Cụng nghệ hàn hồ quang microplasma

Một phần của tài liệu Nghiên cứu công nghệ hàn microplasma trong chế tạo chi tiết máy thành mỏng bằng các vật liệu đặc biệt (Trang 27 - 29)

Hàn hồ quang plasma cho phộp hàn hầu hết kim loại được hàn bằng điện cực khụng núng chảy trong mụi trường khớ bảo vệ. Đú là cỏc loại thộp,

hợp kim đồng, niken, coban và titan. -Hệ thống lút đỏy

Khi hàn microplasma và hàn plasma ở chế độ dũng trung bỡnh, cú thể

sử dụng kỹ thuật lút đỏy bằng cỏc thanh lút đỏy dựng cho hàn hồ quang

bằng điện cực khụng núng chảy trong mụi trường khớ trơ. Khi dựng chế độ

hàn lỗ khúa, cần sử dụng thanh lút đỏy cú rónh, cú kết hợp hoặc khụng kết

hợp khớ bảo vệ từ phia bờn kia mối hàn. Vỡ dũng plasma thường xuyờn tới

10 mm qua mặt dưới của liờn kết, rónh này phải đủ sõu để trỏnh cản trở hồ

quang sẽ trở nờn mất ổn định và ảnh hưởng đến vũng hàn, gõy rỗ khớ.

-Trang bị bảo vệ

Vỡ hồ quang plasma cú cường độ rất cao, nờn trang bị bảo vệ mắt chủ

yếu là kớnh lọc. Thụng thường độ tối của kớnh tương đương như khi hàn hồ

quang bằng điện cực khụng núng chảy trong mụi trường khớ bảo vệ. Với

hàn microplasma, cú thể chọn độ tối của kớnh hàn cho phự hợp.

2.4.2.1. Cụng nghệ hàn hồ quang microplasma

Hàn microplasma là một dạng của hàn hồ quang plasma; nú cú ứng

dụng rộng rói và rất hiệu quả trong sản xuất cỏc sản phẩm bằng kim loại

cực mỏng với chiều dày tới khoảng phần mười mm. Về nguyờn tắc phương phỏp hàn microplasma khụng khỏc phương phỏp hàn hồ quang plasma. Sự

khỏc nhau của phương phỏp này là ở chỗ microplasma chỏy ở dũng thấp (0,1 A và cao hơn). Sự duy trỡ tớnh ổn định của hàn microplasma được thực

hiện nhờ cột hồ quang bị thắt cực nhỏ bởi đầu bộp đường kớnh nhỏ (dưới

1mm). Khớ trơ dựng cho hàn microplasma là Argon và Heli - khớ tạo

Nguồn điện hàn một chiều lấy từ cỏc chỉnh lưu tiờu chuẩn VDG-302 hoặc

cỏc chỉnh lưu chuyờn dựng như MPI-3, MPU-4, A-122 v.v.

Hàn hồ quang microplasma thường được dựng để hàn cỏc chi tiết cú

chiều dày 0,025ữ0,8 mm từ thộp cacbon, thộp khụng gỉ, đồng, inconel,

hasteloy, kovar, titan, molypden, vonfram, v.v. Hàn microplasma được ứng

dụng rộng rói trong ngành kỹ thuật điện tử và chế tạo khớ cụ để hàn cỏc màng và tấm mỏng. So với hàn hồ quang bằng điện cực khụng núng chảy trong mụi trường khớ bảo vệ, sự thay đổi chiều dài hồ quang khụng ảnh hưởng nhiều đến chất lượng mối hàn (cho phộp cú mức độ thay đổi chiều

dài hồ quang gấp 10 lần so với hàn hồ quang bằng điện cực khụng núng

chảy trong mụi trường khớ bảo vệ). Ngoài ra, đặc tớnh tĩnh V – A của hồ

quang plasma rất thuận lợi cho việc tự động húa quỏ trỡnh hàn. Gradient

điện thế lớn trong cột hồ quang (0,79ữ7,9 V/mm, tựy theo cường độ dũng

điện hàn và loại khớ) cho phộp đạt được sự thay đổi đỏng kể điện ỏp mà vẫn thay đổi rất ớt chiều dài hồ quang (đến 10 V khi thay đổi chiều dài hồ quang ±1,27 mm). Điều này đặc biệt quan trọng trong việc tự động giữ chiều dài hồ quang khi hàn cơ giới. Hơn nữa cũn cú thể thay đổi nhanh hướng hàn ở

tốc độ lớn (vớ dụ: 45oở tốc độ hàn 75 cm/min).

Một phần của tài liệu Nghiên cứu công nghệ hàn microplasma trong chế tạo chi tiết máy thành mỏng bằng các vật liệu đặc biệt (Trang 27 - 29)

Tải bản đầy đủ (PDF)

(84 trang)