1. Trang chủ
  2. » Giáo Dục - Đào Tạo

(Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang

79 11 0

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

THÔNG TIN TÀI LIỆU

BỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO TRƯỜNG ĐẠI HỌC SƯ PHẠM KỸ THUẬT THÀNH PHỐ HỒ CHÍ MINH LUẬN VĂN THẠC SĨ ĐẶNG THANH LINH NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH TRẠNG THÁI MỎI CỦA LỚP TĂNG BỀN BỀ MẶT TRONG QUÁ TRÌNH LÀM VIỆC BẰNG PHƯƠNG PHÁP NHIỄU XẠ X-QUANG NGÀNH: KỸ THUẬT CƠ KHÍ – 60520103 S K C0 Tp Hồ Chí Minh, tháng 10/2015 BỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO TRƯỜNG ĐẠI HỌC SƯ PHẠM KỸ THUẬT THÀNH PHỐ HỒ CHÍ MINH LUẬN VĂN THẠC SĨ ĐẶNG THANH LINH NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH TRẠNG THÁI MỎI CỦA LỚP TĂNG BỀN BỀ MẶT TRONG QUÁ TRÌNH LÀM VIỆC BẰNG PHƯƠNG PHÁP NHIỄU XẠ X-QUANG NGÀNH: KỸ THUẬT CƠ KHÍ – 60520103 Hướng dẫn khoa học: PGS.TS LÊ CHÍ CƯƠNG Tp Hồ Chí Minh, tháng 10 năm 2015 LỜI CAM ĐOAN Tôi cam đoan luận văn tốt nghiệp cơng trình tơi nghiên cứu thực Tôi không chép từ viết công bố mà khơng trích dẫn nguồn gốc Các số liệu, kết nêu luận văn trung thực chưa cơng bố cơng trình khác Tp Hồ Chí Minh, ngày 24 tháng 10 năm 2015 iii LỜI CẢM ƠN Luận văn tốt nghiệp “Nghiên cứu xác định trạng thái mỏi lớp tăng bền bề mặt trình làm việc phương pháp nhiễu xạ X – quang” hoàn thành sau hai năm học tập nghiên cứu Trường Đại học Sư phạm Kỹ thuật Tp.HCM Ngoài nỗ lực cố gắng thân, trình nghiên cứu thực tơi gặp khơng khó khăn Để đạt thành ngày hôm nay, may mắn nhận nhiều giúp đỡ, hỗ trợ tất người xung quanh Vì vậy, tơi xin gởi lời cảm ơn chân thành đến: � Thầy PGS.TS Lê Chí Cương thầy PGS.TS Đặng Thiện Ngơn tâm huyết, nhiệt tình hướng dẫn, góp ý động viên tơi suốt q trình học tập, nghiên cứu � Q thầy, Trường Đại học Sư phạm Kỹ thuật Tp.Hồ Chí Minh tận tình giảng dạy, truyền đạt kiến thức thời gian học tập trường � Công ty Giải pháp kiểm định Việt Nam (VISCO) � Trung tâm Hạt nhân Tp.Hồ Chí Minh � Các bạn lớp Kỹ thuật Cơ khí 2013 – 2015B � Gia đình, người thân ủng hộ tinh thần, vật chất tạo điều kiện cho hai năm học vừa qua Tp Hồ Chí Minh, tháng 10 năm 2015 iv MỤC LỤC TRANG TỰA QUYẾT ĐỊNH GIAO ĐỀ TÀI XÁC NHẬN CỦA CÁN BỘ HƯỚNG DẪN LÝ LỊCH KHOA HỌC i LỜI CAM ĐOAN iii LỜI CẢM ƠN iv TÓM TẮT v MỤC LỤC vii DANH SÁCH CÁC CHỮ VIẾT TẮT .ix DANH SÁCH CÁC HÌNH xi DANH SÁCH CÁC BẢNG xiii ươ ng 1: TỔNG QUAN Ch Chươ ương QUAN .1 Mục tiêu đề tài .3 Đối tượng phạm vi nghiên cứu 3 Phương pháp nghiên cứu .3 Tính đề tài Kết cấu luận văn tốt nghiệp .4 ươ ng 2: CƠ SỞ LÝ THUY ẾT Ch Chươ ương THUYẾ 2.1 Cơ sở lý thuyết mỏi .5 2.1.1 Hiện tượng mỏi kim loại .5 2.1.2 Những yếu tố ảnh hưởng đến độ bền mỏi 2.1.3 Cơ chế lan truyền vết nứt mỏi 12 2.2 Cơ sở lý thuyết mạ điện lớp màng mỏng Crôm 15 2.2.1 Cơ sở lý thuyết trình mạ điện .15 2.2.2 Cơ sở lý thuyết q trình mạ Crơm .22 2.2.3 Các phương pháp đo độ bám dính lớp mạ 25 2.3 Nguyên lý