1. Trang chủ
  2. » Ngoại Ngữ

Electrical Properties of Nb-Doped TiO2 Thin Films Deposited by Co-sputtering Process

7 11 0

Đang tải... (xem toàn văn)

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Thông tin cơ bản

Định dạng
Số trang 7
Dung lượng 327,74 KB

Nội dung

Hasegawa, Fabrication of highly conductive Ti 1−x Nb x O 2 polycrystalline films on glass substrates via crystallization of amorphous phase grown by pulsed laser deposition[r]

Ngày đăng: 27/01/2021, 04:36

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

w