita, et al., “Spontaneous-emission control by photonic crystals and nanocavities”, Nature Photon. 1, 449 (2007).
[49] M. Nomura, N. Kumagai, et al., “Laser oscillation in a strongly coupled single- quantum-dot–nanocavity system”, Nature Phys. 6, 279 (2010).
[50] M. Barth, S. Schietinger, S. Fischer, J. Becker, N. Nüsse, T. Aichele, B. Lochel, C. Sonnichsen, O. Benson, “Nanoassembled plasmonic-photonic hybrid cavity for tailored light-matter coupling”, Nano Lett. 10, 891-895 (2010).
[51] X. Wang, R. Morea, et al., “Coupling localized plasmonic and photonic modes tailors and boosts ultrafast light modulation by gold nanoparticles”, Nano Lett. 15, 2633-2639 (2015).
[52] X. Hu, P. Jiang, et al., “Picosecond and low-power all-optical switching based on an organic photonic-bandgap microcavity”, Nature Photon. 2, 185 (2008). [53] H.-Y. Liu, C.-T. Wang, et al., “Optically tuneable blue phase photonic band
gaps”, Appl. Phys. Lett. 96, 121103 (2010).
[54] Quang Cong Tong, Dam Thuy Trang Nguyen, et al., “Direct laser writing of polymeric nanostructures via optically induced local thermal effect”, Appl. Phys. Lett. 108, 183104 (2016).
[55] Fei Cheng, Jie Gao, et al., “Structural color printing based on plasmonic metasurfaces of perfect light absorption”, Scientifics Reports 5, 11045 (2015). [56] Xiaolong Zhu, Christoph Vannahme, et al., “Plasmonic colour laser printing”,
[57] Minh Thanh Do, Quang Cong Tong, et al., “Fabrication and Characterization of Large-Area Unpatterned and Patterned Plasmonic Gold Nanostructures”, Journal of Electronic Materials 45, 2347-2353 (2016).
[58] Minh Thanh Do, Quang Cong Tong, et al., “Nano-patterning of gold thin film by thermal annealing combined with laser interference techniques”, Appl. Phys. A 122, 360 (2016).
[59] Min Gu, Xiangping Li, et al., “Optical storage arrays: a perspective for future big data storage”, Light - Science and Applications 3, e177 (2014).
[60] I. Theodorakosa, F. Zacharatosa, et al., “Selective laser sintering of Ag nanoparticles ink for applications in flexible electronics”, Applied Surface Science 336, 157–162 (2015).
[61] Tianrui Zhai, Xinping Zhang, et al., “Random Laser Based on Waveguided Plasmonic Gain Channels”, Nano Lett. 11, 4295–4298 (2011).
[62] Le Van Hong, Do Tran Cat, et al. Plasmonic Effect in Au-Added TiO2-Based Solar Cell, J. Electronic Materials (2016) DOI: 10.1007/s11664-016-4755-3. [63] Hong-Bo Sun, Kenji Takada, et al., “Elastic force analysis of functional
polymer submicron oscillators”, Appl. Phys. Lett. 79, 3173-3175 (2001).
[64] Timo Gissibl, Simon Thiele, et al., “Two-photon direct laser writing of ultracompact multi-lens objectives”, Nature Photonics 10, 554-560 (2016). [65] J. Bauer, A. Schroer, et al., “Approaching theoretical strength in glassy carbon