nhiễu xạ tia X màng mỏng .27 vii 2.3.1 Tia X phát sinh tia X 27 2.3.2 Hiện tượng 29 2.3.3 Phương trình Bragg 32 2.3.4 Phân tích phổ nhiễu xạ tia X 34 ươ ng 3: ĐỀ XU ẤT THI ẾT KẾ CHI TI ẾT MẪU VÀ TẠO MÀNG MỎNG Ch Chươ ương XUẤ THIẾ TIẾ ÔM TR ÊN NỀN TH ÉP C45 BẰNG PH ƯƠ NG PH ÁP MẠ ĐIỆN .40 CR CRÔ TRÊ THÉ PHƯƠ ƯƠNG PHÁ 3.1 Đề xuất thiết kế chi tiết mẫu cho thí nghiệm mỏi uốn .40 3.1.1 Cơ sở tạo mẫu thí nghiệm 40 3.1.2 Mẫu thí nghiệm chế tạo thép C45 .41 3.2 Tạo màng mỏng Crôm phương pháp mạ điện 42 3.2.1 Chuẩn bị mẫu .42 3.2.2 Tính tốn chế độ mạ Crơm 43 ươ ng 4: TH ỆM MỎI UỐN VÀ NHI ỄU XẠ TIA X 47 Ch Chươ ương THÍÍ NGHI NGHIỆ NHIỄ 4.1 Thí nghiệm mỏi uốn 47 4.1.1 Máy Thí nghiệm mỏi uốn 47 4.1.2 Tính tốn lực P tác dụng lên mẫu thí nghiệm 48 4.1.3 Quy hoạch thực nghiệm .49 4.1.4 Thí nghiệm mỏi uốn 54 4.1.5 Xử lý mẫu sau tạo mỏi uốn 56 4.2 Nhiễu xạ tia X 57 4.2.1 Thiết bị nhiễu xạ X' Pert Pro 57 4.2.2 Tính tốn góc nhiễu xạ .57 ươ ng 5: KẾT QU Ả VÀ TH ẢO LU ẬN 68 Ch Chươ ương QUẢ THẢ LUẬ 5.1 Kết 68 5.2 Thảo luận 68 ỆU THAM KH ẢO 70 TÀI LI LIỆ KHẢ viii ươ ng Ch Chươ ương TỔNG QUAN Hiện tượng mỏi tượng phức tạp, xảy ứng suất thay đổi theo thời gian Ứng suất tồn vật liệu chi tiết máy có trị số nhỏ giới hạn bền, chí cịn nhỏ giới hạn đàn hồi vật liệu chi tiết máy Tuy nhiên lại gây dạng hư hỏng trầm trọng nhất, không phục hồi được, gây hậu nguy hiểm tổn thất nghiêm trọng kinh tế [1] Giới hạn mỏi chi tiết phụ thuộc vào nhiều nhân tố phức tạp, nhân tố hạ thấp giới hạn mỏi chi tiết Trong kỹ thuật việc chọn vật liệu chế tạo có độ bền cao kết cấu nhỏ, người ta trọng tìm cách nâng cao giới hạn mỏi chi tiết biện pháp chế tạo công nghệ Bên cạnh biện pháp chế tạo người ta cịn dùng biện pháp cơng nghệ nhằm nâng cao chất lượng bề mặt chi tiết Ðối với chi tiết chịu uốn xoắn, ứng suất mặt lớn nhất, phát sinh phát triển vết nứt mỏi thường mặt ngồi, cơng nghệ xử lý bề mặt quan tâm có ý nghĩa quan trọng định nhiều đến tính chất vật liệu Một giải pháp tạo lớp bề mặt có khả đáp ứng điều kiện làm việc chịu mài mòn, chống ăn mịn, chịu nhiệt Có thể kể đến phương pháp xử lý bề mặt thường dùng nhiệt luyện, hoá nhiệt luyện, tạo lớp phủ lên bề mặt (Mạ, nhúng, phun phủ…) Công nghệ tạo lớp phủ lên bề mặt thực chất tạo màng mỏng (thin film) lớp vật liệu rắn có độ dày cỡ từ vài nm đến cỡ 10 μm [16] phủ lên vật liệu kim loại, thủy tinh, gốm sứ, polyme,…Hiện nay, màng mỏng áp dụng nhiều ngành kỹ thuật cao phát triển thêm nhiều phương pháp tạo màng mỏng mới, nhiên, cịn phải tùy thuộc vào mục đích nghiên cứu, loại vật liệu tạo màng, điều kiện thiết bị khả công nghệ để lựa chọn phương pháp phù hợp Các phương pháp tạo màng mỏng sử dụng rộng rãi bao gồm: Phương pháp tạo màng mỏng Phương pháp vật lý Phương pháp nhiệt Bốc bay chân không Laser Phương pháp phún xạ Epitaxy chùm phân tử Phương pháp hóa học Q trình ion Mạ ion CVD Plasma CVD Laser CVD Nhiệt Sol - Gel Bốc bay phản ứng Trong ngành khí, phương