B. Cân và ch ӍQKJyFSKXQ sӟP cӫDFiFSKҫQWӱEѫP
2.4.3.1. Vịi phun kín
Vịi phun kín chia thành: vịi phun kín tiêu chuҭQ Yịi phun kín cĩ chӕW WUên mNJLNim và vịi phun kín dùng van.
HiӋQQD\KҫXKӃWFiFÿӝQJFѫdLHVHOÿӅXGùng vịi phun kín.
Vịi phun kín tiêu chuҭQ ӣ Kình 2.23 gӗP KDL FKL WLӃW FKtQK [iF Oà thân vịi phun 17 và vịi phun 3, khe hӣ WURQJ SKҫQ GүQ KѭӟQJ FӫD KDL FKL WLӃW Qày khoҧQJ
2y3Pm. MһW cơn tӵDFӫDKim phun tǤOrQÿӃYDQWURQJWKkQvịi phun YjÿyQJNtQ ÿѭӡQJ WK{QJ WӟL FiF Oӛ SKXQ &iF Oӛ SKXQ Fĩ ÿѭӡQJ NtQK PP SKkQ Eӕ ÿӅX TXDQKFKXYLÿҫXYịi phun. ĈѭӡQJWkPFiFOӛSKXQYjÿѭӡQJWkPÿҫXYịi phun tҥR thành gĩc 750. Êcu trịng 4 dùng ÿӇEҳWFKһWÿҫXYịi phun lên thân.
Hình.2.23 .Vịi phun kín.
1. lӛSKXQPһWF{QWӵDFӫDYDQNLPYà 19. kim phun; 4. êcu trịng; YjÿѭӡQJGүQQKLên liӋXÿNJDÿҭ\ÿƭDOị xo; 8. lị xo ; 9. cӕFYtWÿLӅXFKӍQKEXO{QJEӛQӕLYӟLÿѭӡQJGүQQKLên liӋX
13. chөSOӑFOѭӟLWKkQYịi phun; 17.thân kim phun
Nguyên lý làm vi͏F
Nhiên liӋX FDR iS ÿѭӧF EѫP FDR iS ÿѭD TXD OѭӟL OӑF TXD FiF ÿѭӡQJ trong thân vịi phun tӟL NK{QJ JLDQEên trên mһWF{QWӵDFӫD kim phun. LӵFGRip suҩW QKLên liӋX FDR iS WҥR UD WiF GөQJ Oên diӋQ WtFK Kình vành khăQ FӫD NLP phun chӕQJOҥLOӵFpSFӫDOị xo. Khi lӵFFӫDiSVXҩWQKLên liӋXOӟQKѫQOӵFpSFӫDOị xo thì kim phun bӏ ÿҭ\ EұW Oên mӣ ÿѭӡQJ WK{QJ FKR QKLên liӋX WӟL Oӛ SKXQ ÈS VXҩW nhiên liӋu làm cho kim phun bҳWÿҫXEұWPӣÿѭӧFJӑLOà áp suҩWEҳWÿҫXSKXQQKLên liӋXSI.
ĈӕLvӟLvịi phun kín tiêu chuҭQSI = 15y 25MN/m2. Trong quá trình phun, áp suҩWQKLên liӋXFịn thӇWӟLy 80MN/m2, trong mӝWYjLWUѭӡQJKӧSFịn thӇFDRKѫQ nӳD
MuӕQ JLҧP EӟW QKLên liӋX UӍ TXD NKH Kӣ SKҫQ GүQ KѭӟQJ FӫD NLP SKXQ ÿ{L khi trên vịi phun cịn cịn rãnh hình vành khăQ+jQKWUình nâng vịi phun ÿѭӧF[iF
ÿӏQKEӣLNKHKӣJLӳDPһWWUên cӫDNLPYӟLPһWSKҷQJGѭӟLFӫDWKkQYịi phun. Khe hӣQj\WKѭӡQJYào khoҧQJy 0,5mm.