pháp mạ điện áp dụng rộng rãi tính ứng dụng vượt trội Hai thuộc tính quan trọng lớp mạ bám dính vào bề mặt kim loại độ bền lớp mạ Trong ngành ô tô, lớp mạ phủ Crôm làm tăng độ cứng bề mặt, giảm ma sát, chống mài mòn cho chi tiết dạng trục kim loại cứng, giịn, có độ nóng chảy cao Bề mặt Crơm bao phủ lớp màng mỏng Cr2O3, nên có ánh bạc khả chống trầy xước cao Với đặc tính vượt trội đó, thời gian qua có nhiều cơng trình nghiên cứu màng mỏng Crơm như: − Thí nghiệm khảo sát số học lớp Crơm cứng chống ăn mòn với chiều dày từ vài μm đến vài trăm μm [20] Mục đích nghiên cứu thành lập mối quan hệ mật độ dòng điện phân, mật độ vết nứt ứng suất dư kéo; làm rõ vai trò vết nứt tế vi ứng suất dư phát triển; tìm phương pháp để cải thiện tính tồn vẹn kết cấu lớp mạ Crôm cứng − Ảnh hưởng xử lý nhiệt lên biên dạng xung dòng điện phân, ứng suất dư lớp mạ Crôm [21] Nghiên cứu quan tâm đến thay đổi chế độ xung, lượng thay đổi ứng suất dư xử lý nhiệt liên quan đến giá trị nửa bề rộng đường nhiễu xạ tia X − Đo ứng suất thực trình mỏi [30] Khảo sát ứng xử ứng suất dư trình mỏi phương pháp nhiễu xạ tia X để làm rõ học phá hủy mỏi dự đoán phá hủy ban đầu Để phát vết nứt ban đầu từ thay đổi ứng suất dư khó thay đổi khơng đáng kể q trình mỏi Tuy nhiên, kiểm tra ứng suất tia X với lực tác dụng max trình mỏi vị trí tìm vết nứt ban đầu ứng suất dần giải phóng vết nứt mở Ứng suất thực xác định tổng ứng suất dư ứng suất tải − Đồ thị d – Sin2ψ màng mỏng Crơm [31] Bài báo trình bày kết nghiên cứu thay đổi ứng xử Crôm chuyển đổi từ pha nửa ổn định β–W, nguyên nhân tạo ứng suất vật liệu màng mỏng đơn pha α–W Độ bền vật liệu vấn đề mà khoa học kỹ thuật đại quan tâm, nhiều phương pháp khác ứng dụng để nghiên cứu khảo sát độ bền kim loại Trong số đó, phương pháp nhiễu xạ tia X đóng vai trị quan trọng Nó đánh giá sai hỏng mỏi giai đoạn sớm lớp Crôm tăng cường bề mặt trình làm việc Đây việc làm mới, khó khăn, địi hỏi kỹ thuật phức tạp, thiết bị phân tích đại Nhiễu xạ tia X mang lại hiểu biết cần thiết sai hỏng mỏi ảnh hưởng đến độ bền tính khác màng mỏng Nó khơng đo ứng suất mà trở thành phần khoa học vật liệu công cụ thiếu công nghiệp kỹ thuật Mục ti tiêêu đề tài Sử dụng phương pháp nhiễu xạ tia X để khảo sát trạng thái mỏi màng mỏng Crôm thép C45 ng ph Đố Đốii tượ ượng phạạm vi nghi nghiêên cứu Đối tượng nghiên cứu chủ yếu đề tài lớp màng mỏng Crôm Phạm vi nghiên cứu đánh giá biến đổi mạng tinh thể màng mỏng Crôm cứng thép C45 chịu uốn Phươ ng ph ương phááp nghi nghiêên cứu − Dựa vào lý thuyết màng mỏng nghiên cứu cơng bố tạp chí khoa học kỹ thuật quốc tế − Dựa vào tài liệu có giới lý thuyết nhiễu xạ tia X để tìm hiểu cách thức nhiễu xạ tia X vật liệu màng mỏng Crôm − Phương pháp quy hoạch thực nghiệm − Phương pháp đánh giá chất lượng lớp mạ − Tiến hành thí nghiệm nhiễu xạ để thu thập số liệu thực nghiệm Trung tâm hạt nhân Thành Phố Hồ Chí Minh sau dựa vào lý thuyết nhiễu xạ xử lý số liệu nhiễu xạ để xác định độ biến dạng màng mỏng Crơm 4.T 4.Tíính đề tài Thiết lập, xác định mối liên hệ bề rộng B đỉnh nhiễu xạ với số chu kỳ mỏi uốn Từ giúp ta hiểu biết ứng xử màng mỏng Crơm có nhìn đầy đủ, xác độ bền học, góp phần dự đốn tuổi thọ chi tiết máy, cơng trình, tránh cố, tai nạn Kết cấu lu luậận văn tốt nghi nghiệệp − Chương 1: Tổng quan lĩnh vực nghiên cứu − Chương 2: Cơ sở lý thuyết chung đề tài − Chương 3: Đề xuất thiết kế chi tiết mẫu tạo màng mỏng Crôm thép C45 phương pháp mạ điện − Chương 4: Thí nghiệm mỏi uốn nhiễu xạ tia X − Chương 5: Kết thảo luận nh nhi ứ1 Đỉ Đỉnh nhiễễu xạ th thứ Thông số mạng Cr: a = 0.288470 h k l Mặt nhiễu xạ 1 2 h +k =l = = 24.034146 d2 a2 Suy ra: = 4.902463 d Bước sóng: λCu = 0.154056 sin 2θ = nh nhi ứ2 Đỉ Đỉnh nhiễễu xạ th thứ Thông số mạng Cr: a = 0.288470 h k l Mặt nhiễu xạ 0 2 h +k =l = = 48.068291 d2 a2 Suy ra: = 6.933130 d Bước sóng: λCu = 0.154056 λ λ h2 + k + l = = 0.377 2d a2 sin 2θ = λ λ h2 + k + l = = 0.534 2d a2 Suy ra: θ = 22.186 Vậy góc 2θ = 44.370 Suy ra: θ = 32.279 Vậy góc 2θ = 64.560 nh nhi ứ3 Đỉ Đỉnh nhiễễu xạ th thứ Thông số mạng Cr: a = 0.288470 h k l Mặt nhiễu xạ 1 h2 + k = l = = 72.102437 d2 a2 Suy ra: = 8.491315 d Bước sóng: λCu = 0.154056 nh nhi ứ4 Đỉ Đỉnh nhiễễu xạ th thứ Thông số mạng Cr: a = 0.288470 h k l Mặt nhiễu xạ 2 h2 + k = l = = 96.136582 d2 a2 Suy ra: = 9.804926 d Bước sóng: λCu = 0.154056 sin 2θ = λ λ h2 + k + l = = 0.654 2d a2 sin 2θ = Suy ra: θ = 40.849 Vậy góc 2θ = 81.700 λ λ h2 + k + l = = 0.755 2d a2 Suy ra: θ = 49.047 Vậy góc 2θ = 98.100 59 nh nhi ứ5 Đỉ Đỉnh nhiễễu xạ th thứ Thông số mạng Cr: a = 0.288470 h k l Mặt nhiễu xạ 2 h +k =l = = 120.170728 d2 a2 Suy ra: = 10.962241 d Bước sóng: λCu = 0.154056 sin 2θ = nh nhi ứ6 Đỉ Đỉnh nhiễễu xạ th thứ Thông số mạng Cr: a = 0.288470 h k l Mặt nhiễu xạ 2 2 2 h +k =l = = 144.204873 d2 a2 Suy ra: = 12.008533 d Bước sóng: λCu = 0.154056 λ λ h2 + k + l = = 0.844 2d a2 sin 2θ = Suy ra: θ = 56.607 Vậy góc 2θ = 115.220 λ λ h2 + k + l = = 0.924 2d a2 Suy ra: θ = 67.667 Vậy góc 2θ = 135.340 nh nhi ứ7 Đỉ Đỉnh nhiễễu xạ th thứ Thông số mạng Cr: a = 0.288470 h k l Mặt nhiễu xạ 2 2 h +k =l = = 168.239019 d2 a2 Suy ra: = 12.970698 d Bước sóng: λCu = 0.154056 sin 2θ = λ λ h2 + k + l = = 0.999 2d a2 Suy ra: θ = 87.580 Vậy góc 2θ = 175.160 60 − Kết qu quảả nhi nhiễễu xạ: Ảnh phổ nhiễu xạ màng mỏng Crôm Mẫu Mẫu 61 Mẫu Mẫu [ 14 02 62 ] Mẫu Mẫu 63 Mẫu M ẫu nh p {211} Vị tr tríí đỉ đỉnh Bề rộng B 81.7630 0.9060 ± 0.0920 81.9530 1.0960 ± 0.0580 81.7910 1.2440 ± 0.0290 82.0100 1.4020 ± 0.0750 81.9100 1.4310 ± 0.0320 81.7730 1.4870 ± 0.0760 81.7820 1.5370 ± 0.0420 64 − Tính sai số cho bề rộng B [32]: � Bề rộng nửa đỉnh phổ nhiễu xạ: B= � KSλ + K Dε tan θ DV cos θ (4.27) Hàm bề rộng nửa đỉnh phổ nhiễu xạ B = f ( yi ) n biến số ngẫu nhiên yi (i = ÷ n) xác định phương trình: n ⎛ ∂B ⎞ ⎟⎟ σ yi σ = ∑ ⎜⎜ ⎝ ∂yi ⎠ B (4.28) Đối với biến ngẫu nhiên yi ta có phương trình sau xác định dung sai: σ y2i = yi (4.29) Đạo hàm theo biến ngẫu nhiên hàm B ta có: − K S λ sin θ + K Dε DV cos θ cos θ ∂B = KSλ ∂yi + K Dε tan θ DV cos θ (4.30) ⇒ Do dung sai hàm là; n ⎛ ∂B ⎞ ⎟⎟ yi σ = ∑ ⎜⎜ ⎝ ∂yi ⎠ B � (4.31) Từ 95% tin cậy hàm f là: ∆B = ±1.96σ B (4.32) Thay thông số như: Hằng số Scherrer (KS), hệ số tỉ lệ (KD), hệ số biến dạng tế vi (ε), bước sóng chùm tia X (λ), góc Bragg (θ) vào cơng thức từ (4.28) đến (4.31), khoảng tin cậy xác định 65 − − Biểu đồ mối quan hệ B – σ màng mỏng Crôm: Biểu đồ mối quan hệ B – N màng mỏng Crôm: 66 − Biểu đồ mối quan hệ B – N màng mỏng Crôm thép C45 (pha Feα): 67 ươ ng Ch Chươ ương Ả VÀ TH ẢO LU ẬN KẾT QU QUẢ THẢ LUẬ 5.1 Kết qu quảả Thực nghiệm cho thấy bề rộng nửa đỉnh phổ nhiễu xạ (bề rộng B) màng mỏng Crơm có xu hướng tăng (0.9060 ÷ 1.5370) ứng với mức ứng suất uốn tăng dần khác (150N/mm2, 170N/mm2, 200N/mm2, 230N/mm2, 260N/mm2, 280N/mm2, 300N/mm2) Tương tự, bề rộng B màng mỏng Crôm giảm số chu kỳ mỏi N tăng Qua đó, dự đốn tuổi thọ chi tiết máy có lớp màng mỏng Crơm tăng bền bề mặt Các điểm liệu thí nghiệm khơng trùng với đường cong mỏi mẫu thí nghiệm theo dạng phương trình Stussi do: Bên cạnh yếu tố tác động cịn có yếu tố tác động khác nhiệt độ môi trường, độ ổn định hệ thống cơng nghệ, độ xác gia cơng Ảnh phổ nhiễu xạ mẫu thí nghiệm có giá trị (bao gồm vị trí đỉnh p, cường độ bề rộng nửa B) tách biệt đỉnh vì: Màng mỏng Crơm thép C45 có cấu trúc tinh thể lập phương tâm khối (BCC) nên vị trí đỉnh nhiễu xạ trùng che khuất lẫn (hiện tượng "Stacking") 5.2 Th Thảảo lu luậận Qua trình nghiên cứu thực nghiệm, luận văn hoàn thành mục tiêu: − Từ mơ hình máy thí nghiệm mỏi uốn phịng thí nghiệm Reme, trường Đại học Sư phạm Kỹ thuật, đề xuất thiết kế chi tiết mẫu cho thí nghiệm uốn quay − Tạo màng mỏng Crôm thép C45 phương pháp mạ ion − Xây dựng biểu đồ quan hệ bề rộng B đường nhiễu xạ với số chu kỳ mỏi N mẫu thí nghiệm Trong q trình nghiên cứu trạng thái mỏi lớp Crôm tăng bền bề mặt từ ứng dụng rộng rãi màng mỏng, đề tài phát triển nghiên cứu trạng thái mỏi màng mỏng đa lớp với nhiều vật liệu khác phương pháp nhiễu xạ tia X 68 Do hạn chế thời gian, kinh tế, trang thiết bị phục vụ cho nghiên cứu nên tác giả có số đề xuất cho nghiên cứu sau: − Tăng số lượng mẫu thí nghiệm lên nhiều lần để xem xét nhiều yếu tố ảnh hưởng đến kết thí nghiệm mỏi uốn − Tích hợp thiết bị nhiễu xạ tia X máy thí nghiệm mỏi (nếu được) để xác định kết nhiễu xạ thực mẫu chịu mỏi uốn, hạn chế số yếu tố tác động gây sai số kết thí nghiệm − Tạo màng mỏng Crơm phương pháp khác PVD, CVD để làm sở so sánh số liệu thực nghiệm 69 ỆU THAM KH ẢO TÀI LI LIỆ KHẢ ẾNG VI ỆT TI TIẾ VIỆ [1] Ngô Văn Quyết Cơ sở lý thuyết mỏi NXB Giáo dục,2000 [2] Phạm Ngọc Nguyên Giáo trình Kỹ thuật Phân tích Vật lý NXB Khoa học Kỹ thuật, 2006 [3] B.N.Arzamaxov Vật liệu học NXB Giáo dục, 2004 [4] Trần Minh Hoàng Sổ tay mạ điện NXB Bách khoa Hà Nội, 2013 [5] Nguyễn Khương Những quy trình kỹ thuật mạ điện NXB Khoa học kỹ thuật, 1993 [6] Phùng Rân Quy hoạch thực nghiệm ứng dụng NXB Khoa học Kỹ Thuật, 2003 [7] Phan Văn Khơi Tuổi thọ mỏi kết cấu thép ngồi biển NXB Khoa học Kỹ Thuật Hà Nội, 1997 [8] Văn Quốc Hữu Xác định tỷ lệ pha thép khơng gỉ song pha Ferrit Austenite có độ bền cao nhiễu xạ X – quang Luận văn Thạc sỹ ĐHSPKT Tp Hồ Chí Minh, 2011 [9] Nguyễn Vũ Long Nghiên cứu phát triển phần mềm phân tích vật liệu X – quang Luận văn Thạc sỹ ĐHSPKT Tp Hồ Chí Minh, 2013 [10] Đặng Hữu Trọng Nghiên cứu, phát triển máy thí nghiệm mỏi cho chi tiết máy Luận văn Thạc sỹ ĐHSPKT Tp Hồ Chí Minh, 2011 [11] Thân Xn Tình Nghiên cứu chế tạo lớp mạ Crôm gia cường ống nano cacbon Luận văn Thạc sỹ ĐH Cơng Nghệ Tp Hồ Chí Minh, 2011 [12] Đặng Hữu Phúc Đồ án chế tạo màng khảo sát tính chất màng ZnO.Al phương pháp Sol – Gel Giảng viên hướng dẫn: TS Trần Quang Trung [13] Nguyễn Trọng Hiệp Chi tiết máy – Tập NXB Giáo Dục, 2006 70 ẾNG NƯỚ C NGO ÀI TI TIẾ ƯỚC NGOÀ [14] Le Chi Cuong Development of automated X–ray stress analyzer with its application in stress measurement of Texture materials Doctoral Thesis, Nagaoka University of Technology, 2004 [15] Le Chi Cuong Development of automated X–ray stress measurement with its application Academic, Nagaoka University of Technology, 1999 [16] Mario Birkholz Thin film analysis by x-ray scattering Wiley – VCH Verlag GmbH & Co KGaA, Weinheim 2006 [17] B.D.Cullity and S.R.Stock Elements of X–ray Diffraction, third edition University of Notre Dame, 2004 [18] Viktor Hauk Structural and residual stress analysis by nondestructive method Elsevier, 1997 [19] Ismail C.Noyan and Jerome B.Cohen Residual stress – Measurement by diffraction and interpretation Springer – Verlag New York Inc, 1987 [20] Y.Kobayashi, J.Nagasawa Affect of heat treatment on residual stress profile of pulse-plated crack-free Cr layer International Centre for Diffraction Data, 2002 [21] Wulf Pfeiffer, Christof Koplin, E.Reisacher, J.Wenzel Residual stress and Strength of Hard Chromium Coating Material Science Forum Vol.681 pp 133-138, Trans Tech Publication Switzerland, 2011 [22] Bal Seal Engineering Chrome Plating – A guide for Selecting the type of Chrome Plating for use in Contact with BAL SEAL in rotary and Reciprocating service Technical report TR–14(Rev.F) [23] Nikolaj Ganev and Ivo Kraus Engineering application of x-ray stress analysis Advances in x-ray analysis, vol.44 – International Centre for Diffraction Data, 2001 [24] Masahide Gotoh Affect of the residual stress on the mechanical strength of the thin films Graduate school, Kanazawa University Japan, 2002 71 [25] L.S.Suominen X–ray study of residual stress in thin Chromium Metallization on glass substrates American Stress Technologies, Inc – International Centre for Diffraction Data, 1997 [26] Horonori Nishihata, Shin–ichi Ohya and Yasuo Yoshioka Measurement of actual stresses during fatigue process Musashi Institute of Technology, Setagaya Tokyo 158, Japan [27] I.C.Noyan and C.C.Goldsmith Origins of oscillation in d vs Sin2ψ plots measured from tungsten thin films IBM T.J Watson Research Center, Yorktown Hieghts, NY 10598 [28] Le Chi Cuong Computation on standard deviation and variation in phrasal quantitative determination using X-ray diffraction The university of technical and education of Hochiminh City, Vietnam 72 S K L 0 ... THÀNH PHỐ HỒ CHÍ MINH LUẬN VĂN THẠC SĨ ĐẶNG THANH LINH NGHIÊN CỨU X? ?C ĐỊNH TRẠNG THÁI MỎI CỦA LỚP TĂNG BỀN BỀ MẶT TRONG QUÁ TRÌNH LÀM VIỆC BẰNG PHƯƠNG PHÁP NHIỄU X? ?? X- QUANG NGÀNH: KỸ THUẬT CƠ KHÍ... iii LỜI CẢM ƠN Luận văn tốt nghiệp ? ?Nghiên cứu x? ?c định trạng thái mỏi lớp tăng bền bề mặt trình làm việc phương pháp nhiễu x? ?? X – quang? ?? hoàn thành sau hai năm học tập nghiên cứu Trường Đại học... dựa vào lý thuyết nhiễu x? ?? x? ?? lý số liệu nhiễu x? ?? để x? ?c định độ biến dạng màng mỏng Crơm 4.T 4.Tíính đề tài Thiết lập, x? ?c định mối liên hệ bề rộng B đỉnh nhiễu x? ?? với số chu kỳ mỏi uốn Từ giúp

Ngày đăng: 06/12/2021, 21:31

Xem thêm:

HÌNH ẢNH LIÊN QUAN

h jσ -1j/σ –l0 - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
h jσ -1j/σ –l0 (Trang 15)
Từ bảng số liệu ta thấy, khi kích thước hạt tăng lên 70 lần thì giới hạn bền mỏi giảm đi hơn 3 lần. - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
b ảng số liệu ta thấy, khi kích thước hạt tăng lên 70 lần thì giới hạn bền mỏi giảm đi hơn 3 lần (Trang 15)
Trị số ασ và ατ phụ thuộc vào hình dạng kích thước chỗ chuyển tiếp (Bán kính - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
r ị số ασ và ατ phụ thuộc vào hình dạng kích thước chỗ chuyển tiếp (Bán kính (Trang 17)
và trên bề mặt mẫu tiếp tục diễn ra quá trình (a), (b), (c) như giai đoạ nI để hình thành vết nứt mỏi có chiều dài xác định - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
v à trên bề mặt mẫu tiếp tục diễn ra quá trình (a), (b), (c) như giai đoạ nI để hình thành vết nứt mỏi có chiều dài xác định (Trang 19)
các yếu tố hình học. - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
c ác yếu tố hình học (Trang 25)
Lớp mạ điện có cấu tạo tinh thể. Kích thước, hình dáng hạt tinh thể phụ thuộc nhiều vào thành phần và điều kiện điện phân - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
p mạ điện có cấu tạo tinh thể. Kích thước, hình dáng hạt tinh thể phụ thuộc nhiều vào thành phần và điều kiện điện phân (Trang 26)
d. d. d. C CC Cấ ấấ ấu u ttttạ uu ạạ ạo o oo llllớ ớp ớ ớp pp m mm mạ ạạ đđ điiiiệệệện n - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
d. d. d. C CC Cấ ấấ ấu u ttttạ uu ạạ ạo o oo llllớ ớp ớ ớp pp m mm mạ ạạ đđ điiiiệệệện n (Trang 26)
Thuyết Muller cho rằng, trong khoảng không gian sát catot có hình thành hợp chất Cr(OH)4và bị khử theo quá trình: - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
huy ết Muller cho rằng, trong khoảng không gian sát catot có hình thành hợp chất Cr(OH)4và bị khử theo quá trình: (Trang 29)
Nền là tấm kim loại dầy có nhiều lỗ khoan thủng hình nón cụt, chêm kín các lỗ này bằng các chốt (cùng loại vật liệu với nền) có đầu hình nón cụt, sao cho mặt dưới của nền khi mạ xong tất cả các nền và chốt đều có lớp mạ phủ kín thành một mặt phẳng đồng nh - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
n là tấm kim loại dầy có nhiều lỗ khoan thủng hình nón cụt, chêm kín các lỗ này bằng các chốt (cùng loại vật liệu với nền) có đầu hình nón cụt, sao cho mặt dưới của nền khi mạ xong tất cả các nền và chốt đều có lớp mạ phủ kín thành một mặt phẳng đồng nh (Trang 32)
− Mô hình máy thí nghiệm mỏi uốn đa năng tại phòng thí nghiệm Reme – - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
h ình máy thí nghiệm mỏi uốn đa năng tại phòng thí nghiệm Reme – (Trang 46)
3.1.2. M MM Mẫ ẫẫ ẫu uu th th th thíííí nghi nghi nghi nghiệệệệm m mm ch ch ch chếếếế ttttạ ạo ạạ oo ob bb bằ ằằ ằng ngth ng ngth th théééép p pp C45 C45 C45 C45 - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
3.1.2. M MM Mẫ ẫẫ ẫu uu th th th thíííí nghi nghi nghi nghiệệệệm m mm ch ch ch chếếếế ttttạ ạo ạạ oo ob bb bằ ằằ ằng ngth ng ngth th théééép p pp C45 C45 C45 C45 (Trang 47)
Từ mô hình máy tạo mỏi đa năng và nguyên lý mỏi uốn, mẫu thí nghiệm đề xuất thiết kế, chế tạo như sau: - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
m ô hình máy tạo mỏi đa năng và nguyên lý mỏi uốn, mẫu thí nghiệm đề xuất thiết kế, chế tạo như sau: (Trang 47)
được thể hiệ nở bảng sau: - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
c thể hiệ nở bảng sau: (Trang 57)
� Tra bảng tp(f) với p= 0.05, f= n0 −1 =3 −1 = 2; ta được tp(2) = 4.30 < t0, t1. - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
ra bảng tp(f) với p= 0.05, f= n0 −1 =3 −1 = 2; ta được tp(2) = 4.30 < t0, t1 (Trang 58)
� Kiểm tra sự tương thích của mô hình toán với thực nghiệm được thực hiện theo - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
i ểm tra sự tương thích của mô hình toán với thực nghiệm được thực hiện theo (Trang 59)
Sau khi đưa mẫu vào máy, ta thiết lập cấu hình đo trên X'Pert Collection Data với góc quét, bước quét, thời gian quét thích hợp sao cho đủ thông tin thống kê để phân tích cấu trúc - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
au khi đưa mẫu vào máy, ta thiết lập cấu hình đo trên X'Pert Collection Data với góc quét, bước quét, thời gian quét thích hợp sao cho đủ thông tin thống kê để phân tích cấu trúc (Trang 63)
4.2. Nhi Nhi Nhi Nhiễễễễu ux xạ x xạ ạạ tia tia tia tia X 4.2.1. - (Luận văn thạc sĩ) nghiên cứu xác định trạng thái mỏi của lớp tăng bền bề mặt trong quá trình làm việc bằng phương pháp nhiễu xạ x quang
4.2. Nhi Nhi Nhi Nhiễễễễu ux xạ x xạ ạạ tia tia tia tia X 4.2.1 (Trang 63)

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

  • Đang cập nhật ...

TÀI LIỆU LIÊN QUAN